- •ПРЕДИСЛОВИЕ
- •ЧАСТЬ I. ВАКУУМНАЯ ЭЛЕКТРОНИКА
- •Глава 1. Эмиссионная электроника
- •1.2. Эмиссионная электроника
- •1.2.1. Термоэлектронная эмиссия
- •1.2.2. Термоэлектронная эмиссия с поверхности полупроводников
- •1.2.3. Термокатоды
- •1.2.4. Фотоэлектронная эмиссия
- •1.2.5. Вторичная электронная эмиссия
- •1.2.6. Автоэлектронная эмиссия
- •Контрольные вопросы
- •Глава 2. Движение электронов в вакууме в режиме объемного заряда. Электровакуумные приборы
- •2.1. Диоды
- •2.2. Триоды
- •2.3. Многоэлектродные лампы
- •2.4. Особенности многоэлектродных ламп различного назначения
- •2.5. Генераторные и модуляторные лампы
- •2.6. Электровакуумные приборы диапазона сверхвысоких частот
- •2.6.1. Особенности движения электронов в СВЧ полях
- •2.6.2. Клистроны – приборы с динамическим управлением электронным потоком и резонансными системами
- •2.6.3. Лампы бегущей и обратной волны (ЛБВ и ЛОВ)
- •2.6.4. Лампы со скрещенными полями
- •2.6.5. Усилитель на ЛБВ типа М
- •2.6.6. Генератор на ЛОВ типа М замкнутой конструкции (карсинотрон)
- •2.6.7. Магнетроны
- •2.6.8. Статический режим работы магнетрона
- •2.6.9. Динамический режим работы магнетрона
- •Контрольные вопросы
- •Глава 3. Электронная оптика. Электронно-лучевые приборы
- •3.1. Электронные линзы
- •3.2. Электростатические линзы
- •3.2.1. Диафрагма с круглым отверстием
- •3.2.2. Иммерсионная линза
- •3.2.3. Одиночная линза
- •3.2.4. Иммерсионный объектив
- •3.3. Магнитные линзы
- •3.4. Аберрации электронных линз
- •3.5. Электронно-оптические системы (ЭОС) электронно-лучевых приборов
- •3.6. Отклоняющие системы
- •3.6.1. Электростатическое отклонение электронных пучков
- •3.6.2. Магнитное отклонение электронных пучков
- •3.7. Некоторые особенности электронной оптики интенсивных пучков
- •3.8. Приемные электронно-лучевые трубки
- •3.9. Проекционные ЭЛТ и системы
- •3.10. Запоминающие электронно-лучевые трубки
- •3.11. Передающие электронно-лучевые трубки
- •Контрольные вопросы
- •ЧАСТЬ II. ГАЗОРАЗРЯДНАЯ ЭЛЕКТРОНИКА
- •Глава 4. Элементарные процессы в плазме
- •4.1. Введение
- •4.2. Упругие соударения электронов с атомами и молекулами газа
- •4.3. Неупругие соударения электронов с атомами и молекулами
- •4.3.1. Возбуждение
- •4.3.2. Ионизация
- •4.3.3. Ступенчатые процессы при возбуждении и ионизации молекул электронным ударом
- •4.3.4. Образование и разрушение отрицательных ионов
- •4.3.5. Диссоциация молекул
- •4.3.6. Рекомбинация
- •4.4. Движение электронов и ионов в газе
- •4.4.1. Дрейфовое движение электронов и ионов
- •4.4.2. Диффузия заряженных частиц в условиях разряда
- •Контрольные вопросы
- •Глава 5. Основные виды электрического разряда в газе
- •5.1. Классификация разрядов
- •5.2. Несамостоятельный газовый разряд
- •5.3. Условие развития самостоятельного разряда. Пробой разрядного промежутка
- •5.3.1. Тлеющий разряд
- •5.3.2. Количественная теория катодной области тлеющего разряда
- •5.3.3. Дуговой разряд
- •5.3.4. Искровой разряд
- •5.3.5. Коронный разряд
- •5.3.6. Высокочастотные разряды
- •5.3.7. Разряды на сверхвысоких частотах
- •Контрольные вопросы
- •Глава 6. Газоразрядная плазма
- •6.1. Основные понятия
- •6.2. Диагностика плазмы
- •6.2.1. Метод зондов Лангмюра
- •6.2.2. Оптические методы исследования плазмы
- •6.2.3. Сверхвысокочастотные методы диагностики плазмы
- •6.3. Теории газоразрядной плазмы
- •Контрольные вопросы
- •Глава 7. Газоразрядные приборы
- •7.1. Приборы тлеющего разряда
- •7.1.1. Световые индикаторы
- •7.1.2. Стабилитроны тлеющего разряда
- •7.1.3. Вентили (газотроны) тлеющего разряда
- •7.1.4. Тиратроны тлеющего разряда
- •7.1.5. Переключаемые световые индикаторы
- •7.2.1. Газоразрядные источники света
- •7.3. Ионизационные камеры и счетчики излучений
- •7.3.1. Ионизационные камеры
- •7.3.2. Пропорциональные счетчики
- •7.3.3. Счетчики Гейгера
- •7.4. Разрядники антенных переключателей
- •7.5. Газоразрядные индикаторные панели
- •7.6. Газоразрядные знаковые индикаторы (монодисплеи)
- •7.6.1. ГИП постоянного тока
- •7.6.2. ГИП переменного тока
- •7.6.3. Получение полутоновых изображений на ГИП
- •Контрольные вопросы
- •ЧАСТЬ III. ТВЕРДОТЕЛЬНАЯ ЭЛЕКТРОНИКА
- •8.1. Концентрация носителей заряда в полупроводниках
- •8.2. Электропроводность полупроводников
- •8.3. Диффузионное движение носителей заряда в полупроводниках
- •8.4. Неравновесные носители заряда в полупроводниках
- •8.5. Поверхностные явления в полупроводниках
- •Контрольные вопросы
- •Глава 9. Электрические переходы
- •9.1. Структура и основные параметры n-p перехода
- •9.2. Равновесное состояние n-p перехода
- •9.3. Неравновесное состояние n-p перехода. Явления инжекции и экстракции носителей заряда
- •9.4. ВАХ идеализированного перехода
- •9.5. ВАХ реального n-p перехода
- •9.7. Емкостные свойства n-p перехода
- •9.8. Контакт металл-полупроводник
- •9.9. Гетеропереходы
- •Контрольные вопросы
- •Глава 10. Полупроводниковые диоды
- •10.1. Выпрямительные диоды
- •10.2. Высокочастотные и сверхвысокочастотные диоды
- •10.3. Импульсные диоды
- •10.4. Стабилитроны
- •10.5. Полупроводниковые управляемые емкости (варикапы)
- •10.6. Туннельные и обращенные диоды
- •10.7. Диоды Шотки
- •10.8. Диоды Ганна
- •10.9. Лавинно-пролетные диоды
- •Контрольные вопросы
- •Глава 11. Биполярные транзисторы
- •11.1. Классификация биполярных транзисторов
- •11.2. Физические процессы в транзисторе
- •11.3. Распределение токов в транзисторе
- •11.4. Эффект модуляции ширины базы
- •11.5. Статические вольтамперные характеристики биполярного транзистора
- •11.6. Частотные характеристики биполярного транзистора
- •Контрольные вопросы
- •Глава 12. Тиристоры
- •12.1. Классификация тиристоров
- •12.2. Распределение токов в тиристоре
- •12.3. Особенности работы управляемых тиристоров
- •12.4. Тиристор с симметричной ВАХ
- •Контрольные вопросы
- •Глава 13. Униполярные полупроводниковые приборы
- •13.1. Классификация и основные особенности
- •13.2. Полевые транзисторы с изолированным затвором (МДП-транзисторы)
- •13.4. Дифференциальные параметры МДП-транзистора
- •13.5. Принцип работы полевого транзистора с управляющим n-p переходом
- •13.6. Частотные характеристики МДП-танзисторов
- •13.7. Сравнительная характеристика МДП и биполярного транзистора
- •13.8. Биполярный транзистор с изолированным затвором (IGBT)
- •Контрольные вопросы
- •Глава 14. Светоизлучающие и фотоэлектронные полупроводниковые приборы
- •14.1. Светоизлучающие полупроводниковые приборы
- •14.1.1. Светодиоды
- •14.2. Фотоэлектронные полупроводниковые приборы
- •14.2.1. Поглощение оптического излучения полупроводниками
- •14.2.2. Фоторезистивный эффект и приборы на его основе
- •14.2.3. Фотоэлектрический эффект в n-р переходе
- •14.2.4. Фототранзисторы и фототиристоры
- •14.2.5. Оптоэлектронные пары
- •Контрольные вопросы
- •Глава 15. Полупроводниковые датчики
- •15.1. Датчики температуры
- •15.2. Датчики деформации
- •15.3. Датчики магнитного поля
- •Контрольные вопросы
- •Глава 16. Основы квантовой электроники
- •16.2. Физические основы взаимодействия излучения с веществом
- •16.2.1. Форма и ширина спектральной линии
- •16.3. Устройство и принципы работы лазеров
- •16.3.1. Рабочее вещество
- •16.3.2. Создание инверсии
- •16.3.3. Условия создания инверсной населенности
- •16.3.4. Двухуровневая система
- •16.3.5. Трехуровневые системы
- •16.3.6. Четырехуровневая система
- •16.3.7. Оптические резонаторы
- •16.3.8. Условия самовозбуждения и насыщения усиления
- •16.4. Свойства лазерного излучения
- •16.4.1. Монохроматичность
- •16.4.2. Когерентность
- •16.4.3. Поляризация излучения
- •16.4.4. Направленность и возможность фокусирования излучения
- •16.4.5. Яркость и мощность излучения
- •16.5. Типы лазеров
- •16.5.1. Твердотельные лазеры
- •16.5.2. Рубиновый лазер
- •16.5.3. Неодимовый стеклянный лазер
- •16.5.4. Nd – ИАГ – лазеры
- •16.5.5. Газовые лазеры
- •16.5.6. Атомные лазеры
- •16.5.7. Лазеры на парах металлов
- •16.5.8. Ионные лазеры
- •16.5.9. Молекулярные лазеры
- •16.5.10. Эксимерные лазеры
- •16.5.11. Газовые лазеры в инфракрасной области спектра
- •16.5.12. Химические лазеры
- •16.5.13. Газодинамические лазеры
- •16.5.14. Электроионизационные лазеры
- •16.5.15. Полупроводниковые лазеры
- •16.5.16. Жидкостные лазеры
- •Контрольные вопросы
- •Глава 17. Основы оптоэлектроники
- •17.1. Этапы и перспективы развития оптической электроники
- •17.2. Источники излучения для оптоэлектроники
- •17.3. Фотоэлектронные приемники излучения
- •17.4. Модуляция лазерного излучения
- •17.4.1. Физические основы модуляции лазерного излучения
- •17.4.2. Оптические модуляторы
- •17.4.3. Дефлекторы
- •17.5.1. Элементная база ВОЛС
- •17.5.2. Классификация ВОЛС
- •17.6. Оптические методы запоминания и хранения информации. Оптические (лазерные) диски
- •17.7. Голографические системы хранения и обработки информации
- •17.7.1. Принцип голографии
- •17.7.2. Голографическое запоминающее устройство
- •17.7.3. Голографические схемы записи и считывания информации
- •17.8. Системы отображения информации
- •17.8.1. Особенности зрительного восприятия информации
- •17.8.2. Физические эффекты, используемые для отображения информации
- •17.8.3. Жидкокристаллические индикаторы
- •17.8.4. Жидкокристаллические индикаторные панели
- •17.9. Электролюминесцентные индикаторы
- •17.10. Дисплеи с полевой (автоэлектронной) эмиссией
- •17.11. Отражающие дисплеи (электронная бумага)
- •17.12. Системы отображения информации на основе полупроводниковых светодиодов
- •Контрольные вопросы
- •ЧАСТЬ V. ФУНКЦИОНАЛЬНАЯ, МИКРО И НАНОЭЛЕКТРОНИКА
- •Глава 18. Предмет микроэлектроники
- •18.1. Основные термины и определения
- •18.2. Классификация ИМС
- •18.2.1. Плёночные ИМС
- •18.2.2. Гибридные ИС
- •18.2.3. Полупроводниковые ИМС
- •18.2.4. Совмещенные ИМС
- •18.3. Система обозначений ИМС
- •Контрольные вопросы
- •Глава 19. Биполярные структуры в микроэлектронике
- •19.1. Транзисторы с изоляцией на основе n-p перехода
- •19.2. Транзисторы с диэлектрической изоляцией
- •19.3. Транзисторы с комбинированной изоляцией
- •19.4. Транзисторы типа p–n–p
- •19.5. Многоэмиттерные транзисторы
- •19.6. Многоколлекторные транзисторы
- •19.7. Транзисторы с диодом Шотки
- •19.8. Интегральные диоды и стабилитроны
- •Контрольные вопросы
- •Глава 20. Униполярные структуры в микроэлектронике
- •20.1.1. МДП–транзистор с алюминиевым затвором
- •20.1.3. Конструкция Д–МДП–транзисторов
- •20.1.4. Комплементарные микроэлектронные структуры
- •20.2.1. Пороговое напряжение
- •20.2.2. Вольт-амперные характеристики
- •20.4. Принцип действия МЕП-транзистора
- •20.5. Элементы полупроводниковых постоянных запоминающих устройств (ПЗУ)
- •20.5.1. МНОП-транзистор
- •20.5.3. Двухзатворный МДП–транзистор
- •Контрольные вопросы
- •Глава 21. Микроэлектроника субмикронных СБИС
- •21.2. Методы улучшения характеристик субмикронных МДП-транзисторов
- •21.2.1. Ореол
- •21.2.2. Ретроградное распределение
- •21.2.3. Подзатворный диэлектрик
- •21.2.4. Области стока и истока
- •21.2.5. Напряженный кремний
- •21.3. Субмикронные МДП-транзисторы на диэлектрических подложках
- •21.3.1. Структуры «кремний на изоляторе»
- •21.3.2. Cтруктура «кремний ни на чём»
- •21.4.1. Транзисторы с двойным и с окольцовывающим затвором
- •21.4.2. Транзисторы с вертикальным каналом
- •21.5. Особенности субмикронных транзисторов для аналоговых применений
- •Контрольные вопросы
- •Глава 22. Гетероструктуры в микроэлектронике
- •22.1. Основные свойства гетероперехода
- •22.1.1. Сверхинжекция неравновесных носителей заряда в гетеропереходе
- •22.1.2. Понятие о двухмерном электронном газе
- •22.2. Гетероструктурные полевые транзисторы
- •22.2.1. Транзистор с высокой подвижностью электронов (НЕМТ)
- •22.2.2. Псевдоморфные и метаморфные структуры (р-НЕМТ и m-НЕМТ)
- •22.2.3. НЕМТ на подложках из GaN
- •22.3. Гетеропереходные биполярные транзисторы
- •22.4. Интегральные микросхемы на гетеропереходных полевых транзисторах
- •Контрольные вопросы
- •Глава 23. Пассивные элементы ИМС
- •23.1. Полупроводниковые резисторы
- •23.2. Плёночные резисторы
- •23.3. Конденсаторы и индуктивные элементы
- •23.4. Коммутационные соединения
- •23.4.1. Задержка распространения сигнала
- •23.4.2. Электороимграция
- •Контрольные вопросы
- •Глава 24. Функциональная электроника
- •24.1. Пьезоэлектроника
- •24.2. Оптоэлектроника
- •24.3. Акустоэлектроника
- •24.4. Магнитоэлектроника
- •24.5. Криоэлектроника
- •24.6. Хемотроника
- •24.7. Молекулярная и биоэлектроника
- •24.8. Приборы с зарядовой связью
- •24.9. Диэлектрическя электроника
- •24.10. Приборы на основе аморфных материалов
- •Глава 25. ОСНОВЫ НАНОЭЛЕКТРОНИКИ
- •25.1. Квантовые основы наноэлектроники
- •25.1.1. Квантовое ограничение
- •25.1.2. Интерференционные эффекты
- •25.1.3. Туннелирование
- •25.3. Квантовые транзисторы
- •25.4. Нанотрубки в электронике
- •25.5. Графеновые транзисторы (спинтроника)
- •25.6. Молекулярная электроника
- •25.6.1. Квантовые компьютеры
- •25.7. Заключение
- •Список рекомендуемой литературы
- •CПРАВОЧНЫЙ РАЗДЕЛ
- •Содержание
I = кФn. |
(14.8) |
Рабочая область выбирается в диапазоне условий, при которых n = 1 (сравнительное небольшое отношение фотопроводимости к тепловой). Вольт-амперные характеристики фотосопротивлений линейны в широком диапазоне условий. Отклонения наблюдаются только при малых или очень больших напряжениях.
Оптимальная толщина фоточувствительного слоя обычно близка обратной величине коэффициента поглощения света. Последний составляет 105 – 106 см–1 для собственного и около 103 см–1 для примесного поглощения.
К преимуществам фоторезисторов следует отнести относительную простоту и дешевизну изготовления, широкий диапазон номиналов сопротивлений,
возможность формирования фоточувствительных элементов сложной конфигурации. Основные недостатки – значительная инерционность, температурная и временная нестабильность параметров, сравнительно большой темновой ток.
14.2.3. Фотоэлектрический эффект в n-р переходе
При освещении области перехода светом, энергия кванта которого достаточна для образования электронно-дырочной пары, через n-p переход начинает протекать фототок (если цепь перехода замкнута) или возникает фото-ЭДС (если цепь перехода разомкнута).
Качественно фотоэлектрический эффект в n-p переходе объясняется следующими причинами. Пусть n-p переход находится в равновесии, т.е. к нему не приложена внешняя разность потенциалов. Вследствие оптического возбуждения в n и p областях возникает избыточная (неравновесная) концентрация носителей заряда. Поскольку в области объемного заряда концентрация носителей меньше, чем в нейтральных n и p областях, то возникающий градиент концентрации вызывает диффузию электронно- дырочных пар к границе перехода. Так как поле контактной разности
потенциалов является ускоряющим по отношению к неосновным носителям заряда и тормозящим по отношению к основным, то первые способны пересечь границу перехода, а вторые локализуются полем объемного заряда в своих областях. Электрический ток неосновных носителей, преодолевших границу перехода, составляет полный фототок. Электронно-дырочные пары, генерируемые на расстоянии от перехода, большем, чем диффузионная длина, успевают рекомбинировать, не достигнув перехода, и поэтому не вносят вклада в фототок. Отсюда следует, что фототок создается лишь теми носителями заряда, которые генерируются светом в слоях толщиной Ln и Lp, примыкающих к границе перехода.
На рис. 14.8 показаны ВАХ n-p перехода в отсутствии освещения (Ф – световой поток) и при воздействии света на переход.
Если цепь перехода разомкнута (режим холостого хода), то генерация
неравновесных носителей приводит к накоплению отрицательного заряда в
243
n-области и положительного в р-области. Этот заряд создает некоторую фото-ЭДС jхх, которая может быть определена из (8.12) полагая j = 0:
æ |
j™ |
ö |
|
|
ç |
÷ |
(14.9) |
||
|
||||
jxx = jT lnç |
js |
+1÷ . |
||
è |
ø |
|
В случае, если n-p переход замкнут накоротко, то при не очень сильных токах можно полагать, что падение напряжения в объеме n- и p- областей отсутствует, а ток короткого замыкания равен фототоку jкз = jф. В промежуточном случае, когда в цепь перехода включен резистор с сопротивлением R, ток через переход и напряжение на нем определяются уравнением (14.13):
æ |
jR + |
ö |
|
ϕR |
|
|
|
ç |
jФ ÷ |
|
|
|
|||
jR = jT lnç |
|
|
÷ |
, jR = - |
|
. |
(14.10) |
jS |
|
R |
|||||
è |
ø |
|
|
|
I
Ф=0 |
U |
Ф1 Ф2 Ф3
Рис. 14.8. Вольт – амперная характеристика освещаемого n-p перехода
Такой режим работы перехода получил название режима вентильного фотоэлемента.
Еще одним возможным режимом работы перехода в условиях внешнего освещения является фотодиодный режим, при котором к переходу прикладывается внешнее обратное напряжение, а изменение параметров источника освещения (Ф, λ) позволяет регулировать величину обратного тока.
Характерные значения коэффициента поглощения лежат в диапазоне 104 – 106 см–1 и, следовательно, толщина слоя, в котором осуществляется генерация неравновесных носителей заряда, составляет 0,01 – 1 мкм. Поэтому можно полагать, что генерация носит не объемный, а
244
поверхностный характер и на величину фототока будет оказывать существенное влияние поверхностная рекомбинация.
Приборы, работающие в режиме генерации фото-ЭДС, находят широкое
применение в системах контроля и управления с использованием световых потоков. При этом рабочей величиной является либо ток короткого замыкания, либо напряжение холостого хода.
Весьма интересной областью использования таких приборов является преобразование световой энергии в электрическую (солнечные элементы).
Важнейшими параметрами солнечного преобразователя являются выходная мощность, коэффициент полезного действия и интервал рабочих температур.
Выходная мощность определяется током короткого замыкания и напряжением холостого хода. КПД зависит от коэффициента поглощения света, ширины запрещенной зоны полупроводника и других параметров. В
полупроводниках с малой шириной запрещенной зоны полнее используется большая часть спектра излучения Солнца, но напряжение холостого хода и интервал рабочих температур невелики. В широкозонных полупроводниках можно получить малые обратные тепловые токи и высокие значения Uхx, но при малом КПД.
Результаты расчета зависимости КПД и выходной мощности от ширины запрещенной зоны приведены на рис. 14.9. Для повышения КПД прибора на
фронтальную поверхность наносят просветляющее покрытие из монооксида кремния или оксида титана.
Рис. 14.9. Влияние ширины запрещенной зоны на КПД и выходную мощность
солнечных элементов на основе кремния и арсенида галлия
Основным материалом солнечных элементов в настоящее время является кремний. КПД реальных преобразователей на его основе уже приближается к 20%. Особенно перспективны солнечные элементы на
245
аморфном кремнии, исследованию которого посвящено большое количество работ.
Простейший фотодиод представляет собой n-р переход, на который подано обратное напряжение, и ток через структуру является функцией интенсивности света. На рис. 14.10 показаны важнейшие эксплуатационные характеристики фотодиода. Световые характеристики фотодиодов линейны в широком диапазоне условий, что выгодно отличает их от фоторезисторов. Темновое сопротивление фотодиода может быть больше, чем у фоторезистора, поскольку оно определяется обратным током n-р перехода, имеющим, особенно для кремния, малую величину.
Спектральная характеристика фотодиодов имеет максимум.
Длинноволновая граница спектральной чувствительности определяется шириной запрещенной зоны полупроводника, а коротковолновая зависит от
ширины базы и скорости поверхностной рекомбинации и может быть расширена за счет конструкционно-технологических решений. Параметры фотодиодов зависят от эффективности генерации и разделения зарядов, а также от возможности усиления фототока непосредственно в приборе.
Рис. 14.10. Характеристики фотодиода: а – вольт-амперная, б – световая, в – спектральная, г – частотная
ВАХ фотодиода показаны на рис. 14.10, а. Характеристика при Ф = 0 – это собственная ветвь ВАХ диода. С увеличением светового потока при U = const наблюдается линейное возрастание общего тока за счет увеличения вклада jф. Повышение обратного напряжения при Ф = const сопровождается
246
некоторым ростом общего тока за счет увеличения равновесной составляющей при уменьшении ширины базы.
Световые характеристики (рис. 14.10, б) линейны. Увеличение фототока с ростом обратного напряжения при Ф = const также может быть объяснено уменьшением ширины базы.
Спектральные характеристики кремниевого (1) и германиевого (2) фотодиодов приведены на рис. 14.10, в. Как видно, германиевые приборы
чувствительны к облучению в значительно более широком диапазоне спектра.
Частотные характеристики (рис. 14.10, г) характеризуют реакцию прибора на модулированный по яркости световой поток. Время исчезновения избыточных носителей после выключения света, а также время нарастания фототока после включения источника освещения определяются, в основном,
характерным временем диффузии неравновесных носителей из объема базы к границе перехода. Этими процессами и определяются частотные свойства фотодиодов.
Одним из важнейших параметров фотодиода является чувствительность (S), которая характеризует степень влияния светового потока на изменение обратного тока диода:
S = |
I |
. |
(14.14) |
|
|||
|
Ф |
|
Обычные планарные фотодиоды обладают сравнительно малой чувствительностью. Этого недостатка лишены инжекционные фотодиоды, разработанные в последние годы.
Рассмотренный выше простейший фотодиод работает на сплавном или диффузионном n-р переходе. Существуют также диоды на многослойных структурах (р-i-n), гетероструктурах, поверхностно-барьерных структурах (диоды Шотки), с лавинным умножением фототока и др.
Рассмотрим некоторые из этих диодов подробней.
Для увеличения чувствительности фотодиода может быть использован эффект лавинного умножения носителей в области объемного заряда n- р перехода (лавинный фотодиод). При напряжении, близком к пробойному, происходит лавинное умножение носителей заряда. Коэффициент умножения
Мсоставляет 103 – 104 для кремния и 300 – 400 для германия.
Кнедостаткам лавинных диодов относятся зависимость коэффициента умножения от фототока и жесткие требования к стабильности питающего напряжения (0,01 – 0,02%), так как М сильно зависит от напряжения.
Высокое быстродействие достигается в фотодиодах с р-i-n структурой, в
которых поглощение света осуществляется в области с собственной проводимостью, а создаваемое в ней электрическое поле обеспечивает
высокую эффективность собирания зарядов. Аналогичные эффекты достигаются в р+-n-р структурах и фотодиодах на основе гетеропереходов.
Высоким быстродействием и высокой (в ряде случаев избирательной) чувствительностью обладают фотодиоды на основе барьера Шотки. В таком
247