- •ПРЕДИСЛОВИЕ
- •ЧАСТЬ I. ВАКУУМНАЯ ЭЛЕКТРОНИКА
- •Глава 1. Эмиссионная электроника
- •1.2. Эмиссионная электроника
- •1.2.1. Термоэлектронная эмиссия
- •1.2.2. Термоэлектронная эмиссия с поверхности полупроводников
- •1.2.3. Термокатоды
- •1.2.4. Фотоэлектронная эмиссия
- •1.2.5. Вторичная электронная эмиссия
- •1.2.6. Автоэлектронная эмиссия
- •Контрольные вопросы
- •Глава 2. Движение электронов в вакууме в режиме объемного заряда. Электровакуумные приборы
- •2.1. Диоды
- •2.2. Триоды
- •2.3. Многоэлектродные лампы
- •2.4. Особенности многоэлектродных ламп различного назначения
- •2.5. Генераторные и модуляторные лампы
- •2.6. Электровакуумные приборы диапазона сверхвысоких частот
- •2.6.1. Особенности движения электронов в СВЧ полях
- •2.6.2. Клистроны – приборы с динамическим управлением электронным потоком и резонансными системами
- •2.6.3. Лампы бегущей и обратной волны (ЛБВ и ЛОВ)
- •2.6.4. Лампы со скрещенными полями
- •2.6.5. Усилитель на ЛБВ типа М
- •2.6.6. Генератор на ЛОВ типа М замкнутой конструкции (карсинотрон)
- •2.6.7. Магнетроны
- •2.6.8. Статический режим работы магнетрона
- •2.6.9. Динамический режим работы магнетрона
- •Контрольные вопросы
- •Глава 3. Электронная оптика. Электронно-лучевые приборы
- •3.1. Электронные линзы
- •3.2. Электростатические линзы
- •3.2.1. Диафрагма с круглым отверстием
- •3.2.2. Иммерсионная линза
- •3.2.3. Одиночная линза
- •3.2.4. Иммерсионный объектив
- •3.3. Магнитные линзы
- •3.4. Аберрации электронных линз
- •3.5. Электронно-оптические системы (ЭОС) электронно-лучевых приборов
- •3.6. Отклоняющие системы
- •3.6.1. Электростатическое отклонение электронных пучков
- •3.6.2. Магнитное отклонение электронных пучков
- •3.7. Некоторые особенности электронной оптики интенсивных пучков
- •3.8. Приемные электронно-лучевые трубки
- •3.9. Проекционные ЭЛТ и системы
- •3.10. Запоминающие электронно-лучевые трубки
- •3.11. Передающие электронно-лучевые трубки
- •Контрольные вопросы
- •ЧАСТЬ II. ГАЗОРАЗРЯДНАЯ ЭЛЕКТРОНИКА
- •Глава 4. Элементарные процессы в плазме
- •4.1. Введение
- •4.2. Упругие соударения электронов с атомами и молекулами газа
- •4.3. Неупругие соударения электронов с атомами и молекулами
- •4.3.1. Возбуждение
- •4.3.2. Ионизация
- •4.3.3. Ступенчатые процессы при возбуждении и ионизации молекул электронным ударом
- •4.3.4. Образование и разрушение отрицательных ионов
- •4.3.5. Диссоциация молекул
- •4.3.6. Рекомбинация
- •4.4. Движение электронов и ионов в газе
- •4.4.1. Дрейфовое движение электронов и ионов
- •4.4.2. Диффузия заряженных частиц в условиях разряда
- •Контрольные вопросы
- •Глава 5. Основные виды электрического разряда в газе
- •5.1. Классификация разрядов
- •5.2. Несамостоятельный газовый разряд
- •5.3. Условие развития самостоятельного разряда. Пробой разрядного промежутка
- •5.3.1. Тлеющий разряд
- •5.3.2. Количественная теория катодной области тлеющего разряда
- •5.3.3. Дуговой разряд
- •5.3.4. Искровой разряд
- •5.3.5. Коронный разряд
- •5.3.6. Высокочастотные разряды
- •5.3.7. Разряды на сверхвысоких частотах
- •Контрольные вопросы
- •Глава 6. Газоразрядная плазма
- •6.1. Основные понятия
- •6.2. Диагностика плазмы
- •6.2.1. Метод зондов Лангмюра
- •6.2.2. Оптические методы исследования плазмы
- •6.2.3. Сверхвысокочастотные методы диагностики плазмы
- •6.3. Теории газоразрядной плазмы
- •Контрольные вопросы
- •Глава 7. Газоразрядные приборы
- •7.1. Приборы тлеющего разряда
- •7.1.1. Световые индикаторы
- •7.1.2. Стабилитроны тлеющего разряда
- •7.1.3. Вентили (газотроны) тлеющего разряда
- •7.1.4. Тиратроны тлеющего разряда
- •7.1.5. Переключаемые световые индикаторы
- •7.2.1. Газоразрядные источники света
- •7.3. Ионизационные камеры и счетчики излучений
- •7.3.1. Ионизационные камеры
- •7.3.2. Пропорциональные счетчики
- •7.3.3. Счетчики Гейгера
- •7.4. Разрядники антенных переключателей
- •7.5. Газоразрядные индикаторные панели
- •7.6. Газоразрядные знаковые индикаторы (монодисплеи)
- •7.6.1. ГИП постоянного тока
- •7.6.2. ГИП переменного тока
- •7.6.3. Получение полутоновых изображений на ГИП
- •Контрольные вопросы
- •ЧАСТЬ III. ТВЕРДОТЕЛЬНАЯ ЭЛЕКТРОНИКА
- •8.1. Концентрация носителей заряда в полупроводниках
- •8.2. Электропроводность полупроводников
- •8.3. Диффузионное движение носителей заряда в полупроводниках
- •8.4. Неравновесные носители заряда в полупроводниках
- •8.5. Поверхностные явления в полупроводниках
- •Контрольные вопросы
- •Глава 9. Электрические переходы
- •9.1. Структура и основные параметры n-p перехода
- •9.2. Равновесное состояние n-p перехода
- •9.3. Неравновесное состояние n-p перехода. Явления инжекции и экстракции носителей заряда
- •9.4. ВАХ идеализированного перехода
- •9.5. ВАХ реального n-p перехода
- •9.7. Емкостные свойства n-p перехода
- •9.8. Контакт металл-полупроводник
- •9.9. Гетеропереходы
- •Контрольные вопросы
- •Глава 10. Полупроводниковые диоды
- •10.1. Выпрямительные диоды
- •10.2. Высокочастотные и сверхвысокочастотные диоды
- •10.3. Импульсные диоды
- •10.4. Стабилитроны
- •10.5. Полупроводниковые управляемые емкости (варикапы)
- •10.6. Туннельные и обращенные диоды
- •10.7. Диоды Шотки
- •10.8. Диоды Ганна
- •10.9. Лавинно-пролетные диоды
- •Контрольные вопросы
- •Глава 11. Биполярные транзисторы
- •11.1. Классификация биполярных транзисторов
- •11.2. Физические процессы в транзисторе
- •11.3. Распределение токов в транзисторе
- •11.4. Эффект модуляции ширины базы
- •11.5. Статические вольтамперные характеристики биполярного транзистора
- •11.6. Частотные характеристики биполярного транзистора
- •Контрольные вопросы
- •Глава 12. Тиристоры
- •12.1. Классификация тиристоров
- •12.2. Распределение токов в тиристоре
- •12.3. Особенности работы управляемых тиристоров
- •12.4. Тиристор с симметричной ВАХ
- •Контрольные вопросы
- •Глава 13. Униполярные полупроводниковые приборы
- •13.1. Классификация и основные особенности
- •13.2. Полевые транзисторы с изолированным затвором (МДП-транзисторы)
- •13.4. Дифференциальные параметры МДП-транзистора
- •13.5. Принцип работы полевого транзистора с управляющим n-p переходом
- •13.6. Частотные характеристики МДП-танзисторов
- •13.7. Сравнительная характеристика МДП и биполярного транзистора
- •13.8. Биполярный транзистор с изолированным затвором (IGBT)
- •Контрольные вопросы
- •Глава 14. Светоизлучающие и фотоэлектронные полупроводниковые приборы
- •14.1. Светоизлучающие полупроводниковые приборы
- •14.1.1. Светодиоды
- •14.2. Фотоэлектронные полупроводниковые приборы
- •14.2.1. Поглощение оптического излучения полупроводниками
- •14.2.2. Фоторезистивный эффект и приборы на его основе
- •14.2.3. Фотоэлектрический эффект в n-р переходе
- •14.2.4. Фототранзисторы и фототиристоры
- •14.2.5. Оптоэлектронные пары
- •Контрольные вопросы
- •Глава 15. Полупроводниковые датчики
- •15.1. Датчики температуры
- •15.2. Датчики деформации
- •15.3. Датчики магнитного поля
- •Контрольные вопросы
- •Глава 16. Основы квантовой электроники
- •16.2. Физические основы взаимодействия излучения с веществом
- •16.2.1. Форма и ширина спектральной линии
- •16.3. Устройство и принципы работы лазеров
- •16.3.1. Рабочее вещество
- •16.3.2. Создание инверсии
- •16.3.3. Условия создания инверсной населенности
- •16.3.4. Двухуровневая система
- •16.3.5. Трехуровневые системы
- •16.3.6. Четырехуровневая система
- •16.3.7. Оптические резонаторы
- •16.3.8. Условия самовозбуждения и насыщения усиления
- •16.4. Свойства лазерного излучения
- •16.4.1. Монохроматичность
- •16.4.2. Когерентность
- •16.4.3. Поляризация излучения
- •16.4.4. Направленность и возможность фокусирования излучения
- •16.4.5. Яркость и мощность излучения
- •16.5. Типы лазеров
- •16.5.1. Твердотельные лазеры
- •16.5.2. Рубиновый лазер
- •16.5.3. Неодимовый стеклянный лазер
- •16.5.4. Nd – ИАГ – лазеры
- •16.5.5. Газовые лазеры
- •16.5.6. Атомные лазеры
- •16.5.7. Лазеры на парах металлов
- •16.5.8. Ионные лазеры
- •16.5.9. Молекулярные лазеры
- •16.5.10. Эксимерные лазеры
- •16.5.11. Газовые лазеры в инфракрасной области спектра
- •16.5.12. Химические лазеры
- •16.5.13. Газодинамические лазеры
- •16.5.14. Электроионизационные лазеры
- •16.5.15. Полупроводниковые лазеры
- •16.5.16. Жидкостные лазеры
- •Контрольные вопросы
- •Глава 17. Основы оптоэлектроники
- •17.1. Этапы и перспективы развития оптической электроники
- •17.2. Источники излучения для оптоэлектроники
- •17.3. Фотоэлектронные приемники излучения
- •17.4. Модуляция лазерного излучения
- •17.4.1. Физические основы модуляции лазерного излучения
- •17.4.2. Оптические модуляторы
- •17.4.3. Дефлекторы
- •17.5.1. Элементная база ВОЛС
- •17.5.2. Классификация ВОЛС
- •17.6. Оптические методы запоминания и хранения информации. Оптические (лазерные) диски
- •17.7. Голографические системы хранения и обработки информации
- •17.7.1. Принцип голографии
- •17.7.2. Голографическое запоминающее устройство
- •17.7.3. Голографические схемы записи и считывания информации
- •17.8. Системы отображения информации
- •17.8.1. Особенности зрительного восприятия информации
- •17.8.2. Физические эффекты, используемые для отображения информации
- •17.8.3. Жидкокристаллические индикаторы
- •17.8.4. Жидкокристаллические индикаторные панели
- •17.9. Электролюминесцентные индикаторы
- •17.10. Дисплеи с полевой (автоэлектронной) эмиссией
- •17.11. Отражающие дисплеи (электронная бумага)
- •17.12. Системы отображения информации на основе полупроводниковых светодиодов
- •Контрольные вопросы
- •ЧАСТЬ V. ФУНКЦИОНАЛЬНАЯ, МИКРО И НАНОЭЛЕКТРОНИКА
- •Глава 18. Предмет микроэлектроники
- •18.1. Основные термины и определения
- •18.2. Классификация ИМС
- •18.2.1. Плёночные ИМС
- •18.2.2. Гибридные ИС
- •18.2.3. Полупроводниковые ИМС
- •18.2.4. Совмещенные ИМС
- •18.3. Система обозначений ИМС
- •Контрольные вопросы
- •Глава 19. Биполярные структуры в микроэлектронике
- •19.1. Транзисторы с изоляцией на основе n-p перехода
- •19.2. Транзисторы с диэлектрической изоляцией
- •19.3. Транзисторы с комбинированной изоляцией
- •19.4. Транзисторы типа p–n–p
- •19.5. Многоэмиттерные транзисторы
- •19.6. Многоколлекторные транзисторы
- •19.7. Транзисторы с диодом Шотки
- •19.8. Интегральные диоды и стабилитроны
- •Контрольные вопросы
- •Глава 20. Униполярные структуры в микроэлектронике
- •20.1.1. МДП–транзистор с алюминиевым затвором
- •20.1.3. Конструкция Д–МДП–транзисторов
- •20.1.4. Комплементарные микроэлектронные структуры
- •20.2.1. Пороговое напряжение
- •20.2.2. Вольт-амперные характеристики
- •20.4. Принцип действия МЕП-транзистора
- •20.5. Элементы полупроводниковых постоянных запоминающих устройств (ПЗУ)
- •20.5.1. МНОП-транзистор
- •20.5.3. Двухзатворный МДП–транзистор
- •Контрольные вопросы
- •Глава 21. Микроэлектроника субмикронных СБИС
- •21.2. Методы улучшения характеристик субмикронных МДП-транзисторов
- •21.2.1. Ореол
- •21.2.2. Ретроградное распределение
- •21.2.3. Подзатворный диэлектрик
- •21.2.4. Области стока и истока
- •21.2.5. Напряженный кремний
- •21.3. Субмикронные МДП-транзисторы на диэлектрических подложках
- •21.3.1. Структуры «кремний на изоляторе»
- •21.3.2. Cтруктура «кремний ни на чём»
- •21.4.1. Транзисторы с двойным и с окольцовывающим затвором
- •21.4.2. Транзисторы с вертикальным каналом
- •21.5. Особенности субмикронных транзисторов для аналоговых применений
- •Контрольные вопросы
- •Глава 22. Гетероструктуры в микроэлектронике
- •22.1. Основные свойства гетероперехода
- •22.1.1. Сверхинжекция неравновесных носителей заряда в гетеропереходе
- •22.1.2. Понятие о двухмерном электронном газе
- •22.2. Гетероструктурные полевые транзисторы
- •22.2.1. Транзистор с высокой подвижностью электронов (НЕМТ)
- •22.2.2. Псевдоморфные и метаморфные структуры (р-НЕМТ и m-НЕМТ)
- •22.2.3. НЕМТ на подложках из GaN
- •22.3. Гетеропереходные биполярные транзисторы
- •22.4. Интегральные микросхемы на гетеропереходных полевых транзисторах
- •Контрольные вопросы
- •Глава 23. Пассивные элементы ИМС
- •23.1. Полупроводниковые резисторы
- •23.2. Плёночные резисторы
- •23.3. Конденсаторы и индуктивные элементы
- •23.4. Коммутационные соединения
- •23.4.1. Задержка распространения сигнала
- •23.4.2. Электороимграция
- •Контрольные вопросы
- •Глава 24. Функциональная электроника
- •24.1. Пьезоэлектроника
- •24.2. Оптоэлектроника
- •24.3. Акустоэлектроника
- •24.4. Магнитоэлектроника
- •24.5. Криоэлектроника
- •24.6. Хемотроника
- •24.7. Молекулярная и биоэлектроника
- •24.8. Приборы с зарядовой связью
- •24.9. Диэлектрическя электроника
- •24.10. Приборы на основе аморфных материалов
- •Глава 25. ОСНОВЫ НАНОЭЛЕКТРОНИКИ
- •25.1. Квантовые основы наноэлектроники
- •25.1.1. Квантовое ограничение
- •25.1.2. Интерференционные эффекты
- •25.1.3. Туннелирование
- •25.3. Квантовые транзисторы
- •25.4. Нанотрубки в электронике
- •25.5. Графеновые транзисторы (спинтроника)
- •25.6. Молекулярная электроника
- •25.6.1. Квантовые компьютеры
- •25.7. Заключение
- •Список рекомендуемой литературы
- •CПРАВОЧНЫЙ РАЗДЕЛ
- •Содержание
|
Содержание |
|
ЧАСТЬ I. ВАКУУМНАЯ ЭЛЕКТРОНИКА.................................................................... |
4 |
|
Глава |
1. Эмиссионная электроника.................................................................................. |
4 |
1.1. Электрон и его свойства. Электроны в твердом теле......................................... |
4 |
|
1.2. Эмиссионная электроника...................................................................................... |
6 |
|
1.2.1. Термоэлектронная эмиссия ............................................................................. |
6 |
|
1.2.2. Термоэлектронная эмиссия с поверхности полупроводников................... |
10 |
|
1.2.3. Термокатоды ................................................................................................... |
10 |
|
1.2.4. Фотоэлектронная эмиссия ............................................................................. |
12 |
|
1.2.5. Вторичная электронная эмиссия................................................................... |
14 |
|
1.2.6. Автоэлектронная эмиссия ............................................................................. |
17 |
|
1.2.7. Экзоэлектронная эмиссия.............................................................................. |
19 |
|
Глава |
2. Движение электронов в вакууме в режиме объемного заряда. |
|
|
Электровакуумные приборы ........................................................................... |
21 |
2.1. Диоды ..................................................................................................................... |
21 |
|
2.2. Триоды ................................................................................................................... |
24 |
|
2.3. Многоэлектродные лампы ................................................................................... |
25 |
|
2.4. Особенности многоэлектродных ламп различного назначения....................... |
27 |
|
2.5. Генераторные и модуляторные лампы................................................................ |
28 |
|
2.6. Электровакуумные приборы диапазона сверхвысоких частот......................... |
29 |
|
2.6.1. Особенности движения электронов в СВЧ полях....................................... |
29 |
|
2.6.2. Клистроны – приборы с динамическим управлением электронным |
|
|
|
потоком и резонансными системами.......................................................... |
31 |
2.6.3. Лампы бегущей и обратной волны (ЛБВ и ЛОВ) ....................................... |
33 |
|
2.6.4. Лампы со скрещенными полями................................................................... |
35 |
|
2.6.5. Усилитель на ЛБВ типа М............................................................................. |
35 |
|
2.6.6. Генератор на ЛОВ типа М замкнутой конструкции (карсинотрон).......... |
36 |
|
2.6.7. Магнетроны .................................................................................................... |
37 |
|
2.6.8. Статический режим работы магнетрона ...................................................... |
38 |
|
2.6.9. Динамический режим работы магнетрона................................................... |
39 |
|
Глава 3. Электронная оптика. Электронно-лучевые приборы .................................... |
45 |
|
3.1. Электронные линзы .............................................................................................. |
46 |
|
3.2. Электростатические линзы .................................................................................. |
47 |
|
3.2.1. Диафрагма с круглым отверстием ................................................................ |
47 |
|
3.2.2. Иммерсионная линза...................................................................................... |
48 |
|
3.2.3. Одиночная линза ............................................................................................ |
49 |
|
3.2.4. Иммерсионный объектив............................................................................... |
50 |
|
3.3. Магнитные линзы ................................................................................................. |
51 |
|
3.4. Аберрации электронных линз.............................................................................. |
53 |
|
3.5. Электронно-оптические системы (ЭОС) электронно-лучевых приборов....... |
53 |
|
3.6. Отклоняющие системы......................................................................................... |
56 |
|
3.6.1. Электростатическое отклонение электронных пучков............................... |
57 |
|
3.6.2. Магнитное отклонение электронных пучков .............................................. |
59 |
|
3.7. Некоторые особенности электронной оптики интенсивных пучков ............... |
60 |
|
3.8. Приемные электронно-лучевые трубки .............................................................. |
61 |
|
3.9. Проекционные ЭЛТ и системы............................................................................ |
65 |
487
3.10. Запоминающие электронно-лучевые трубки.................................................... |
66 |
3.11. Передающие электронно-лучевые трубки........................................................ |
68 |
3.12. Электронно-оптические преобразователи........................................................ |
70 |
ЧАСТЬ II. ГАЗОРАЗРЯДНАЯ ЭЛЕКТРОНИКА ......................................................... |
75 |
Глава 4. Элементарные процессы в плазме................................................................... |
75 |
4.1. Введение ................................................................................................................ |
75 |
4.2. Упругие соударения электронов с атомами и молекулами газа....................... |
77 |
4.3. Неупругие соударения электронов с атомами и молекулами........................... |
78 |
4.3.1. Возбуждение ................................................................................................... |
78 |
4.3.2. Ионизация ....................................................................................................... |
80 |
4.3.3. Ступенчатые процессы при возбуждении и ионизации молекул |
|
электронным ударом .................................................................................... |
82 |
4.3.4. Образование и разрушение отрицательных ионов ..................................... |
83 |
4.3.5. Диссоциация молекул .................................................................................... |
84 |
4.3.6. Рекомбинация ................................................................................................. |
84 |
4.4. Движение электронов и ионов в газе .................................................................. |
86 |
4.4.1. Дрейфовое движение электронов и ионов................................................... |
86 |
4.4.2. Диффузия заряженных частиц в условиях разряда..................................... |
87 |
Глава 5. Основные виды электрического разряда в газе ............................................. |
89 |
5.1. Классификация разрядов...................................................................................... |
89 |
5.2. Несамостоятельный газовый разряд ................................................................... |
89 |
5.3. Условие развития самостоятельного разряда. |
|
Пробой разрядного промежутка.......................................................................... |
91 |
5.3.1. Тлеющий разряд ............................................................................................. |
93 |
5.3.2. Количественная теория катодной области тлеющего разряда .................. |
95 |
5.3.3. Дуговой разряд ............................................................................................... |
98 |
5.3.4. Искровой разряд ........................................................................................... |
101 |
5.3.5. Коронный разряд.......................................................................................... |
103 |
5.3.6. Высокочастотные разряды .......................................................................... |
104 |
5.3.7. Разряды на сверхвысоких частотах ............................................................ |
106 |
Глава 6. Газоразрядная плазма ..................................................................................... |
109 |
6.1. Основные понятия .............................................................................................. |
109 |
6.2. Диагностика плазмы ........................................................................................... |
110 |
6.2.1. Метод зондов Лангмюра.............................................................................. |
110 |
6.2.2. Оптические методы исследования плазмы................................................ |
114 |
6.2.3. Сверхвысокочастотные методы диагностики плазмы.............................. |
115 |
6.3. Теории газоразрядной плазмы........................................................................... |
116 |
6.4. Особенности теории плазмы низкого и высокого давления........................... |
118 |
Глава 7. Газоразрядные приборы ................................................................................. |
120 |
7.1. Приборы тлеющего разряда............................................................................... |
120 |
7.1.1. Световые индикаторы.................................................................................. |
120 |
7.1.2. Стабилитроны тлеющего разряда............................................................... |
120 |
7.1.3. Вентили (газотроны) тлеющего разряда.................................................... |
121 |
7.1.4. Тиратроны тлеющего разряда..................................................................... |
121 |
7.1.5. Переключаемые световые индикаторы...................................................... |
122 |
7.1.6. Многоканальные счетные и коммутирующие приборы (декатроны) ..... |
122 |
7.2. Газоразрядные приборы, |
|
основанные на использовании излучения плазмы .......................................... |
122 |
488
7.2.1. Газоразрядные источники света ................................................................. |
122 |
|
7.3. Ионизационные камеры и счетчики излучений............................................... |
123 |
|
7.3.1. Ионизационные камеры............................................................................... |
124 |
|
7.3.2. Пропорциональные счетчики...................................................................... |
124 |
|
7.3.3. Счетчики Гейгера ......................................................................................... |
125 |
|
7.4. Разрядники антенных переключателей............................................................. |
126 |
|
7.5. Газоразрядные индикаторные панели............................................................... |
128 |
|
7.6. Газоразрядные знаковые индикаторы (монодисплеи) .................................... |
128 |
|
7.6.1. ГИП постоянного тока................................................................................. |
129 |
|
7.6.2. ГИП переменного тока................................................................................. |
132 |
|
7.6.3. Получение полутоновых изображений на ГИП ........................................ |
134 |
|
ЧАСТЬ III. ТВЕРДОТЕЛЬНАЯ ЭЛЕКТРОНИКА ..................................................... |
140 |
|
Глава |
8. Физические основы полупроводниковых приборов.................................... |
140 |
8.1. |
Концентрация носителей заряда в полупроводниках...................................... |
141 |
8.2. |
Электропроводность полупроводников............................................................ |
145 |
8.3. |
Диффузионное движение носителей заряда в полупроводниках................... |
148 |
8.4. |
Неравновесные носители заряда в полупроводниках ..................................... |
150 |
8.5. |
Поверхностные явления в полупроводниках ................................................... |
153 |
Глава |
9. Электрические переходы................................................................................ |
157 |
9.1. Структура и основные параметры n-p перехода .............................................. |
157 |
|
9.2. Равновесное состояние n-p перехода ................................................................ |
158 |
|
9.3. Неравновесное состояние n-p перехода. |
|
|
|
Явления инжекции и экстракции носителей заряда........................................ |
163 |
9.4. ВАХ идеализированного перехода ................................................................... |
165 |
|
9.5. ВАХ реального n-p перехода ............................................................................. |
166 |
|
9.6. Механизмы пробоя n-р перехода....................................................................... |
168 |
|
9.7. Емкостные свойства n-p перехода..................................................................... |
170 |
|
9.8. Контакт металл-полупроводник ........................................................................ |
170 |
|
9.9. Гетеропереходы................................................................................................... |
173 |
|
Глава 10. Полупроводниковые диоды ......................................................................... |
178 |
|
10.1. Выпрямительные диоды................................................................................... |
179 |
|
10.2. Высокочастотные и сверхвысокочастотные диоды ...................................... |
181 |
|
10.3. Импульсные диоды ........................................................................................... |
182 |
|
10.4. Стабилитроны.................................................................................................... |
183 |
|
10.5. Полупроводниковые управляемые емкости (варикапы)............................... |
185 |
|
10.6. Туннельные и обращенные диоды .................................................................. |
186 |
|
10.7. Диоды Шотки .................................................................................................... |
189 |
|
10.8. Диоды Ганна...................................................................................................... |
191 |
|
10.9. Лавинно-пролетные диоды .............................................................................. |
193 |
|
Глава 11. Биполярные транзисторы............................................................................. |
196 |
|
11.1. Классификация биполярных транзисторов .................................................... |
196 |
|
11.2. Физические процессы в транзисторе .............................................................. |
198 |
|
11.3. Распределение токов в транзисторе ................................................................ |
200 |
|
11.4. Эффект модуляции ширины базы ................................................................... |
203 |
|
11.5. Статические вольтамперные характеристики |
|
|
|
биполярного транзистора................................................................................. |
204 |
11.6. Частотные характеристики биполярного транзистора.................................. |
206 |
|
Глава 12. Тиристоры...................................................................................................... |
209 |
489
12.1. Классификация тиристоров ............................................................................. |
209 |
12.2. Распределение токов в тиристоре.................................................................... |
210 |
12.3. Особенности работы управляемых тиристоров............................................. |
215 |
12.4. Тиристор с симметричной ВАХ ...................................................................... |
216 |
Глава 13. Униполярные полупроводниковые приборы ............................................. |
218 |
13.1. Классификация и основные особенности....................................................... |
218 |
13.2. Полевые транзисторы с изолированным затвором (МДП-транзисторы).... |
219 |
13.3. Статические характеристики МДП-транзистора ........................................... |
221 |
13.4. Дифференциальные параметры МДП-транзистора....................................... |
222 |
13.5. Принцип работы полевого транзистора с управляющим n-p переходом.... |
223 |
13.6. Частотные характеристики МДП-танзисторов .............................................. |
225 |
13.7. Сравнительная характеристика МДП и биполярного транзистора ............. |
226 |
13.8. Биполярный транзистор с изолированным затвором (IGBT)....................... |
227 |
Глава 14. Светоизлучающие и фотоэлектронные полупроводниковые приборы... |
233 |
14.1. Светоизлучающие полупроводниковые приборы ......................................... |
233 |
14.1.1. Светодиоды................................................................................................. |
233 |
14.1.2. Полупроводниковые лазеры на n-р переходе.......................................... |
237 |
14.2. Фотоэлектронные полупроводниковые приборы .......................................... |
239 |
14.2.1. Поглощение оптического излучения полупроводниками ...................... |
239 |
14.2.2. Фоторезистивный эффект и приборы на его основе............................... |
241 |
14.2.3. Фотоэлектрический эффект в n-р переходе............................................. |
243 |
14.2.4. Фототранзисторы и фототиристоры......................................................... |
248 |
14.2.5. Оптоэлектронные пары.............................................................................. |
250 |
Глава 15. Полупроводниковые датчики ...................................................................... |
252 |
15.1. Датчики температуры ....................................................................................... |
252 |
15.2. Датчики деформации ........................................................................................ |
257 |
15.3. Датчики магнитного поля ................................................................................ |
259 |
ЧАСТЬ IV. ОПТИЧЕСКАЯ И КВАНТОВАЯ ЭЛЕКТРОНИКА .............................. |
267 |
Глава 16. Основы квантовой электроники .................................................................. |
267 |
16.1. Этапы и перспективы развития квантовой электроники .............................. |
267 |
16.2. Физические основы взаимодействия излучения с веществом...................... |
269 |
16.2.1. Форма и ширина спектральной линии ..................................................... |
272 |
16.3. Устройство и принципы работы лазеров........................................................ |
275 |
16.3.1. Рабочее вещество ....................................................................................... |
276 |
16.3.2. Создание инверсии..................................................................................... |
276 |
16.3.3. Условия создания инверсной населенности............................................ |
277 |
16.3.4. Двухуровневая система.............................................................................. |
277 |
16.3.5. Трехуровневые системы ............................................................................ |
278 |
16.3.6. Четырехуровневая система........................................................................ |
280 |
16.3.7. Оптические резонаторы............................................................................. |
281 |
16.3.8. Условия самовозбуждения и насыщения усиления................................ |
285 |
16.3.9. Импульсная генерация, модуляция добротности и |
|
синхронизация мод..................................................................................... |
287 |
16.4. Свойства лазерного излучения ........................................................................ |
289 |
16.4.1. Монохроматичность................................................................................... |
289 |
16.4.2. Когерентность............................................................................................. |
291 |
16.4.3. Поляризация излучения............................................................................. |
293 |
16.4.4. Направленность и возможность фокусирования излучения.................. |
294 |
490
16.4.5. Яркость и мощность излучения ................................................................ |
295 |
16.5. Типы лазеров ..................................................................................................... |
295 |
16.5.1. Твердотельные лазеры............................................................................... |
296 |
16.5.2. Рубиновый лазер......................................................................................... |
297 |
16.5.3. Неодимовый стеклянный лазер ................................................................ |
297 |
16.5.4. Nd – ИАГ – лазеры ..................................................................................... |
298 |
16.5.5. Газовые лазеры ........................................................................................... |
298 |
16.5.6. Атомные лазеры ......................................................................................... |
300 |
16.5.7. Лазеры на парах металлов ......................................................................... |
301 |
16.5.8. Ионные лазеры ........................................................................................... |
301 |
16.5.9. Молекулярные лазеры ............................................................................... |
301 |
16.5.10. Эксимерные лазеры.................................................................................. |
302 |
16.5.11. Газовые лазеры в инфракрасной области спектра ................................ |
304 |
16.5.12. Химические лазеры.................................................................................. |
305 |
16.5.13. Газодинамические лазеры ....................................................................... |
305 |
16.5.14. Электроионизационные лазеры .............................................................. |
307 |
16.5.15. Полупроводниковые лазеры.................................................................... |
307 |
16.5.16. Жидкостные лазеры ................................................................................. |
309 |
Глава 17. Основы оптоэлектроники............................................................................. |
314 |
17.1. Этапы и перспективы развития оптической электроники ........................... |
314 |
17.2. Источники излучения для оптоэлектроники .................................................. |
316 |
17.3. Фотоэлектронные приемники излучения ....................................................... |
317 |
17.4. Модуляция лазерного излучения..................................................................... |
317 |
17.4.1. Физические основы модуляции лазерного излучения............................ |
318 |
17.4.2. Оптические модуляторы............................................................................ |
319 |
17.4.3. Дефлекторы................................................................................................. |
321 |
17.5. Волоконно-оптические линии связи (ВОЛС)................................................. |
322 |
17.5.1. Элементная база ВОЛС ............................................................................. |
324 |
17.5.2. Классификация ВОЛС ............................................................................... |
328 |
17.6. Оптические методы запоминания и хранения информации. |
|
Оптические (лазерные) диски.......................................................................... |
330 |
17.7. Голографические системы хранения и обработки информации .................. |
333 |
17.7.1. Принцип голографии ................................................................................. |
333 |
17.7.2. Голографическое запоминающее устройство.......................................... |
334 |
17.7.3. Голографические схемы записи и считывания информации................. |
335 |
17.8. Системы отображения информации ............................................................... |
336 |
17.8.1. Особенности зрительного восприятия информации .............................. |
336 |
17.8.2. Физические эффекты, используемые для отображения информации... |
339 |
17.8.3. Жидкокристаллические индикаторы........................................................ |
341 |
17.8.4. Жидкокристаллические индикаторные панели....................................... |
346 |
17.9. Электролюминесцентные индикаторы ........................................................... |
351 |
17.10. Дисплеи с полевой (автоэлектронной) эмиссией......................................... |
354 |
17.11. Отражающие дисплеи (электронная бумага) ............................................... |
356 |
17.12. Системы отображения информации на основе полупроводниковых |
|
светодиодов ......................................................................................................... |
360 |
ЧАСТЬ V. ФУНКЦИОНАЛЬНАЯ, МИКРО И НАНОЭЛЕКТРОНИКА ................. |
367 |
Глава 18. Предмет микроэлектроники......................................................................... |
367 |
18.1. Основные термины и определения ................................................................. |
367 |
491
18.2. Классификация ИМС........................................................................................ |
368 |
18.2.1. Плёночные ИМС ........................................................................................ |
369 |
18.2.2. Гибридные ИС ............................................................................................ |
370 |
18.2.3. Полупроводниковые ИМС ........................................................................ |
370 |
18.2.4. Совмещенные ИМС ................................................................................... |
372 |
18.3. Система обозначений ИМС ............................................................................. |
373 |
Глава 19. Биполярные структуры в микроэлектронике ............................................. |
375 |
19.1. Транзисторы с изоляцией на основе n-p перехода ........................................ |
376 |
19.2. Транзисторы с диэлектрической изоляцией................................................... |
380 |
19.3. Транзисторы с комбинированной изоляцией................................................. |
381 |
19.4. Транзисторы типа p–n–p................................................................................... |
382 |
19.5. Многоэмиттерные транзисторы ...................................................................... |
384 |
19.6. Многоколлекторные транзисторы................................................................... |
386 |
19.7. Транзисторы с диодом Шотки......................................................................... |
387 |
19.8. Интегральные диоды и стабилитроны............................................................ |
389 |
Глава 20. Униполярные структуры в микроэлектронике........................................... |
393 |
20.1. МДП–транзисторы ИМС средней степени интеграции................................ |
393 |
20.1.1. МДП–транзистор с алюминиевым затвором........................................... |
393 |
20.1.2. МДП–транзистор с поликремниевым затвором...................................... |
394 |
20.1.3. Конструкция Д–МДП–транзисторов........................................................ |
395 |
20.1.4. Комплементарные микроэлектронные структуры .................................. |
396 |
20.1.5. МДП–транзисторы на диэлектрической подложке ................................ |
397 |
20.2. Параметры и характеристики МДП-транзисторов с коротким каналом..... |
398 |
20.2.1. Пороговое напряжение .............................................................................. |
399 |
20.2.2. Вольт-амперные характеристики.............................................................. |
400 |
20.3. Полевые транзисторы с управляющим переходом |
|
металл–полупроводник .................................................................................... |
401 |
20.4. Принцип действия МЕП-транзистора............................................................. |
403 |
20.5. Элементы полупроводниковых |
|
постоянных запоминающих устройств (ПЗУ) ................................................ |
407 |
20.5.1. МНОП-транзистор ..................................................................................... |
407 |
20.5.2. МДП-транзистор с плавающим затвором................................................ |
409 |
20.5.3. Двухзатворный МДП–транзистор ............................................................ |
410 |
Глава 21. Микроэлектроника субмикронных СБИС.................................................. |
412 |
21.1. Субмикронные МДП-транзисторы на полупроводниковых подложках..... |
413 |
21.2. Методы улучшения характеристик субмикронных МДП-транзисторов..... |
414 |
21.2.1. Ореол ........................................................................................................... |
415 |
21.2.2. Ретроградное распределение..................................................................... |
416 |
21.2.3. Подзатворный диэлектрик......................................................................... |
416 |
21.2.4. Области стока и истока.............................................................................. |
417 |
21.2.5. Напряженный кремний.............................................................................. |
418 |
21.3. Субмикронные МДП-транзисторы на диэлектрических подложках........... |
419 |
21.3.1. Структуры «кремний на изоляторе»......................................................... |
419 |
21.3.2. Cтруктура «кремний ни на чём» ............................................................... |
420 |
21.4. Перспективные конструкции субмикронных МДП-транзисторов .............. |
421 |
21.4.1. Транзисторы с двойным и с окольцовывающим затвором .................... |
421 |
21.4.2. Транзисторы с вертикальным каналом .................................................... |
423 |
492
21.5. Особенности субмикронных транзисторов для |
|
аналоговых применений................................................................................... |
423 |
Глава 22. Гетероструктуры в микроэлектронике........................................................ |
425 |
22.1. Основные свойства гетероперехода................................................................ |
425 |
22.1.1. Сверхинжекция неравновесных носителей |
|
заряда в гетеропереходе............................................................................ |
426 |
22.1.2. Понятие о двухмерном электронном газе................................................ |
427 |
22.2. Гетероструктурные полевые транзисторы...................................................... |
428 |
22.2.1. Транзистор с высокой подвижностью электронов (НЕМТ) .................. |
428 |
22.2.2. Псевдоморфные и метаморфные структуры |
|
(р-НЕМТ и m-НЕМТ)................................................................................ |
430 |
22.2.3. НЕМТ на подложках из GaN..................................................................... |
432 |
22.3. Гетеропереходные биполярные транзисторы ................................................ |
433 |
22.4. Интегральные микросхемы на гетеропереходных |
|
полевых транзисторах ...................................................................................... |
434 |
Глава 23. Пассивные элементы ИМС .......................................................................... |
438 |
23.1. Полупроводниковые резисторы ...................................................................... |
438 |
23.2. Плёночные резисторы ...................................................................................... |
440 |
23.3. Конденсаторы и индуктивные элементы........................................................ |
442 |
23.4. Коммутационные соединения.......................................................................... |
444 |
23.4.1. Задержка распространения сигнала.......................................................... |
444 |
23.4.2. Электороимграция...................................................................................... |
446 |
Глава 24. Функциональная электроника...................................................................... |
449 |
24.1. Пьезоэлектроника ............................................................................................. |
449 |
24.2. Оптоэлектроника............................................................................................... |
451 |
24.3. Акустоэлектроника ........................................................................................... |
452 |
24.4. Магнитоэлектроника......................................................................................... |
454 |
24.5. Криоэлектроника............................................................................................... |
454 |
24.6. Хемотроника...................................................................................................... |
457 |
24.7. Молекулярная и биоэлектроника .................................................................... |
457 |
24.8. Приборы с зарядовой связью........................................................................... |
458 |
24.9. Диэлектрическя электроника........................................................................... |
460 |
24.10. Приборы на основе аморфных материалов.................................................. |
460 |
Глава 25. ОСНОВЫ НАНОЭЛЕКТРОНИКИ ............................................................. |
461 |
25.1. Квантовые основы наноэлектроники.............................................................. |
461 |
25.1.1. Квантовое ограничение.............................................................................. |
462 |
25.1.2. Интерференционные эффекты.................................................................. |
464 |
25.1.3. Туннелирование.......................................................................................... |
464 |
25.2. Одноэлектроника (одноэлектронные транзисторы) ...................................... |
466 |
25.3. Квантовые транзисторы ................................................................................... |
470 |
25.4. Нанотрубки в электронике ............................................................................... |
471 |
25.5. Графеновые транзисторы (спинтроника) ....................................................... |
473 |
25.6. Молекулярная электроника.............................................................................. |
473 |
25.6.1. Квантовые компьютеры............................................................................. |
475 |
25.7. Заключение ........................................................................................................ |
477 |
Список рекомендуемой литературы ............................................................................ |
478 |
Cправочный раздел........................................................................................................ |
480 |
Содержание .................................................................................................................... |
487 |
493
Учебное издание
Светцов Владимир Иванович Холодков Игорь Владимирович
ФИЗИЧЕСКАЯ ЭЛЕКТРОНИКА И ЭЛЕКТРОННЫЕ ПРИБОРЫ
Учебное пособие
Редактор О.В. Соловьева
Подписано в печать 20.12.2008. Формат 60х84 1/16. Бумага писчая. Усл. печ. л. 28,83. Уч.-изд. л. 32. Тираж 100 экз. Заказ
ГОУ ВПО Ивановский государственный химико-технологический университет 153000, г. Иваново, пр. Ф. Энгельса, 7.
Отпечатано в ГУП Ивановской области «Ивановский издательский дом» 153000, г. Иваново, ул. Степанова, 5.