- •ПРЕДИСЛОВИЕ
- •ЧАСТЬ I. ВАКУУМНАЯ ЭЛЕКТРОНИКА
- •Глава 1. Эмиссионная электроника
- •1.2. Эмиссионная электроника
- •1.2.1. Термоэлектронная эмиссия
- •1.2.2. Термоэлектронная эмиссия с поверхности полупроводников
- •1.2.3. Термокатоды
- •1.2.4. Фотоэлектронная эмиссия
- •1.2.5. Вторичная электронная эмиссия
- •1.2.6. Автоэлектронная эмиссия
- •Контрольные вопросы
- •Глава 2. Движение электронов в вакууме в режиме объемного заряда. Электровакуумные приборы
- •2.1. Диоды
- •2.2. Триоды
- •2.3. Многоэлектродные лампы
- •2.4. Особенности многоэлектродных ламп различного назначения
- •2.5. Генераторные и модуляторные лампы
- •2.6. Электровакуумные приборы диапазона сверхвысоких частот
- •2.6.1. Особенности движения электронов в СВЧ полях
- •2.6.2. Клистроны – приборы с динамическим управлением электронным потоком и резонансными системами
- •2.6.3. Лампы бегущей и обратной волны (ЛБВ и ЛОВ)
- •2.6.4. Лампы со скрещенными полями
- •2.6.5. Усилитель на ЛБВ типа М
- •2.6.6. Генератор на ЛОВ типа М замкнутой конструкции (карсинотрон)
- •2.6.7. Магнетроны
- •2.6.8. Статический режим работы магнетрона
- •2.6.9. Динамический режим работы магнетрона
- •Контрольные вопросы
- •Глава 3. Электронная оптика. Электронно-лучевые приборы
- •3.1. Электронные линзы
- •3.2. Электростатические линзы
- •3.2.1. Диафрагма с круглым отверстием
- •3.2.2. Иммерсионная линза
- •3.2.3. Одиночная линза
- •3.2.4. Иммерсионный объектив
- •3.3. Магнитные линзы
- •3.4. Аберрации электронных линз
- •3.5. Электронно-оптические системы (ЭОС) электронно-лучевых приборов
- •3.6. Отклоняющие системы
- •3.6.1. Электростатическое отклонение электронных пучков
- •3.6.2. Магнитное отклонение электронных пучков
- •3.7. Некоторые особенности электронной оптики интенсивных пучков
- •3.8. Приемные электронно-лучевые трубки
- •3.9. Проекционные ЭЛТ и системы
- •3.10. Запоминающие электронно-лучевые трубки
- •3.11. Передающие электронно-лучевые трубки
- •Контрольные вопросы
- •ЧАСТЬ II. ГАЗОРАЗРЯДНАЯ ЭЛЕКТРОНИКА
- •Глава 4. Элементарные процессы в плазме
- •4.1. Введение
- •4.2. Упругие соударения электронов с атомами и молекулами газа
- •4.3. Неупругие соударения электронов с атомами и молекулами
- •4.3.1. Возбуждение
- •4.3.2. Ионизация
- •4.3.3. Ступенчатые процессы при возбуждении и ионизации молекул электронным ударом
- •4.3.4. Образование и разрушение отрицательных ионов
- •4.3.5. Диссоциация молекул
- •4.3.6. Рекомбинация
- •4.4. Движение электронов и ионов в газе
- •4.4.1. Дрейфовое движение электронов и ионов
- •4.4.2. Диффузия заряженных частиц в условиях разряда
- •Контрольные вопросы
- •Глава 5. Основные виды электрического разряда в газе
- •5.1. Классификация разрядов
- •5.2. Несамостоятельный газовый разряд
- •5.3. Условие развития самостоятельного разряда. Пробой разрядного промежутка
- •5.3.1. Тлеющий разряд
- •5.3.2. Количественная теория катодной области тлеющего разряда
- •5.3.3. Дуговой разряд
- •5.3.4. Искровой разряд
- •5.3.5. Коронный разряд
- •5.3.6. Высокочастотные разряды
- •5.3.7. Разряды на сверхвысоких частотах
- •Контрольные вопросы
- •Глава 6. Газоразрядная плазма
- •6.1. Основные понятия
- •6.2. Диагностика плазмы
- •6.2.1. Метод зондов Лангмюра
- •6.2.2. Оптические методы исследования плазмы
- •6.2.3. Сверхвысокочастотные методы диагностики плазмы
- •6.3. Теории газоразрядной плазмы
- •Контрольные вопросы
- •Глава 7. Газоразрядные приборы
- •7.1. Приборы тлеющего разряда
- •7.1.1. Световые индикаторы
- •7.1.2. Стабилитроны тлеющего разряда
- •7.1.3. Вентили (газотроны) тлеющего разряда
- •7.1.4. Тиратроны тлеющего разряда
- •7.1.5. Переключаемые световые индикаторы
- •7.2.1. Газоразрядные источники света
- •7.3. Ионизационные камеры и счетчики излучений
- •7.3.1. Ионизационные камеры
- •7.3.2. Пропорциональные счетчики
- •7.3.3. Счетчики Гейгера
- •7.4. Разрядники антенных переключателей
- •7.5. Газоразрядные индикаторные панели
- •7.6. Газоразрядные знаковые индикаторы (монодисплеи)
- •7.6.1. ГИП постоянного тока
- •7.6.2. ГИП переменного тока
- •7.6.3. Получение полутоновых изображений на ГИП
- •Контрольные вопросы
- •ЧАСТЬ III. ТВЕРДОТЕЛЬНАЯ ЭЛЕКТРОНИКА
- •8.1. Концентрация носителей заряда в полупроводниках
- •8.2. Электропроводность полупроводников
- •8.3. Диффузионное движение носителей заряда в полупроводниках
- •8.4. Неравновесные носители заряда в полупроводниках
- •8.5. Поверхностные явления в полупроводниках
- •Контрольные вопросы
- •Глава 9. Электрические переходы
- •9.1. Структура и основные параметры n-p перехода
- •9.2. Равновесное состояние n-p перехода
- •9.3. Неравновесное состояние n-p перехода. Явления инжекции и экстракции носителей заряда
- •9.4. ВАХ идеализированного перехода
- •9.5. ВАХ реального n-p перехода
- •9.7. Емкостные свойства n-p перехода
- •9.8. Контакт металл-полупроводник
- •9.9. Гетеропереходы
- •Контрольные вопросы
- •Глава 10. Полупроводниковые диоды
- •10.1. Выпрямительные диоды
- •10.2. Высокочастотные и сверхвысокочастотные диоды
- •10.3. Импульсные диоды
- •10.4. Стабилитроны
- •10.5. Полупроводниковые управляемые емкости (варикапы)
- •10.6. Туннельные и обращенные диоды
- •10.7. Диоды Шотки
- •10.8. Диоды Ганна
- •10.9. Лавинно-пролетные диоды
- •Контрольные вопросы
- •Глава 11. Биполярные транзисторы
- •11.1. Классификация биполярных транзисторов
- •11.2. Физические процессы в транзисторе
- •11.3. Распределение токов в транзисторе
- •11.4. Эффект модуляции ширины базы
- •11.5. Статические вольтамперные характеристики биполярного транзистора
- •11.6. Частотные характеристики биполярного транзистора
- •Контрольные вопросы
- •Глава 12. Тиристоры
- •12.1. Классификация тиристоров
- •12.2. Распределение токов в тиристоре
- •12.3. Особенности работы управляемых тиристоров
- •12.4. Тиристор с симметричной ВАХ
- •Контрольные вопросы
- •Глава 13. Униполярные полупроводниковые приборы
- •13.1. Классификация и основные особенности
- •13.2. Полевые транзисторы с изолированным затвором (МДП-транзисторы)
- •13.4. Дифференциальные параметры МДП-транзистора
- •13.5. Принцип работы полевого транзистора с управляющим n-p переходом
- •13.6. Частотные характеристики МДП-танзисторов
- •13.7. Сравнительная характеристика МДП и биполярного транзистора
- •13.8. Биполярный транзистор с изолированным затвором (IGBT)
- •Контрольные вопросы
- •Глава 14. Светоизлучающие и фотоэлектронные полупроводниковые приборы
- •14.1. Светоизлучающие полупроводниковые приборы
- •14.1.1. Светодиоды
- •14.2. Фотоэлектронные полупроводниковые приборы
- •14.2.1. Поглощение оптического излучения полупроводниками
- •14.2.2. Фоторезистивный эффект и приборы на его основе
- •14.2.3. Фотоэлектрический эффект в n-р переходе
- •14.2.4. Фототранзисторы и фототиристоры
- •14.2.5. Оптоэлектронные пары
- •Контрольные вопросы
- •Глава 15. Полупроводниковые датчики
- •15.1. Датчики температуры
- •15.2. Датчики деформации
- •15.3. Датчики магнитного поля
- •Контрольные вопросы
- •Глава 16. Основы квантовой электроники
- •16.2. Физические основы взаимодействия излучения с веществом
- •16.2.1. Форма и ширина спектральной линии
- •16.3. Устройство и принципы работы лазеров
- •16.3.1. Рабочее вещество
- •16.3.2. Создание инверсии
- •16.3.3. Условия создания инверсной населенности
- •16.3.4. Двухуровневая система
- •16.3.5. Трехуровневые системы
- •16.3.6. Четырехуровневая система
- •16.3.7. Оптические резонаторы
- •16.3.8. Условия самовозбуждения и насыщения усиления
- •16.4. Свойства лазерного излучения
- •16.4.1. Монохроматичность
- •16.4.2. Когерентность
- •16.4.3. Поляризация излучения
- •16.4.4. Направленность и возможность фокусирования излучения
- •16.4.5. Яркость и мощность излучения
- •16.5. Типы лазеров
- •16.5.1. Твердотельные лазеры
- •16.5.2. Рубиновый лазер
- •16.5.3. Неодимовый стеклянный лазер
- •16.5.4. Nd – ИАГ – лазеры
- •16.5.5. Газовые лазеры
- •16.5.6. Атомные лазеры
- •16.5.7. Лазеры на парах металлов
- •16.5.8. Ионные лазеры
- •16.5.9. Молекулярные лазеры
- •16.5.10. Эксимерные лазеры
- •16.5.11. Газовые лазеры в инфракрасной области спектра
- •16.5.12. Химические лазеры
- •16.5.13. Газодинамические лазеры
- •16.5.14. Электроионизационные лазеры
- •16.5.15. Полупроводниковые лазеры
- •16.5.16. Жидкостные лазеры
- •Контрольные вопросы
- •Глава 17. Основы оптоэлектроники
- •17.1. Этапы и перспективы развития оптической электроники
- •17.2. Источники излучения для оптоэлектроники
- •17.3. Фотоэлектронные приемники излучения
- •17.4. Модуляция лазерного излучения
- •17.4.1. Физические основы модуляции лазерного излучения
- •17.4.2. Оптические модуляторы
- •17.4.3. Дефлекторы
- •17.5.1. Элементная база ВОЛС
- •17.5.2. Классификация ВОЛС
- •17.6. Оптические методы запоминания и хранения информации. Оптические (лазерные) диски
- •17.7. Голографические системы хранения и обработки информации
- •17.7.1. Принцип голографии
- •17.7.2. Голографическое запоминающее устройство
- •17.7.3. Голографические схемы записи и считывания информации
- •17.8. Системы отображения информации
- •17.8.1. Особенности зрительного восприятия информации
- •17.8.2. Физические эффекты, используемые для отображения информации
- •17.8.3. Жидкокристаллические индикаторы
- •17.8.4. Жидкокристаллические индикаторные панели
- •17.9. Электролюминесцентные индикаторы
- •17.10. Дисплеи с полевой (автоэлектронной) эмиссией
- •17.11. Отражающие дисплеи (электронная бумага)
- •17.12. Системы отображения информации на основе полупроводниковых светодиодов
- •Контрольные вопросы
- •ЧАСТЬ V. ФУНКЦИОНАЛЬНАЯ, МИКРО И НАНОЭЛЕКТРОНИКА
- •Глава 18. Предмет микроэлектроники
- •18.1. Основные термины и определения
- •18.2. Классификация ИМС
- •18.2.1. Плёночные ИМС
- •18.2.2. Гибридные ИС
- •18.2.3. Полупроводниковые ИМС
- •18.2.4. Совмещенные ИМС
- •18.3. Система обозначений ИМС
- •Контрольные вопросы
- •Глава 19. Биполярные структуры в микроэлектронике
- •19.1. Транзисторы с изоляцией на основе n-p перехода
- •19.2. Транзисторы с диэлектрической изоляцией
- •19.3. Транзисторы с комбинированной изоляцией
- •19.4. Транзисторы типа p–n–p
- •19.5. Многоэмиттерные транзисторы
- •19.6. Многоколлекторные транзисторы
- •19.7. Транзисторы с диодом Шотки
- •19.8. Интегральные диоды и стабилитроны
- •Контрольные вопросы
- •Глава 20. Униполярные структуры в микроэлектронике
- •20.1.1. МДП–транзистор с алюминиевым затвором
- •20.1.3. Конструкция Д–МДП–транзисторов
- •20.1.4. Комплементарные микроэлектронные структуры
- •20.2.1. Пороговое напряжение
- •20.2.2. Вольт-амперные характеристики
- •20.4. Принцип действия МЕП-транзистора
- •20.5. Элементы полупроводниковых постоянных запоминающих устройств (ПЗУ)
- •20.5.1. МНОП-транзистор
- •20.5.3. Двухзатворный МДП–транзистор
- •Контрольные вопросы
- •Глава 21. Микроэлектроника субмикронных СБИС
- •21.2. Методы улучшения характеристик субмикронных МДП-транзисторов
- •21.2.1. Ореол
- •21.2.2. Ретроградное распределение
- •21.2.3. Подзатворный диэлектрик
- •21.2.4. Области стока и истока
- •21.2.5. Напряженный кремний
- •21.3. Субмикронные МДП-транзисторы на диэлектрических подложках
- •21.3.1. Структуры «кремний на изоляторе»
- •21.3.2. Cтруктура «кремний ни на чём»
- •21.4.1. Транзисторы с двойным и с окольцовывающим затвором
- •21.4.2. Транзисторы с вертикальным каналом
- •21.5. Особенности субмикронных транзисторов для аналоговых применений
- •Контрольные вопросы
- •Глава 22. Гетероструктуры в микроэлектронике
- •22.1. Основные свойства гетероперехода
- •22.1.1. Сверхинжекция неравновесных носителей заряда в гетеропереходе
- •22.1.2. Понятие о двухмерном электронном газе
- •22.2. Гетероструктурные полевые транзисторы
- •22.2.1. Транзистор с высокой подвижностью электронов (НЕМТ)
- •22.2.2. Псевдоморфные и метаморфные структуры (р-НЕМТ и m-НЕМТ)
- •22.2.3. НЕМТ на подложках из GaN
- •22.3. Гетеропереходные биполярные транзисторы
- •22.4. Интегральные микросхемы на гетеропереходных полевых транзисторах
- •Контрольные вопросы
- •Глава 23. Пассивные элементы ИМС
- •23.1. Полупроводниковые резисторы
- •23.2. Плёночные резисторы
- •23.3. Конденсаторы и индуктивные элементы
- •23.4. Коммутационные соединения
- •23.4.1. Задержка распространения сигнала
- •23.4.2. Электороимграция
- •Контрольные вопросы
- •Глава 24. Функциональная электроника
- •24.1. Пьезоэлектроника
- •24.2. Оптоэлектроника
- •24.3. Акустоэлектроника
- •24.4. Магнитоэлектроника
- •24.5. Криоэлектроника
- •24.6. Хемотроника
- •24.7. Молекулярная и биоэлектроника
- •24.8. Приборы с зарядовой связью
- •24.9. Диэлектрическя электроника
- •24.10. Приборы на основе аморфных материалов
- •Глава 25. ОСНОВЫ НАНОЭЛЕКТРОНИКИ
- •25.1. Квантовые основы наноэлектроники
- •25.1.1. Квантовое ограничение
- •25.1.2. Интерференционные эффекты
- •25.1.3. Туннелирование
- •25.3. Квантовые транзисторы
- •25.4. Нанотрубки в электронике
- •25.5. Графеновые транзисторы (спинтроника)
- •25.6. Молекулярная электроника
- •25.6.1. Квантовые компьютеры
- •25.7. Заключение
- •Список рекомендуемой литературы
- •CПРАВОЧНЫЙ РАЗДЕЛ
- •Содержание
Список рекомендуемой литературы
1.Сушков А.Д. Вакуумная электроника. Физико-технические основы. –
СПб,: Лань, 2004. – 462 с.
2.Фридрихов С.А., Мовнин С.М. Физические основы электронной техники: Учеб.для вузов. – М.: Высш. шк., 1982. – 608 с.
3.Шимони К. Физическая электроника. – М., 1989.
4.Гуртов В.А. Твердотельная электроника : Учеб. пособие для вузов. –
М.: Техносфера, 2005. – 407 с.
5.Пасынков В.В., Чиркин Л.К. Полупроводниковые приборы: учеб. для вузов. – СПб.: Лань, 2001. – 479 с.
6.Гусев В.Г., Гусев Ю.М.. Электроника и микропроцессорная техника: Учеб. для вузов. –·М.: Высш. шк., 2004. – 788 с.
7.Гальперин М.В.. Электронная техника. М.: ФОРУМ – ИНФРА, 2004. – 304 с.
8.Росадо Л. Физическая электроника и микроэлектроника. – М.: Высшая шк., 1991. – 351с.
9.Тугов Н.М., Глебов Б.А., Чарыков Н.А. Полупроводниковые приборы: Учеб. для вузов. – М.: Энергоатомиздат, 1990. – 576 с.
10.Электронные приборы: Учеб. для вузов/ Под ред. Г.Г. Шишкина. – М.: Энергоатомиздат, 1989. – 496 с.
11.Нефедов В.И. Основы радиоэлектроники. – М.: Высш. шк., 2000. – 400 с.
12.Жеребцов И.П. Основы электроники: Учеб. пособие. – Л.: Энерго-
атомиздат, 1985. – 352 с.
13.Питер Ю., Кардона Мануэль. Основы физики полупроводников. –
М.: Физматлит, 2002. – 560 с.
14.Москатов Е.А. Электронная техника.// Специальная редакция для журнала “Радио”. – Таганрог, 2004. – 121 с.
15.Аваев Н.А., Наумов Ю.Е., Фролкин В.Т. Основы микроэлектроники: Учеб. пособ. для вузов. – М.: Радио и связь, 1991. – 288 с.
16.Агаханян Т.М. Интегральные микросхемы: Учеб. пособие для вузов. – М.: Энергоатомиздат, 1983. – 464 с.
17.Красиков Г.Я. Конструктивно-технологические особенности суб- микронных МОП-транзисторов. – М. : Техносфера, 2002. – 415 с.
18.Коледов Л.А.Технология и конструкции микросхем, микропроцессоров и микросборок: Учебник для вузов. – М.: Радио и связь, 1989. – 400 с.
19.Степаненко И.П. Основы микроэлектроники: Учеб. пособие для вузов.
– М.: Лаборатория базовых знаний, 2000 – 488 с.
20.Ефимов И.Е., Козырь И.Л., Горбунов Ю.И. Микроэлектроника. –
М.: Высш. шк., 1987.
21.Викулин И.М., Стафеев В.И. Физика полупроводниковых приборов, – М, Радио и связь, 1990.
478
22.Кравченко А.Ф. Физические основы функциональной электроники: Учебное пособие. – Новосибирск: Изд-во Новосиб. ун-та, 2000.
23.Щука А.А. Функциональная электроника: Учебник для вузов: –
М.: МИРЭА, 1998.
24.Пихтин А.Н. Физические основы квантовой электроники и оптоэлектроники. – М.: Высш. шк., 1983. – 304 с.
25.Окоси Т. Оптическая электроника и связь. – М.: Мир, 1988. – 96 с.
26.Носов Ю.Р. Оптоэлектроника. – М.: Сов. радио, 1977. – 232 с.
27. Полупроводниковые фотоприемники/ Под ред. В.И. Стафеева.– М.: Радио и связь, 1984. – 216 с.
28.Дьюли У. Лазерная технология и анализ материалов. – М.: Мир, 1986. – 504 с.
29. Физические величины: Справочник/ Под ред. И.С. Григорьева, Е.З Мейлихова. – М.: Энергоатомиздат, 1991.
30.Основы оптоэлектроники/ Пер. с японского. – М.: Мир, 1988. – 284 с.
31.Светцов В.И. Вакуумная и плазменная электроника: Учеб. пособие/ Иван. гос. хим.-технол. ун-т. – Иваново, 2003. – 172 с.
479
CПРАВОЧНЫЙ РАЗДЕЛ
Таблица 1
Физические постоянные
Наименование величины |
Округленное значение в |
|||
системе СИ |
||||
|
||||
Число Лошмидта (число молекул в 1 |
3,54×10 |
22 |
-3 |
|
м3 при 0 °С и 1 мм рт. ст.), na |
|
м |
||
Постоянная Больцмана, k |
1,38×10-23 Дж/К |
|||
Постоянная Стефана-Больцмана, s |
5,67×10-8 Вт×м-2×К-4 |
|||
Заряд электрона, е |
1,6×10-19 Кл |
|||
Масса покоя электрона, me |
9,1×10-31 кг |
|||
Масса протона, mp |
1,67×10-27 кг |
|||
Удельный заряд электрона, e/me |
1,76×1011 Кл/кг |
|||
Постоянная Планка, h |
6,62×10-34 Дж×с |
|||
Скорость света в вакууме, с |
3,0×108 м/с |
|||
Длина волны света, соответствующая |
1,24×10-6 м = 1240 нм |
|||
энергии кванта 1 эВ |
|
|
|
|
Электроновольт в джоулях |
1,6×10-19 Дж |
|||
Отношение массы протона к массе |
1836,5 |
|||
электрона, mp/me |
||||
|
|
|
||
Электрическая постоянная, e0 |
8,85×10-12 Ф/м |
|||
Магнитная постоянная, m0 |
1,26×10-6 Гн/м |
|||
Механический эквивалент теплоты |
4,19 Дж/кал |
|||
Переводной коэффициент от мм рт. ст. |
133,3 Па/мм рт. ст. |
|||
к единицам давления в системе СИ |
||||
|
|
|
||
Число Авогадро (число молекул в 1 |
6,02×1023 моль-1 |
|||
моле газа) |
|
|
|
480
Таблица 2
Размерность и соотношение электрических и магнитных единиц
|
|
Наиме- |
Размерность в |
Множитель для |
||||||
Величина |
Сим |
нование |
|
системе СИ |
|
перевода |
||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
|
вол |
в систе- |
м |
|
кг |
с |
|
А |
CGSE |
CGSM |
|
ме СИ |
|
|
|||||||
Заряд |
q |
Кулон |
0 |
|
0 |
1 |
|
1 |
3×109 |
0,1 |
Сила тока |
I |
Ампер |
0 |
|
0 |
0 |
|
1 |
3×109 |
0,1 |
Поверхностная |
s |
¾ |
-2 |
|
0 |
1 |
|
1 |
3×105 |
10-5 |
плотность заряда |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Объемная |
r |
¾ |
-3 |
|
0 |
1 |
|
1 |
3×103 |
10-7 |
плотность заряда |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Напряженность |
|
|
|
|
|
|
|
|
1/3×10-4 |
106 |
электрического |
E |
¾ |
1 |
|
1 |
-3 |
|
-1 |
||
поля |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Электрическая |
D |
¾ |
-2 |
|
0 |
1 |
|
1 |
4p×3×105 |
4p×10-5 |
индукция |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Напряжение |
U |
Вольт |
2 |
|
1 |
-3 |
|
-1 |
1/300 |
108 |
Емкость |
C |
Фарада |
-2 |
|
-1 |
4 |
|
2 |
9×1011 |
10-9 |
Сопротивление |
R |
Ом |
2 |
|
1 |
-3 |
|
-2 |
1/9×10-11 |
109 |
Проводимость |
G |
Сименс |
-2 |
|
-1 |
3 |
|
2 |
9×1011 |
10-9 |
Диэлектрическая |
e |
¾ |
-3 |
|
-1 |
4 |
|
2 |
4p×9×109 |
4p×10-11 |
проницаемость |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Напряженность |
H |
¾ |
-1 |
|
0 |
0 |
|
1 |
4p×3×107 |
4p×103 |
магнитного поля |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Магнитная |
m |
¾ |
1 |
|
1 |
-2 |
|
-2 |
1/4p×9×1013 |
107/4p |
проницаемость |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Магнитная |
B |
Тесла |
0 |
|
1 |
-2 |
|
-1 |
1/3×10-6 |
104 |
индукция |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Поток магнитной |
Ф |
Вебер |
2 |
|
1 |
-2 |
|
-1 |
1/300 |
108 |
индукции |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Индуктивность |
L |
Генри |
2 |
|
1 |
-2 |
|
-2 |
1/9×10-11 |
109 |
481
Таблица 3
Некоторые параметры упругих соударений электронов в молекулах газа при
1 мм рт. ст. (133 Па)
lz – средняя длина свободного пробега молекул газа;
le – средняя длина свободного пробега электрона в газе; n0 – частота соударений электронов с молекулами газа.
Газ |
М, ат. ед. |
lz, м |
|
lе, м |
|
n0, с-1 |
||
H |
2 |
× |
-4 |
× |
-4 |
× |
|
9 |
2 |
|
1,3 10 |
|
7,5 10 |
|
6 10 |
|
|
He |
4 |
× |
-4 |
× |
-4 |
× |
|
9 |
|
|
1,3 10 |
|
7,4 10 |
|
2,5 10 |
||
Ne |
20 |
× |
-4 |
× |
-4 |
|
|
|
|
|
1,2 10 |
|
6,6 10 |
|
|
|
|
Ar |
40 |
× |
-5 |
× |
-4 |
|
|
|
|
|
7,7 10 |
|
4,4 10 |
|
|
|
|
Kr |
84 |
× |
-5 |
× |
-4 |
|
|
|
|
|
3,7 10 |
|
2,1 10 |
|
|
|
|
Xe |
131 |
× |
-5 |
× |
-4 |
|
|
|
|
|
2,6 10 |
|
1,5 10 |
|
|
|
|
Hg |
201 |
× |
-5 |
× |
-4 |
× |
|
10 |
|
|
4,9 10 |
|
2,8 10 |
|
1,7 10 |
||
N |
28 |
× |
-5 |
× |
-4 |
|
|
|
2 |
|
6,3 10 |
|
3,6 10 |
|
|
|
|
Na |
23 |
× |
-5 |
× |
-4 |
× |
10 |
|
|
|
8,1 10 |
|
4,6 10 |
|
8 10 |
|
|
Cs |
133 |
× |
-6 |
× |
-5 |
× |
|
11 |
|
|
5,8 10 |
|
3,3 10 |
|
1,6 10 |
Таблица 4
Постоянные в выражении для аппроксимации коэффициента ионизации по формуле
a− EB
=A × e P
P
|
А, |
В, |
Область |
|
Газ |
М–1× мм рт.ст.–1 |
В×м–1× мм рт.ст.–1 |
применения E/P, |
|
|
|
|
В×м–1×мм рт.ст.–1 |
|
Воздух |
1460 |
3,65×104 |
15 ¸ 60 |
|
N2 |
1240 |
3,42×104 |
15 ¸ 60 |
|
H2 |
500 |
1,30×104 |
16 ¸ 60 |
|
CO2 |
2000 |
4,66×104 |
50 |
¸ 100 |
N2O |
1290 |
2,89×104 |
15 |
¸ 100 |
Ar |
1360 |
2,35×104 |
10 ¸ 60 |
|
He |
280 |
0,34×104 |
2 |
¸ 15 |
Ne |
400 |
1,00×104 |
10 ¸ 40 |
|
Kr |
1700 |
2,40×104 |
10 |
¸ 100 |
Xe |
2600 |
3,60×104 |
20 ¸ 80 |
|
Hg |
2000 |
3,70×104 |
20 ¸ 60 |
482
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Таблица 5 |
||
|
Подвижность электронов в газе при Р = 1 мм рт. ст. |
|||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Подвижность, |
|
Область применения |
||||||||
|
Газ |
|
|
|
|
E/P, |
|
|
||||||
|
|
2 |
× В |
-1 |
× с |
-1 |
-1 |
|
|
|
|
|||
|
|
|
м |
|
×мм рт.ст. |
|
|
В×м-1× мм рт. ст.-1 |
|
|
||||
|
He |
|
|
|
|
|
78 |
|
|
50 |
– 500 |
|
|
|
|
H2 |
|
|
|
|
|
37 |
|
|
200 |
– 2000 |
|
|
|
|
Ne |
|
|
|
|
|
150 |
|
|
20 |
– 200 |
|
|
|
|
Ar |
|
|
|
|
|
36 |
|
|
100 |
– 1000 |
|
|
|
|
N2 |
|
|
|
|
|
40 |
|
|
200 |
– 2000 |
|
|
|
|
O2 |
|
|
|
|
|
75 |
|
|
200 |
– 2000 |
|
|
|
|
Воздух |
|
|
|
|
|
50 |
|
|
200 |
– 2000 |
|
|
|
|
NO |
|
|
|
|
27,5 |
|
|
40 |
– 400 |
|
|
||
|
CO |
|
|
|
|
|
30 |
|
|
500 |
– 5000 |
|
|
|
|
Hg |
|
|
|
|
|
18 |
|
|
300 |
– 3000 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Таблица 6 |
||
|
Подвижность ионов в их собственном газе при |
|||||||||||||
|
|
|
Р = 1 мм рт.ст. и Т=0 °С |
|
|
|
||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||
|
Ион |
Подвижность, |
Ион |
|
Подвижность, |
|||||||||
|
м2× В-1× с-1×мм рт. ст.-1 |
|
м2× В-1× с-1×мм рт. ст.-1 |
|
||||||||||
|
He+ |
1,0 |
|
|
|
Воздух+ |
|
|
0,14 |
|
|
|||
|
He2+ |
2,0 |
|
|
|
Воздух- |
|
|
0,19 |
|
|
|||
|
Ne+ |
0,4 |
|
|
|
CO+ |
|
|
0,08 |
|
|
|||
|
N2+ |
0,63 |
|
|
|
CO- |
|
|
0,09 |
|
|
|||
|
Ar+ |
0,16 |
|
|
|
CO2+ |
|
|
0,07 |
|
|
|||
|
Kr+ |
0,07 |
|
|
|
CO2- |
|
|
0,07 |
|
|
|||
|
Xe+ |
0,04 |
|
|
|
H2O+ |
|
|
0,05 |
|
|
|||
|
Hg+ |
0,045 |
|
|
H2O- |
|
|
0,04 |
|
|
||||
|
H+ |
1,3 |
|
|
|
Cl2+ |
|
|
0,06 |
|
|
|||
|
H2+ |
1,0 |
|
|
|
Cl2- |
|
|
0,06 |
|
|
|||
|
O2+ |
0,5 |
|
|
|
C2H5OH+ |
|
|
0,03 |
|
|
|||
|
O+ |
0,18 |
|
|
|
C2H5OH- |
|
|
0,03 |
|
|
|||
|
O2- |
0,14 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
483
Таблица 7
æ |
e ×U ö |
-1 |
|
e×Ui |
5 |
2 |
|
2 |
|
2 |
|||
|
|
|
|
||||||||||
ç |
|
|
÷ |
|
× e |
= 1,16 ×10 ×C × P × R |
|
||||||
|
i |
|
k×Te |
|
|||||||||
k ×T |
|
|
|
||||||||||
ç |
÷ |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
è |
e ø |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
Газ |
|
|
|
|
|
|
|
B |
14 × C |
12 |
, |
с |
|
|
|
|
|
|
|
|
м3 × Па |
|
|||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
He |
|
|
|
|
|
|
|
|
2,9×10-2 |
|
|||
Ne |
|
|
|
|
|
|
|
|
4,42×10-2 |
|
|||
Ar |
|
|
|
|
|
|
|
|
3,9×10-1 |
|
|||
Hg |
|
|
|
|
|
|
|
|
8,25×10-1 |
|
Таблица 8
Потенциалы ионизации, энергии разрыва связей,
сродство к электрону
Газ |
|
He |
|
Ne |
|
Ar |
|
Kr |
|
Xe |
|
Hg |
эВ |
24,6 |
|
21,6 |
15,8 |
|
14,0 |
21,1 |
|
10,43 |
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
Газ |
|
|
ei, эВ |
|
|
ei, эВ |
|
|
J, эВ |
|||
H2 |
|
|
15,4 |
|
|
4,5 |
|
0,75 (атом H) |
||||
N2 |
|
|
|
|
|
|
9,8 |
|
|
|
|
|
O2 |
|
|
|
|
|
|
5,2 |
|
1,46 (атом О) |
|||
CO |
|
|
14,0 |
|
|
11,1 |
|
|
|
|
||
CO2 |
|
|
13,8 |
|
5,5 (CO-O) |
|
|
|
|
|||
NH3 |
|
|
10,3 |
|
4,5 (NH2-H) |
|
1,21 (радикал NH2) |
|||||
Cl2 |
|
|
11,5 |
|
|
2,5 |
|
3,8 (атом Cl) |
||||
Br2 |
|
|
10,6 |
|
|
2,0 |
|
3,5 (атом Br) |
||||
H2O |
|
|
12,6 |
|
5,1 (H-OH) |
|
2,65 (радикал OH) |
Таблица 9 Значение коэффициента вторичной ионно-электронной эмиссии для
различных ионов и поверхностей при малых энергиях ионов
Поверх- |
Воздух+ |
N2+ |
H2+ |
He+ |
Hg+ |
ность |
|
|
|
|
|
K |
0,077 |
0,12 |
0,22 |
0,17 |
0,22 |
Cu |
0,025 |
0,066 |
0,05 |
- |
0,058 |
Mg |
0,038 |
0,089 |
0,12 |
0,031 |
0,077 |
Ba |
- |
0,14 |
- |
0,10 |
0,14 |
Ag |
- |
- |
0,08 |
0,12 |
- |
Al |
0,035 |
0,10 |
0,10 |
0,021 |
0,12 |
Fe |
0,02 |
0,059 |
0,061 |
0,015 |
0,058 |
Ni |
0,036 |
0,077 |
0,053 |
0,015 |
0,058 |
Pt |
0,017 |
0,059 |
0,02 |
0,01 |
0,058 |
484
Таблица 10
Поперечные сечения диссоциативного прилипания и ионизации для
NH3, SF6, Cl2
Энергия, |
σ прилипания, 10-16 см2 |
σ ионизации, 10-16 см2 |
||||
эВ |
NH3 |
SF6 |
Cl2 |
NH3 |
SF6 |
Cl2 |
0,05 |
|
1000 |
140 |
|
|
|
0,2 |
|
|
24,5 |
|
|
|
0,4 |
|
|
2 |
|
|
|
1,0 |
|
4 |
|
|
|
|
1,5 |
|
|
0,72 |
|
|
|
2,0 |
|
0 |
1,8 |
|
|
|
2,5 |
|
|
2,8 |
|
|
|
3,0 |
|
|
1,95 |
|
|
|
3,5 |
|
0 |
1,0 |
|
|
|
4,0 |
0 |
0,6 |
1,5 |
|
|
|
4,5 |
0,1 |
|
2,3 |
|
|
|
5,0 |
2,5 |
1,2 |
3,63 |
|
|
|
5,5 |
5,8 |
|
4,6 |
|
|
|
6,0 |
4,0 |
1,2 |
4,8 |
|
|
|
7,0 |
1,0 |
0,75 |
3,0 |
|
|
|
8,0 |
0,35 |
0,75 |
0,75 |
|
|
|
9,0 |
0,4 |
|
0,4 |
|
|
|
10,0 |
0,7 |
0,75 |
0,35 |
|
|
|
11,0 |
0,75 |
|
0,33 |
|
|
0 |
12,0 |
0 |
0,8 |
0,37 |
|
|
0,0927 |
13,0 |
|
|
0,51 |
0 |
|
0,231 |
15 |
|
1 |
|
0,05 |
0 |
0,747 |
20 |
|
3 |
|
0,5 |
0,25 |
2,12 |
25 |
|
4 |
|
|
1,0 |
3,18 |
30 |
|
5 |
|
0,7 |
2,1 |
3,90 |
40 |
|
|
|
0,85 |
3,4 |
4,61 |
50 |
|
|
|
1,0 |
4,3 |
5,06 |
60 |
|
|
|
1,05 |
4,8 |
5,39 |
70 |
|
|
|
1,1 |
5,4 |
5,53 |
80 |
|
|
|
1,1 |
5,75 |
5,58 |
90 |
|
|
|
1,1 |
6,0 |
5,57 |
100 |
|
|
|
1,1 |
|
5,52 |
485
Таблица 11
Параметры некоторых полупроводниковых материалов при комнатной температуре
Параметр |
Ge |
Si |
GaAs |
|
|
|
|
|
|
Относительная диэлектрическая |
16,3 |
11,7 |
13 |
|
проницаемость, ε |
|
|||
|
|
|
|
|
Ширина запрещенной зоны, еВ |
0,72 |
1,12 |
1,42 |
|
|
|
|
|
|
Концентрация собственных носителей |
13 |
10 |
|
6 |
заряда, см–3 |
2,5·10 |
1,5·10 |
2·10 |
|
Подвижность электронов μn, см2/(В·с) |
3800 |
1300 |
9500 |
|
Подвижность дырок μр, см2/(В·с) |
1820 |
470 |
450 |
|
Коэффициент диффузии электронов |
98 |
33,6 |
|
|
Dn, см2/с |
|
|
||
Коэффициент диффузии дырок |
47 |
12,2 |
|
|
Dр, см2/с |
|
|
486