- •Билет 1. Классификация веществ. Зонная диаграмма. Понятие носителей заряда. Теория проводимости. Собственная и примесная проводимость.
- •Билет 3 . Уравнение Шредингера.
- •Билет 5. Циклотронный резонанс.
- •Билет 11. Концентрация носителей в соб.
- •Билет 12. Рассеяние на ионах примеси.
- •Билет 13. Рассеяние на атомах примеси и дислокациях. Рассеяние на нейтральных примесях
- •Рассеяние на ионизированной примеси
- •Билет 15. Подвижность носителей заряда.
- •Билет 16. Удельная проводимость и удельное сопротивление полупроводника.
- •Билет 17. Рекомбинация полупроводника в условиях равновесного состояния.
- •Билет 18. Рекомбинация полупроводника в условиях неравновесного состояния.
- •Билет 19. Механизм рекомбинации носителей на ловушках.
- •Билет 20. Механизм поверхностной рекомбинации.
- •Билет 21. Движение носителей заряда. Уравнение непрерывности для электронов и дырок. Плотности электронного и дырочного токов.
- •Билет 22. Диффузионный и дрейфовый токи. Диэлектрическая релаксация.
- •Билет 23 и 24. Эффект поля. Зонная диаграмма при эффекте поля
- •Билет 25. Диффузионный ток в полупроводнике.
- •Билет 26. Диффузия и дрейф неравновесных носителей заряда в случае монополярной проводимости. Движение неосновных носителей заряда.
- •Билет 27. Монополярная диффузия носителей.
- •Билет 28. Биполярная диффузия носителей.
- •Билет 29. Образование p-n перехода, база диода, энергетическая диаграмма. Структура и классификация диодов.
- •Билет 30. P-n переход в равновесном состоянии.
- •Билет 31. P-n переход в неравновесном состоянии.
- •Билет 32. Невыпрямляющий контакт металл-полупроводник
- •Билет 35. Идеальная модель диода. Характеристические сопротивления и тепловой ток.
- •Билет 36. Особенности реального диода. Обратная вах. Эквивалентная схема диода при обратном смещении.
- •Билет 37. Туннельный пробой p-n перехода.
- •Билет 38. Лавинный пробой p-n перехода.
- •Билет 39. Тепловой пробой p-n перехода.
- •Билет 40. Прямая характеристика реального диода. Ток рекомбинации. Сопротивление базы.
- •Билет 41. Прямая характеристика реального диода. Зависимость напряжения прямой характеристики от температуры. Работа диода при высоком уровне инжекции. Распределение токов в базе.
- •Билет 42. Прямая характеристика реального диода. Дрейфовая составляющая тока инжектированных носителей. Коэффициент инжекции.
- •Билет 43. Прямая характеристика реального диода. Модуляция сопротивления базы. Эквивалентная схема диода при прямом смещении.
- •Билет 44. Инерционные свойства диодов. Барьерная емкость.
- •Билет 45. Инерционные свойства диодов. Диффузионная емкость.
- •Билет 47. Туннельный диод. Диод Шоттки.
- •Билет 48. Биполярный транзистор. Структура и режимы работы биполярного транзистора. Транзисторный эффект.
- •Билет 49. Биполярный транзистор. Режимы работы биполярного транзистора при схеме включения с Общей Базой.
- •Билет 50. Биполярный транзистор. Эффект Эрли.
- •Билет 52. Эквивалентная схема Эберса-Молла.
- •52. Биполярный транзистор. Входные и выходные вах идеального транзистора в схеме об. Вах идеального транзистора в схеме ок.
- •Билет 57. Сопротивления эмиттерного и коллекторного переходов.
- •Билет 63. Мдп транзистор. Вах идеального мдп транзистора. Физические причины насыщения тока стока. …
- •Билет 64. Мдп транзистор. Выбор рабочей точки. Крутая и пологая область мдп. Удельная крутизна транзистора.
- •Билет 65. Мдп транзистор. Равновесные и неравновесные состояния.
- •Билет 66. Мдп транзистор. Эквивалентная сх, сх.Вкл.
- •Билет 67. Фотоэлектрический явления. Внутренний фотоэффект.
- •Билет 68. Фотоэлектрический явления. Теория фотопроводимости.
- •Билет 72. Эффект Холла
Билет 18. Рекомбинация полупроводника в условиях неравновесного состояния.
Помимо теплового возбуждения появление свободных носителей заряда может быть связано с другими причинами, например, в результате облучения. Возникшие таким образом избыточные носители заряда называются неравновесными. Таким образом, полная концентрация носителей заряда равна:
где n0 и p0 – равновесная концентрация, а n и p – неравновесная концентрация электронов и дырок. Если возбуждение избыточных электронов производилось из валентной зоны, а полупроводник однородный и не содержит объемного заряда, то концентрация избыточных электронов равна концентрации избыточных дырок:
После прекращения действия механизма, вызвавшего появление неравновесной концентрации носителей, происходит постепенное возвращение к равновесному состоянию. Явление исчезновения пары носителей получило название рекомбинации. В свою очередь возбуждение электрона из валентной зоны или примесного уровня, сопровождающееся появлением дырки, называется генерацией носителей заряда. Если в полупроводнике нет электрического тока и объемных зарядов, то изменение во времени неравновесных концентраций электронов и дырок в зонах определяется уравнениями:
Скорости (темпы) генерации и рекомбинации имеют две составляющие:
,где G, R – темпы генерации и рекомбинации только неравновесных электронов, то есть G – это темп генерации электронов и дырок за счет освещения полупроводника, и .
Можно получить:
(1)
Рассмотрим процесс рекомбинации неравновесных носителей заряда (то есть при выключении освещения в момент времени t = 0). Общее решение уравнения (1) довольно сложное. Поэтому рассмотрим два частных случая.
В собственном полупроводнике при сильном освещении
.
Получим:
где n0 – начальная концентрация неравновесных носителей заряда. В донорном полупроводнике в случае полной ионизации доноров n0 = ND, p0 << n0. Будем также считать, что n << ND.
Билет 19. Механизм рекомбинации носителей на ловушках.
В полупроводниковом кристалле всегда имеются дефекты, энергетические уровни которых находятся в запрещенной зоне. Поэтому наряду с межзонной рекомбинацией может идти процесс рекомбинации через локальные уровни энергии. Дефект решетки, способный захватить электрон из зоны проводимости и дырку из валентной зоны, осуществляя их рекомбинацию, называется рекомбинационной ловушкой. В этом случае исчезновение пары-электрона и дырки проводимости осуществляется следующим образом. Нейтральная рекомбинационная ловушка захватывает электрон из зоны проводимости, который затем через некоторое время перейдет в валентную зону.
Ловушкам свойственны энергетические уровни, раположенные глубоко в запрещенной зоне, ближе к ее середине.
Билет 20. Механизм поверхностной рекомбинации.
Из большего числа состояний, возникающих на поверхности полупроводника, некоторые состояния могут являться эффективными рекомбинационными ловушками. Это может привести к тому, что темп рекомбинации на поверхности будет значительно выше, нежели в объёме полупроводника. Рекомбинационно активными ловушками на поверхности могут быть лишь быстрые состояния, поскольку время перехода на медленные состояния настолько велико, что не может быть обеспечен темп рекомбинации, по порядку величины сравнимый с объёмной рекомбинацией. Влияние поверхностной рекомбинации на время жизни носителей заряда становится существенным тогда, когда число электронно-дырочных пар, рекомбинирующих в единицу времени на поверхности, составляют заметную долю общего числа носителей заряда, рекомбинирующего во всём объёме полупроводника. Можно поэтому ожидать, что влияние поверхностной рекомбинации будет особенно сильно в случае тонких пластин и нитевидных образцов, имеющих большое отношение поверхности к объёму. Для характеристики процесса рекомбинации на поверхности вводят величину s, называемую скоростью поверхностной рекомбинации.