- •Билет 1. Классификация веществ. Зонная диаграмма. Понятие носителей заряда. Теория проводимости. Собственная и примесная проводимость.
- •Билет 3 . Уравнение Шредингера.
- •Билет 5. Циклотронный резонанс.
- •Билет 11. Концентрация носителей в соб.
- •Билет 12. Рассеяние на ионах примеси.
- •Билет 13. Рассеяние на атомах примеси и дислокациях. Рассеяние на нейтральных примесях
- •Рассеяние на ионизированной примеси
- •Билет 15. Подвижность носителей заряда.
- •Билет 16. Удельная проводимость и удельное сопротивление полупроводника.
- •Билет 17. Рекомбинация полупроводника в условиях равновесного состояния.
- •Билет 18. Рекомбинация полупроводника в условиях неравновесного состояния.
- •Билет 19. Механизм рекомбинации носителей на ловушках.
- •Билет 20. Механизм поверхностной рекомбинации.
- •Билет 21. Движение носителей заряда. Уравнение непрерывности для электронов и дырок. Плотности электронного и дырочного токов.
- •Билет 22. Диффузионный и дрейфовый токи. Диэлектрическая релаксация.
- •Билет 23 и 24. Эффект поля. Зонная диаграмма при эффекте поля
- •Билет 25. Диффузионный ток в полупроводнике.
- •Билет 26. Диффузия и дрейф неравновесных носителей заряда в случае монополярной проводимости. Движение неосновных носителей заряда.
- •Билет 27. Монополярная диффузия носителей.
- •Билет 28. Биполярная диффузия носителей.
- •Билет 29. Образование p-n перехода, база диода, энергетическая диаграмма. Структура и классификация диодов.
- •Билет 30. P-n переход в равновесном состоянии.
- •Билет 31. P-n переход в неравновесном состоянии.
- •Билет 32. Невыпрямляющий контакт металл-полупроводник
- •Билет 35. Идеальная модель диода. Характеристические сопротивления и тепловой ток.
- •Билет 36. Особенности реального диода. Обратная вах. Эквивалентная схема диода при обратном смещении.
- •Билет 37. Туннельный пробой p-n перехода.
- •Билет 38. Лавинный пробой p-n перехода.
- •Билет 39. Тепловой пробой p-n перехода.
- •Билет 40. Прямая характеристика реального диода. Ток рекомбинации. Сопротивление базы.
- •Билет 41. Прямая характеристика реального диода. Зависимость напряжения прямой характеристики от температуры. Работа диода при высоком уровне инжекции. Распределение токов в базе.
- •Билет 42. Прямая характеристика реального диода. Дрейфовая составляющая тока инжектированных носителей. Коэффициент инжекции.
- •Билет 43. Прямая характеристика реального диода. Модуляция сопротивления базы. Эквивалентная схема диода при прямом смещении.
- •Билет 44. Инерционные свойства диодов. Барьерная емкость.
- •Билет 45. Инерционные свойства диодов. Диффузионная емкость.
- •Билет 47. Туннельный диод. Диод Шоттки.
- •Билет 48. Биполярный транзистор. Структура и режимы работы биполярного транзистора. Транзисторный эффект.
- •Билет 49. Биполярный транзистор. Режимы работы биполярного транзистора при схеме включения с Общей Базой.
- •Билет 50. Биполярный транзистор. Эффект Эрли.
- •Билет 52. Эквивалентная схема Эберса-Молла.
- •52. Биполярный транзистор. Входные и выходные вах идеального транзистора в схеме об. Вах идеального транзистора в схеме ок.
- •Билет 57. Сопротивления эмиттерного и коллекторного переходов.
- •Билет 63. Мдп транзистор. Вах идеального мдп транзистора. Физические причины насыщения тока стока. …
- •Билет 64. Мдп транзистор. Выбор рабочей точки. Крутая и пологая область мдп. Удельная крутизна транзистора.
- •Билет 65. Мдп транзистор. Равновесные и неравновесные состояния.
- •Билет 66. Мдп транзистор. Эквивалентная сх, сх.Вкл.
- •Билет 67. Фотоэлектрический явления. Внутренний фотоэффект.
- •Билет 68. Фотоэлектрический явления. Теория фотопроводимости.
- •Билет 72. Эффект Холла
Билет 27. Монополярная диффузия носителей.
Процесс, при котором диффундируют носители одного типа, а носители другого типа лишь обеспечивают квазинейтральность, называют монополярной диффузией.
И меться результирующий ток, поэтому полупроводник должен быть элементом замкнутой цепи. Соответственно помимо поля, сосредоточенного вблизи инжектирующей поверхности, во всей толще полупроводника действует омическое поле, обусловленное приложенным напряжением. Поток дырок двигается вглубь кристалла, а электроны в сторону инжектирующей поверхности, где происходит интенсивная рекомбинация и пополнение основных носителей. Результирующий ток равен сумме дырочной и электронной составляющих. Убывание дырочного тока от поверхности вглубь кристалла сопровождается соответствующим ростом электрической составляющей. На инжектирующей поверхности электронный ток равен 0, т.к близко к нулю ЭП. Вблизи инжектирующей поверхности ток обусловлен только дырками. В глубине кристалла, где дырочный ток равен 0, благодаря рекомбинации диффузионная составляющая электронного тока равна 0. Вдали от инжектирующей поверхности ток обусловлен только электронами и имеет чисто дрейфовый характер, электроны двигаются в омическом поле, созданным внешним напряжением.
Билет 28. Биполярная диффузия носителей.
Пусть на поверхности полупроводника падает рассеянный пучок света. Тогда в тонком поверхностном слое в который проникает свет, будут генерироваться электронно-дырочные пары со скоростью g пар\см3*c.Между поверхностью и основным объемом возникнут градиенты концентрации электронов и дырок, и избыточные носители начнут дрейфовать в глубь проводника. Такое совместное движение обоих типов носителей называют биполярной диффузией, если бы подвижности (а значит и коэффициенты диффузии) у электронов и дырок были одинаковы, то они двигались бы виде единого нейтрального потока, который можно было бы анализировать с помощью одного из уравнений диффузии. На самом деле подвижности носителей различны, поэтому у электронного потока будет тенденция «обогнать» дырочный поток. В результате взаимного сдвига потоков, образуется небольшой заряд и соответствующее ЭП, которое тормозит поток e и ускоряет поток дырок. В конце концов устанавливается режим, при котором избыточные электроны и дырки распределены в виде сдвинутых относительно друг друга «облаков». Эти облака двигаються синхронно, но так что результирующий ток отсутствует.
, где - электронная проводимость, - удельная проводимость. где - электронная проводимость в зоне, дырочная проводимость, - удельная проводимость.
Билет 29. Образование p-n перехода, база диода, энергетическая диаграмма. Структура и классификация диодов.
Полупроводниковый диод представляет собой комбинацию двух полупроводниковых слоёв с различными типами проводимости. Полярность напряжения, соответствующая большим токам, называется прямой, а соответствующая меньшим токам-обратной. Поверхность, по которой контактируют слои p и n, называется металлургической границей, а прилегающая к ней область объёмных зарядов - электронно-дырочным переходом или p-n переходом. Два других внешних контакта в диоде не выпрямляющие: поэтому их называют омическими контактами.
Диоды - самостоятельный, весьма обширный класс полупроводниковых приборов. Процессы в полупроводниковом диоде можно охарактеризовать так. В отсутствие внешнего напряжения в p-n переходе имеет место больцмановское равновесие: диффузионные и дрейфовые потоки носителей уравновешены и результирующего тока нет.
Классификация. Переходы, в которых иметься скачкообразное изменение концентрации на границе слоёв, называется ступенчатыми. По соотношению концентраций основных носителей в слоях p и n переходы делятся на симметричные и несимметричные. В симметричных переходах концентрация основных носителей в обоих слоях почти одинаковы. В несимметричных переходах концентрации различаются в несколько раз и более.
Структура. Поскольку концентрация дырок в слое p значительно больше, чем в слое n, часть дырок диффундирует из слоя p в слой n. Область образовавшихся пространственных зарядов и есть область p-n перехода, также её называют обедненным слоем, имея в виду резко пониженную концентрацию подвижных носителей в обеих её частях. Промежуточные участки между «границами», обеднённого слоя и перехода являются участками экранирования p- и n-слоёв диода от поля создаваемого зарядами обедненного слоя. Переход в целом нейтрален. При этом условии различие в концентрациях в протяженности обоих зарядов: в слое с меньшей концентрацией примеси (в нашем случае в n-слое) область объемного заряда должна быть шире. Иначе говоря, несимметричный переход сосредоточен в высокоомном слое. Слой с большим удельным сопротивлением, в который инжектируются неосновные для него носители называется базой.