Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Lektsii_Fizika_chast_III

.pdf
Скачиваний:
13
Добавлен:
09.06.2015
Размер:
1.86 Mб
Скачать

g(E)

dn

dE

g(E)

dEdn f(E) g(E)

f(E)

f(E)

1 0,5

E

En

kT

0

EC

EF

0 EV

Рис. 10.6

щенной зоны) или E EF kT, поэтому функция распределения Ферми-Дирака f(E) в уравнении (10.7) перейдет в классическую функцию Максвелла-Больцмана

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

EF

e

 

E

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

f(E)

 

 

 

e kT

kT .

 

 

 

 

(10.10)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

E EF

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

e kT

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Объединяя уравнения (6.22), (10.8) и (10.10), получаем

 

 

 

 

 

 

4

 

3

 

E

F

 

 

 

E

 

 

1

 

 

2

 

 

 

 

3

 

E

F

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

(2m* )2 e kT e kT E 2 dE

(2 m* kT)2 e kT

,

(10.11)

 

 

 

h3

 

 

 

 

 

 

e

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

h3

 

 

e

 

 

 

 

 

где

m*

эффективная масса электрона,

а выражение вида

 

 

 

e

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(2 m*kT )

2

 

NC

называют эффективной плотностью числа

 

h3

 

 

e

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

состояний. Принимая за начало отсчёта уровень энергии ЕC 0, выражение (10.11) обычно переписывают в виде

 

EC EF

 

 

n NC e

kT

.

(10.12)

 

90

 

 

 

Уравнение (10.12) выглядит так, как будто мы работаем только с одним уровнем энергии EC и число состояний, соответ-

ствующих этой энергии, равно NC (при температуре T 300 K,

NC 2,5 1019 см 3).

Вернемся к рассмотрению положения уровня Ферми в собственном полупроводнике, которому соответствует условие n p, где р – концентрация дырок.

Вводя, по аналогии с (10.12) уравнение

p NV e

EF EV

 

 

2

 

3

 

 

kT ,

NV

(2 m* kT )

2

,

(10.13)

 

3

 

 

 

 

h

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где m*p – эффективная масса дырки, и, учитывая условие n p, получаем:

e

EC EF

 

NV

e

EF EV

 

 

kT

 

kT .

(10.14)

NC

 

 

 

 

 

 

 

Логарифмируя (10.14) и преобразуя полученное выражение, переходим к формуле для расчёта положения уровня Ферми

EF

E

C

E

V

 

kT

ln(

N

V

)

 

E

C

E

V

 

3

kTln(

m*p

) .

(10.15)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

m*

 

 

 

2

 

 

2

 

NC

 

 

 

2

 

 

 

4

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

e

 

 

Полагая, что m*

 

m* ,

вторым слагаемым в этой формуле

 

 

 

 

 

 

e

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

можно пренебречь, следовательно,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

EF

EC EV

 

 

E

,

 

 

(10.16)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где Е – ширина запрещенной зоны. В результате

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n NC e

E

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2kT

.

 

 

 

 

 

 

(10.17)

Как следует из (10.17), концентрация электронов и дырок растет с повышением температуры. Если построить график за-

1

висимости n(T) в координатах ln(n) от 2kT , то получим прямую,

тангенс угла наклона которой численно равен ширине запрещенной зоны, рис. 10.7. При таком, обычно реализуемом на

91

ln(n)

ln(n)

практике, способе определения

 

Е пренебрегают зависимостя-

 

ми NС(T) и Е(T).

 

 

1/(2kT)

Рис. 10.7

10.4.2. Примесный полупроводник

Как показывают детальные расчеты (выносим на практические занятия) положение уровня Ферми в примесном полупроводнике при Т = 0 К находится посередине между энергетическим уровнем донора или акцептора и краем соответствующей зоны (Ed/2 или Ea/2), меняясь сложным образом с повышением температуры.

Концентрация соответствующих носителей заряда описывается выражениями:

 

Ed

 

 

 

 

 

 

 

*

3

 

 

Ed

 

n (NdNC)1/2 e

 

 

 

 

 

 

 

2 me kT

)

 

 

 

e

 

 

 

2kT

2N

d

(

 

4

2kT ,

(10.18)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

h

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ea

 

 

 

 

 

 

 

*

3

 

 

Ea

 

p (NaNC)1/2 e

 

 

 

 

 

2 mpkT

)

 

e

 

 

 

2kT

2N

a

(

4

2kT ,

(10.19)

 

 

 

 

 

 

 

 

h

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где Nd и Na – концентрация доноров и акцепторов. При высокой температуре (полном истощении примесей) n Nd или p Na.

Если проводить измерения n(T) в широком интервале температур, то в координатах ln(n) и

1/(2kT)

Рис. 10.8

1

2kT

обычно удается получить

две прямые: с наклоном, соответствующим Ed или Ea (при низких температурах) и Е – при высоких, рис. 10.8.

92

Вопросы для повторения

1.Что называется эффективной массой электрона и дырки?

2.Что в физике полупроводников называется «дыркой»?

3.Охарактеризуйте основные типы энергетических уровней электронов в кристаллах.

4.Что означают термины «донор» и «акцептор»? В чём заключается отличие между донорами и акцепторами?

5.Что называется экситоном?

6.Объясните, как электроны распределяются по энергетическим уровням в собственном и примесном полупроводниках.

7.Каким образом можно определить ширину запрещенной зоны

иэнергетическое положение донорных и акцепторных уровней в полупроводниках?

Литература: [1 – 6, 9]

93

Лекция № 11

11.1. Электропроводность твердых тел

Возникновение электрического тока в проводнике означает появление в нем под действием электрического поля направленного движения электронов (в отдельных случаях дырок), которое называется дрейфом. Среднюю скорость такого дрейфа электронов обозначим через d ( d , где – скорость теплового движения).

Как известно, плотность тока в металле

j en d,

(11.1)

где n – концентрация электронов проводимости.

Вспомним понятие подвижности носителей заряда – u, чис-

ленно равной дрейфовой скорости, приобретенной носителями заряда в электрическом поле единичной напряженности

u

d

.

(11.2)

 

 

E

 

В этом случае, объединяя выражения (11.1) и (11.2), получаем закон Ома, записанный в дифференциальной форме:

 

 

enuE

 

E

 

 

1

 

 

 

 

j

 

 

 

E

,

(11.3)

 

 

 

 

где и

– соответственно удельная электропроводность и

1

удельное сопротивление материала ( ).

Закон Ома (11.3) с успехом применим как к металлам, так и к полупроводникам и диэлектрикам (у металлов 106 Ом 1 м 1, у диэлектриков 10 8 Ом 1 м 1). Учёт дырочной компоненты тока в случае полупроводников требует записи выражения для в виде

enun epup,

(11.4)

где р – концентрация дырок, un и up – соответственно подвижность электронов и дырок (вообще говоря, они не равны, так, например, в чистом кремнии при Т 300 К подвижность электронов un 1350 см2/В с, а подвижность дырок up 400 см2/В с).

94

В идеальном кристалле (при отсутствии тепловых колебаний кристаллической решетки) носители заряда не встречают сопротивления на своем пути. Наличие электрического сопротивления в реальных материалах является результатом теплового движения атомов («нулевые» колебания всегда имеют место) и следствием образования точечных дефектов кристаллической структуры. На колебаниях и дефектах происходит рассеяние носителей тока.

Зависимость величины плотности тока от внешних факторов (температура, давление и т.д.) определяется, согласно (11.3 и 11.4), их влиянием на концентрацию носителей заряда и подвижность (или дрейфовую скорость).

Согласно классической теории электропроводности металлов (см. материалы 1-го семестра)

 

e

e

 

 

d

 

E

 

E,

(11.5)

2m

2m

где m – масса электрона, – среднее время между столкновениями, – средняя длина свободного пробега электрона и – тепловая скорость. В квантовомеханической теории электропроводности твердых тел соотношение (11.5) также работает, но требует некоторых уточнений.

Во-первых, вместо действительной массы электрона (дырки в полупроводниках р-типа) следует использовать его эффективную массу m*. Во-вторых, вместо среднего времени свободного пробега электрона надо подставлять истинное время и проводить корректное усреднение направленной скорости. Кроме того, для полной остановки ускоренного полем электрона может потребоваться не одно, а в среднем столкновений электрона с рассеивающими центрами.

В результате наше уравнение (11.5) записывается в виде:

d

e

E

e

E,

(11.6)

 

 

m *

m *

где под понимается время релаксации, которое характеризует скорость установления в системе равновесного состояния.

95

Металлы и полупроводники

Смысл входящих в уравнение (11.6) параметров меняется и от характеристик электронного газа: невырожденный (обычный полупроводник) и вырожденный (металл). Для невырожденного газа (отсутствует принцип Паули) , , и получаются усреднением этих величин по всему коллективу. В вырожденном коллективе внешнее электрическое поле может воздействовать только на электроны, находящиеся у уровня Ферми, переводя их на более высокие свободные энергетические состояния. В этом случае вводятся новые параметры: F – средняя длина свободного пробега электронов, обладающих энергией Ферми, F – их средняя скорость, F – среднее число столкновений, уничтожающих скорость в направлении движения.

В результате удельная электропроводность металлов с квантовомеханической точки зрения описывается соотношением

enu

ne2 F F

,

(11.7)

 

 

m * F

 

которое, в отличие от классического выражения

 

ne2

,

(11.8)

2m

 

 

 

позволяет объяснить, почему у металлов 1/Т. Действительно, согласно классической теории электропроводности средняя ско-

рость теплового движения свободных электронов T , и то-

гда

1

 

, что противоречит эксперименту. В то же время,

 

 

 

 

 

 

T

согласно квантовой теории электропроводности F с температурой не меняется, но зато от температуры зависит длина свободного пробега электронов. Чем выше в металле концентрация nФ фононов (но nФ T), тем выше вероятность столкновения с ними электронов и тем меньше длина свободного пробега ( F 1/nФ).

Витоге оказывается, что F 1/Т, и, следовательно, 1/Т. Сказанное касалось температур, близких к комнатным и бо-

лее высоким. С понижением Т, когда концентрация фононов становится очень маленькой, основное значение приобретает

96

рассеяние электронов на точечных дефектах решетки. В этом случае у металлов F const, u const, const.

 

 

 

 

Как показывает тео-

 

 

рия, у чистых металлов

 

 

T

 

переходный

участок

 

 

 

 

между

зависимостями

 

 

 

 

вида 1/Т и const

 

 

 

 

соответствует

выраже-

 

 

T 5

 

нию

1

. Общая за-

ОСТ

 

 

 

T 5

 

 

 

 

 

 

 

 

 

висимость

удельного

0

 

T

сопротивления чистых

 

 

 

 

 

 

Рис. 11.1

 

металлов

от

температу-

 

 

 

ры показана на рис. 11.1.

 

 

 

 

В обычных полупроводниках (невырожденный электронный газ) в области высоких температур, когда преобладает рассеяние

 

 

 

 

 

 

электронов на фононах, 1/Т,

 

T и 1, поэтому

 

u

d

 

e

 

 

3/2

 

 

 

T

.

(11.9)

E

m *

 

 

 

 

 

 

 

В области низких температур преобладает рассеяние на ионизованных точечных дефектах. В этом случае у невырож-

денных полупроводников T , а Т 2. Последний вывод качественно понятен, так как чем выше скорость электрона (она растёт с увеличением Т), тем быстрее он проскакивает кулонов-

ское поле дефекта, и для уничтожения его движения в первона-

u

 

чальном направлении требуется

 

больше столкновений.

 

 

 

 

Зависимость

подвижности

u T 3/2

u T 3/2

носителей заряда в невырожден-

ном полупроводнике от темпе-

 

 

 

 

ратуры представлена на рис.

0

T

11.2, при этом при низких тем-

пературах u T 3/2, а при высо-

 

 

Рис. 11.2

 

ких u T 3/2.

 

В качестве параметра, раз-

97

граничивающего область низких и высоких температур, используют характеристическую температуру Дебая ТD, определяемую соотношением kTD ħ D, где D - предельная частота колебаний кристаллической решетки.

Температурная зависимость удельной электропроводности невырожденных полупроводников (11.4) в основном определяется температурной зависимостью концентрации носителей за-

ряда (10.12, 10.13, 10.17, 10.18, 10.19). Поэтому качественно (Т)

иn(T) совпадают: сравните рис. 10.8 и 11.3, где

E

 

 

 

 

0 e 2kT ,

(11.10)

0 – коэффициент, который слабо зависит от температуры; Е – энергия ионизации донора или акцептора, либо ширина запрещенной зоны. По наклону линейных участков рис. 11.3 также можно определять Е.

ln

 

Характерной

особенно-

 

стью зависимости ln

от

 

 

 

 

1/(2kT) является наличие

 

 

максимума при переходе от

 

 

примесной проводимости

к

 

 

собственной, когда n n(T),

 

 

что вызвано описанной выше

0

1/(2kT)

зависимостью

подвижности

носителей тока от темпера-

 

 

Рис. 11.3

 

туры (рис. 11.2).

 

Термосопротивления (термисторы)

Существенная зависимость удельного сопротивления полупроводников от температуры позволяет использовать их для конструирования термисторов – приборов, предназначенных для точного измерения температуры, мощности инфракрасного излучения (чувствительность до 10 10 Вт) и управления различными технологическими процессами. В отдельных случаях для изготовления термисторов используются и металлы.

98

11.2. Определение концентрации носителей заряда и их подвижности. Эффект Холла

Для определения типа носителей тока, их концентрации и подвижности используют эффект Холла. Эффект Холла заключается в возникновении в проводнике (в нашем случае брусок толщиной b) с током плотностью j, помещенном в магнитном поле с индукцией В, электрического поля в направлении, пер-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

пендикулярном

B и

j

, рис. 11.4

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

FЛ

 

 

 

b

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

d

 

 

 

 

 

j

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

B

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Рис. 11.4

 

 

 

При показанном положении образца относительно магнитного поля и предположительно электронном характере электрического тока из-за наличия силы Лоренца

 

 

 

 

FЛ

e[ d

B ],

(11.11)

где е – заряд электрона без учета его знака, электроны будут отклоняться к верхней грани и зарядят ее отрицательно. На нижней грани накапливаются нескомпенсированные положительные заряды, между гранями возникает разность потенциалов VХ, получившая название э.д.с. Холла. В возникающем при этом электрическом поле возникает сила, уравновешивающая силу Лоренца:

e dB eE,

(11.12)

где E – напряженность этого поля. С учетом того, что E VХ/b, имеем

VХ dbB,

(11.13)

а так как d j/en, получаем:

 

 

 

VХ

1

Bbj,

(11.14)

en

 

 

 

99

 

 

 

Соседние файлы в предмете [НЕСОРТИРОВАННОЕ]