Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Физические основы микро- и наноэлектроники

..pdf
Скачиваний:
37
Добавлен:
05.02.2023
Размер:
1.6 Mб
Скачать

Скорость роста тока снижается

 

(рис. 4.8, область 2а). По мере увеличе-

 

ния напряженности электрического поля

 

концентрация «тяжелых» электронов

 

в долине 2 растет, а «легких» в долине

 

1 на такую же величину уменьшается.

 

Перечисленные процессы приводят

 

к уменьшению плотности электрическо-

 

го тока с ростом напряженности элект-

 

рического поля, т.е. наблюдается учас-

Рис. 4.8. Вольт-амперная

ток отрицательного дифференциального

характеристика

сопротивления (рис. 4.8, область 2б).

арсенида галлия

При напряженности

все электроны находятся в долине 2

(ðèñ. 4.7,â), и плотность тока равна

(4.17) т.е. на участке 3 (рис. 4.8), как и на участке 1, снова выполняется закон Ома, но угол наклона зависимости j( ) вследствие неравенства (4.13) бу-

дет меньше.

§ 4.8. Эффект Ганна

 

a

 

 

 

Evj =>Eq=μμnEE.=·qμ1963n E, г. физик-экспериментатор Дж. Ганн, изучая междолинный

j Íd2

ÚÍ2

22 ‰

2 0

 

 

 

 

перенос электронов, обнаружил эффект возникновения сверхвысокочас-

 

 

 

тотных (СВЧ) колебаний тока в образцах GaAs и InP n-типа, который

1

 

 

назван его именем.

 

 

 

2

3

 

 

 

 

Рассмотрим природу генерации СВЧ-колебаний тока в образце GaAs

 

 

 

(ðèñ. 4.9,à) в виде прямоугольной пластинки. На омические контакты

 

 

 

на торцах образца, которые представляют анод и катод, подается соответ-

 

Í

ствующее напряжение (+V è V) для пропускания постоянного тока.

 

 

Ú

 

 

 

 

 

Полупроводниковые материалы обычно неоднородны по удельному

 

 

 

сопротивлению. Пусть в образце на расстоянии x1 от катода существует

 

 

 

микрообласть повышенного сопротивления шириной

x. Напряженность

 

 

 

электрического поля в этой области будет выше, чем в других частях

 

 

 

образца, и при повышении внешнего напряжения электрическое поле

 

 

 

именно здесь в первую очередь достигнет значения

(ðèñ. 4.9,á), ïðè

 

 

 

котором начинается междолинный переход электронов (§ 4.7).

 

 

 

 

Вследствие перехода электронов из долины 1 в долину 2 при

и уменьшения подвижности электронов в области x скорость их переме-

щения к аноду будет

(4.18)

91

Рис. 4.9. Образование доменов
в диодах Ганна: à — конструкция диода; á — распределение напряженности электрического поля в диоде; â — распределение концентрации носителей заряда

Справа и слева от области x совершают дрейф электроны с более

высокой скоростью

(4.19)

Таким образом, в зоне x двигаются по направлению к аноду «тяжелые» электроны со скоростью vd2, величина которой будет меньше, чем

скорость перемещения «легких» электронов vd1 в частях образца справа и слева от области x. Â ðå-

зультате «легкие» электроны слева догоняют «тяжелые» электроны, а электроны справа уходят вперед от области «тяжелых» электронов, вследствие чего на уча- стке от x1 äî x2 создается двойной

слой противоположных зарядов (рис. 4.9,â). Левая часть слоя име-

ет повышенную концентрацию электронов и заряжена отрицательно. К нему справа примыкает положительно заряженный слой, обедненный электронами. Эта область двойного заряда называется электростатическим доменом.

Очень быстрое возникновение домена (t 10–12 с) сопровождается

увеличением сопротивления в его области. Тогда в этой части напряженность поля возрастает, а за областью домена — снижается. Происходит перераспределение электрического поля, которое за-

канчивается выравниванием скоростей дрейфа электронов внутри и вне домена, т.е. установлением равновесия

(4.20)

Установившаяся скорость дрейфа электронов в домене будет ниже максимальной скорости дрейфа равновесных электронов и фактически представляет скорость движения домена к аноду. Ширина домена x2 x1 не превышает нескольких десятков микрометров, тогда как на рис. 4.9,â она соизмерима с длиной образца L.

Таким образом, в момент включения внешнего напряжения (t = t0, рис. 4.10) через образец должен протекать ток jmax, величина которого

определяется формулой (4.14). Однако у катода, где может находиться высокоомный приконтактный слой, возникает домен, и ток практически

92

 

ä‡ÚÓ‰

vμ E==μμEE. .

d11

1 2

–V

a 1

·

Í

n

n > n

n0

Рис. 4.10. Зависимость тока от времени для диода Ганна

мгновенно падает до jmin. В течение времени

домен дрейфует к аноду, и ток че- рез образец не изменяется, т.е. остается рав-

íûì jmin.

Напряженность электрического поля вне

домена Eменьше критической величины

(< , ðèñ. 4.9,á), вследствие чего два до-

мена не могут образоваться одновременно. На аноде домен разрушается, ток в цепи возрастает до величины jmax, пока вследствие со-

путствующего роста напряженности электри- ческого поля до величины не возникнет новый домен и далее повторится

процесс его дрейфа через весь образец длиной L до разрушения на аноде. Таким образом, частота колебаний тока f = 1/T зависит от длины об-

разца, подвижности «тяжелых» электронов и может достигать десятков гигагерц.

Приборы на основе эффекта Ганна применяются в СВЧ-генераторах

èусилителях, быстродействующих цифровых и аналоговых устройствах

èназываются диодами Ганна.

Для изготовления диодов Ганна необходимы чрезвычайно чистые и однородные полупроводниковые кристаллы с малой длиной (от нескольких микрометров до нескольких сотен микрометров), с концентрацией

 

 

=j σ

 

 

 

j

 

=

E

14

16

–3

 

 

–10

см . Таким условиям в технологии производства дио-

ET

 

L v доноров 10

j

Í

 

d2

 

 

max

 

дов Ганна удовлетворяют полупроводниковые эпитаксиальные пленки.

jmin

 

Контрольные вопросы и задачи

 

 

t0

1. (АШЭП). Зависит ли электропроводность полупроводников от на-

T

t

 

пряженности электрического поля? Укажите правильные ответы.

Ответы:

1)электропроводность полупроводников σ зависит только от темпе-

ратуры и не зависит от напряженности электрического поля;

2)электропроводность полупроводников не зависит от напряженности электрического поля только в слабых полях;

3)

до критической напряженности электрического поля

σ( ) = const

и выполняется закон Ома

;

 

4)

ïðè =

происходит электрический пробой, и полупроводник

приобретает металлические свойства;

 

5)

начиная с

=

электропроводность полупроводников возраста-

ет за счет генерации дополнительных носителей заряда или изменяется за счет увеличения или уменьшения подвижности.

93

2. (А7ЭП). Почему концентрация носителей заряда в полупроводниках возрастает в сильных электрических полях?

Ответы:

1)в электрическом поле высокой напряженности повышается температура полупроводника за счет протекания электрического тока, что сопровождается тепловой ионизацией атомов кристаллической решетки;

2)во внешнем электрическом поле наблюдается термоэлектронная ионизация Френкеля, которая объясняется снижением потенциального барьера для электронов примесных атомов, вследствие чего тепловая ионизация происходит при пониженной температуре;

3)в электрическом поле электроны в зоне проводимости приобретают энергию, которая при соударении электрона с атомом кристаллической решетки достаточна для переброса нового электрона из валентной зоны

âзону проводимости;

4)в сильном электрическом поле возможно туннелирование электронов из валентной зоны в зону проводимости без получения тепловой или световой энергии;

5)увеличение концентрации свободных носителей заряда в полупроводниках возможно только при поглощении квантов тепловой (фононов) или световой (фотонов) энергии. Поэтому если влияние электрического поля не сопровождается тепловыми или световыми эффектами, то увели- чение концентрации носителей заряда в электрическом поле невозможно.

3. (Н7ПМ). Каким образом подвижность носителей заряда в полупро-

водниках связана с напряженностью внешнего электрического поля?

E

m

*

,

Ответы:

μ Í= qτ

 

 

 

 

 

1)подвижность носителей заряда в полупроводниках не зависит от

напряженности электрического поля, так как определяется только температурой;

2)зависимость подвижности от внешнего электрического поля объяс-

няется соотношением средней тепловой vò и дрейфовой vd скоростей

носителей заряда;

3) в слабых электрических полях (E <<

) в германии vd << vò ,

òàê êàê v = μ

104 ì/ñ, à v 105

м/с. В этом случае подвижность носи-

d

ò

 

 

телей заряда будет определяться только тепловой скоростью, так как а τ = l(vd + vÚ ). Таким образом, в слабых электрических по-

ëÿõ μ(E ) = const;

 

4) в сильных электрических полях, когда >

, vd > vò , проявля-

ется зависимость μ( ).

 

4. (ФЮМР). Какие из нижеприведенных положений необходимы для объяснения эффекта междолинного рассеяния?

Ответы:

1) в полупроводниках эффект междолинного рассеяния объясняется столкновениями электронов и дырок с фононами;

94

EμÚ*= qτ

Í

1

2)изменение кривизны зависимости E (k) для зоны проводимости слож-

ных полупроводников (GaAs, InP) рассматривается как существование долин, т.е. минимумов на кривой E(k);

3)в долине 1 с большей кривизной зависимости E(k) эффективная

масса электронов меньше, чем в долине 2 с меньшей кривизной E(k).

Тогда электроны долины 1 называют «легкими», а долины 2 — «тяжелыми»;

4) в соответствии с формулой подвижность электронов

âдолинах 1 и 2 будет различной: μ1 > μ2;

5)подвижность электронов уменьшается при их переходе из долины 1 в долину 2.

5. (ММЭП). Выделите особенности электропроводности двухдолинных

полупроводников:

1)

в слабых электрических полях при E<

электроны зоны прово-

димости находятся в долине 1.

В этом случае выполняется закон Ома

(j

), так как подвижность всех «легких» электронов μ1( ) = const;

2)

в электрическом поле при

=

начинается переход электронов

из долины 1 в долину 2. Эффективная масса электронов в долине 2 увели- чивается, а подвижность уменьшается, вследствие чего замедляется скорость роста плотности тока при дальнейшем увеличении напряженности поля;

3)

в электрических полях

>

все электроны переходят в доли-

m*

 

 

 

μ

=

 

ну 2 одновременно, где их подвижность

2

 

const;

4)

в электрических полях с

>

 

количество электронов, перехо-

дящих из долины 1 в долину 2, возрастает в соответствии с ростом энергии, получаемой от электрического поля. Снижение скорости роста электрического тока сменяется его уменьшением при непрерывном увеличении напряженности электрического поля;

5) ïðè =

все электроны оказываются «тяжелыми», т.е. перешед-

шими в долину 2, и в дальнейшем при увеличении

снова выполняется

закон Ома (j

). Однако наклон зависимости j(

) будет значительно

ниже, чем в области <

.

 

6. (НОЭГ). Укажите пункты, которые объясняют физическую сущ-

ность эффекта Ганна:

1)эффект Ганна представляет собой изменение электропроводности полупроводника в высокочастотном магнитном поле;

2)эффект Ганна — это возникновение неоднородностей удельного

сопротивления в полупроводнике при включении внешнего электриче- ского поля;

3)эффект Ганна заключается в генерации СВЧ, т.е. сверхвысокочастотных колебаний электрического тока в полупроводнике, который находится в сильном электрическом поле;

95

4)в области неоднородностей удельного сопротивления на какой-либо микронеоднородности с максимальным сопротивлением, где обычно наивысшая напряженность электрического поля, возникают междолинные переходы электронов, что приводит к зарождению домена;

5)при наличии домена через полупроводник протекает минимальный электрический ток, так как в нем участвуют только «тяжелые» электроны;

6)домен разрушается при достижении им анода, и ток возрастает до мгновенного зарождения нового домена;

7)физические процессы, объясняющие генерацию СВЧ-колебаний электрического тока при увеличении напряженности электрического поля,

можно разделить на следующие стадии: возникновение домена на соответствующей неоднородности — резкий спад тока — движение домена до анода — рост тока до зарождения нового домена.

7. (ЮВЭД). Укажите правильное определение электростатического домена в некоторых полупроводниках:

1)электростатический домен — это части объема полупроводника, самопроизвольно намагниченные до насыщения;

2)это двойной слой противоположных зарядов, возникающий в некоторых полупроводниках (GaAs, InP) в областях с микронеоднородностями удельного сопротивления вследствие междолинных переходов электронов при включении сильного электрического поля;

3)это микроскопическая область кристаллической решетки полупроводника с самопроизвольной ориентацией дипольных моментов молекул, входящих в его состав.

96

Глава 5. Генерация и рекомбинация носителей заряда

§ 5.1. Тепловая генерация

Как известно, при температуре абсолютного нуля в зоне проводимости полупроводника отсутствуют электроны, а в валентной зоне — свободные энергетические уровни — дырки (§ 1.6 и § 1.10). С повышением температуры (при T > 0) атомы кристаллической решетки совершают тепловые

колебания. В процессе тепловых колебаний за счет взаимодействия атомы передают электронам часть тепловой энергии E. Если величина энер-

гии, переданной донорному атому (в случае донорного полупроводника), соответствует соотношению

E ³ Ec - Ed ,

(5.1)

то возникает так называемая генерация основных носителей заряда — электронов. Этот процесс представляет собой переход электронов с донорного уровня в зону проводимости (рис. 5.1,à) и называется монополярной

генерацией электронов. В этом случае концентрация электронов описывается формулой (2.44).

E

E

 

E

 

 

Ec

Ec

Ec

 

 

Ed

 

 

 

 

Ei

Ei

Ei

 

 

 

Ea

 

 

 

Рис. 5.1. Образование носителей заряда в донорномE

(à),

 

Ev

Ev

v

 

aакцепторном (á·) и собственном (â) полупроводниках

Âакцепторном полупроводнике электроны валентной зоны, получив тепловую энергию

E ³ Ea - Ev ,

(5.2)

переходят на акцепторный уровень (рис. 5.1,á). Этот процесс называется

монополярной тепловой генерацией дырок, в результате которой в полупроводнике p-типа генерируются основные свободные носители заряда —

дырки, их концентрацию можно выразить формулой (2.48).

Средняя кинетическая энергия тепловых колебаний атомов в кристаллической решетке равна (3/2)k0T. При комнатной температуре (300 К)

эта величина составляет приблизительно 0,04 эВ, что соответствует условиям (5.1) и (5.2) и полной ионизации примесных атомов (§ 2.5), так как обычно энергия донорного (§ 1.11) и акцепторного (§ 1.12) уровней равна примерно 0,01 эВ.

97

Однако в общем случае средняя кинетическая энергия тепловых колебаний атомов при T » 300 К существенно меньше ширины запрещенной зоны (DE = Ec - Ev ). Но известно, что тепловая энергия неравномерно

распределяется между частицами. В каждый момент времени имеется небольшое число атомов кристаллической решетки, у которых амплитуда и энергия тепловых колебаний значительно превышают средние значе- ния. Именно за счет таких тепловых флуктуаций некоторые электроны могут перейти из валентной зоны в зону проводимости. Для такого электронного перехода необходимо, чтобы энергия тепловых колебаний (флуктуация энергии) удовлетворяла условию

E ³ Ec - Ev .

(5.3)

Âэтом случае генерируются одинаковые концентрации электронов

èдырок, и на температурных зависимостях электропроводности наблю-

даются области собственной проводимости, как, например, на рис. 3.9 и 3.10. Описанный выше процесс представляет тепловую генерацию элек- тронно-дырочных пар, или так называемую биполярную генерацию (рис. 5.1,â). Концентрация электронно-дырочных пар выражается форму-

ëîé (2.35).

Процесс тепловой генерации характеризуется скоростью генерации G0, т.е. количеством электронно-дырочных пар, создаваемых в единице

объема в единицу времени. Соответственно единица измерения величины G0 обозначается м–3 × ñ–1.

Распределение этих носителей по энергетическим состояниям в разрешенных зонах описывается равновесной функцией fÌ—Á(E) èëè fÔ—Ä(E),

так как они находятся в термодинамическом равновесии с кристалличе- ской решеткой. Соответственно такие носители называются равновесными.

§ 5.2. Неравновесные процессы в полупроводниках

Тепловая генерация не является единственным механизмом возникновения свободных носителей заряда. Они могут создаваться при воздействии на полупроводник света, корпускулярных потоков нейтронов, протонов, a-частиц, космических лучей и электрического поля, как показано

в §§ 4.2–4.4. В перечисленных случаях состояние термодинамического равновесия в полупроводнике нарушается, и закон действующих масс, представленный выражениями (2.54) и (2.55), не будет выполняться. Подвижные носители заряда уже не будут находиться в термодинамиче- ском равновесии, так как энергия электронов увеличивается за счет фотонов, а тепловая энергия кристаллической решетки остается практически неизменной. Такие носители называются неравновесными носителями заряда, а их концентрации n è p — неравновесными концентрациями.

98

На практике во многих полупроводниковых приборах (фоторезисторы, фотодиоды и др.) явление оптической генерации неравновесных носителей заряда играет главную роль. Механизм оптической генерации подобен рассмотренным в § 5.1 видам тепловой генерации. Главное отличие заключается в том, что переходы носителей, показанные на рис. 5.1, осуществляются за счет поглощения квантов света (фотонов) с энергией равной или превышающей энергию ионизации примесного уровня.

При оптической генерации неравновесные носители заряда могут иметь сразу после генерации энергию выше средней тепловой энергии равновесных частиц. В результате рассеяния на дефектах избыточная энергия неравновесных носителей заряда передается кристаллической решетке. Уже через 10–10 с неравновесные носители заряда не будут отличаться от равновесных. Неравновесные электроны, рассеивая свою избыточную энергию, «опускаются» ко дну зоны проводимости, а неравновесные дырки «поднимаются» к потолку валентной зоны.

Таким образом, энергия неравновесных носителей в разрешенных зонах непрерывно уменьшается, что заканчивается ее выравниванием с энергией равновесных носителей заряда. В этом случае концентрация электронов

 

а дырок

n = n0 +

n,

(5.4)

 

p = p0 +

 

 

E = Hω,

p,

(5.5)

2

,ãäå n è p

— концентрации избыточных (неравновесных) электронов

np > ni

 

и дырок. Для неравновесных концентраций, как отмечалось выше, закон

действующих масс (равенства (2.54) и (2.55)) не выполняется. В связи

ñэтим выделяют следующие случаи:

1)если отклонение положительное

(5.6)

то имеет место инжекция (ввод) неравновесных (избыточных) носителей заряда;

2) если отклонение отрицательное

np < n2

,

(5.7)

i

 

 

то наблюдается экстракция (вытяжка) носителей.

При наличии неравновесных носителей заряда формулы для определения концентрации электронов в зоне проводимости (2.29) и дырок в валентной зоне (2.30) не применимы. Так как в стационарном состоянии свойства избыточных носителей практически не отличаются от свойств равновесных носителей, то их концентрацию в неравновесных условиях удобно выражать формулами, подобными (2.29) и (2.30):

 

 

 

 

E

E

 

 

 

n = N

 

exp

c

Fn

 

,

(5.8)

c

 

 

 

 

 

 

k0T

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

99

Рис. 5.3. Процесс перехода электронов из зоны проводимости в валентную зону: 1 — межзонная рекомбинация; 2, 2
рекомбинация через промежуточный уровень

E

Ec

 

 

 

 

(5.9)

EFn

 

 

 

 

 

EF i

 

Величины

è

играют роль уровня

EFp

Ферми для электронов и дырок и называют-

Ev

ся квазиуровнями Ферми. Они не совпадают

друг с другом и с равновесным уровнем Фер-

Рис. 5.2. Положение

ми (рис. 5.2). К этому необходимо

добавить,

квазиуровней Ферми

что в неравновесном состоянии равновесный

для неравновесного

уровень Ферми как бы расщепляется на два

состояния собственного

квазиуровня: для электронов

è äëÿ äû-

полупроводника

 

 

 

 

 

 

ðîê

.

 

 

 

§ 5.3. Рекомбинация свободных носителей заряда

Носители заряда, созданные вследствие генерации, не могут бесконечно долго находиться в свободном состоянии в разрешенных зонах. Энергия электронов в зоне проводимости и дырок в валентной зоне уменьшается в результате процессов рассеяния. В итоге электроны оказываются на дне зоны проводимости, а дырки — у потолка валентной зоны. На последней стадии уменьшение энергии электрона может быть связано только с его переходом на свободный энергетический уровень в валентной зоне. При этом энергия электрона уменьшается скачком

на величину E (рис. 5.3). Таким обра-

зом, процесс хаотического уменьшения энергии электронов и дырок заканчивается исчезновением пары свободных носителей заряда, что называется рекомбинацией.

В рассмотренном случае, когда процесс представляет переход электрона из зоны проводимости в валентную зону, рекомбинация имеет название межзонной рекомбинации. Очевидно, что процесс рекомбинации является обратным процессу генерации.

Описанный выше процесс потери электронами избыточной энергии E = Ec Ev может сопровождаться:

1) излучением света, т.е. фотонов (излучательная рекомбинация);

EEF

p =np Nv exp

2

1

100

Соседние файлы в предмете [НЕСОРТИРОВАННОЕ]