- •Теория столкновений и обмен энергии при столкновениях
- •Активные промежуточные продукты: свободные радикалы и атомы.
- •Гомолитические и гетеролитические реакции
- •Карбены Общие сведения о карбенах
- •Электронное и геометрическое строение карбенов
- •Способы получения карбенов
- •Физические и химические свойства карбенов
- •Фотохимические реакции Основные законы фотохимии
- •Фотофизические процессы
- •Кинетика фотохимических реакций.
- •Виды и источники ионизирующих излучений
- •Технические характеристики источников излучения:
- •Количественные характеристики ионизирующих излучений
- •Радиационно-химический выход. Первичные и радиационно-химические реакции в газах. Радиационно-химические реакции в воде.
- •Плазмохимия. Типы электрических разрядов
- •Типы электрических разрядов
- •1. Искровой разряд
- •2. Коронный разряд
- •3. Дуговой разряд
- •4. Тлеющий разряд
- •Образование химически активных частиц в плазме
- •Плазмохимические реакции.
- •Общие представления о цепных реакциях
- •Особенности цепных реакций:
- •1) Стадия зарождения цепи
- •Rcoocr 2rco
- •2) Стадия продолжения (роста) цепи
- •3) Обрыв цепи
- •Длина цепи. Скорость цепных реакций
- •1) Кинетический анализ линейных цепных реакций
- •2) Кинетический анализ разветвленных цепных реакций
- •Особенности взрывных реакций. Предельные явления
- •Теория теплового взрыва н.Н. Семенова
- •Виды пламен. Распространение пламени. Детонация
- •Колебательные химические реакции. Холодные пламена.
- •Сажеобразование при горении углеводородов.
- •Механизмы образования оксидов азота
- •1. «Термические» оксиды азота
- •2. Образование “быстрых” оксидов азота.
- •Основные понятия свс процессов. Характеристики свс процессов
- •Характеристики свс процесса
- •Условия подбора компонентов свс-системы:
1. Искровой разряд
Искровой разряд возникает при высоком напряжении (несколько киловольт) при давлении порядка атмосферного. При этом возникает «канал» сильно ионизированного газа, по которому и распространяется ток. При этом газ в канале сильно нагревается, резко возрастает его давление, и, расширяясь, газ создает звуковые волны, вызывающие треск (если искра малых размеров) или гром (если искра в виде молнии).
Искровой разряд сопровождается ярким свечением и громким звуком, возникающим вследствие расширения сильно разогретого воздуха, а также излучением электромагнитных волн различных частот (радиоволны, инфракрасное и ультрафиолетовое излучения).
2. Коронный разряд
Коронный разряд возникает, если давление газа близко к атмосферному, и есть сильное неоднородное электрическое поле. Оно существует вблизи заострённых частей проводников, подключенных к высоковольтным источникам тока, а также находящихся во влажном атмосферном воздухе во время грозы.
Коронный разряд сопровождается слабым свечением и небольшим шумом.
3. Дуговой разряд
Дуговой разряд возникает, если металлические или угольные электроды, которые присоединены к полюсам источника постоянного напряжения, сначала соединить, а потом развести на небольшое расстояние. При достаточно большой напряженности поля между электродами появляется светящаяся дуга раскалённого и поэтому высокоионизированного газа. Дуговой разряд сопровождается сильным нагреванием газа (до нескольких тысяч градусов), поэтому концы электродов и сама дуга испускают ослепительный свет. КПД превращения электроэнергии в свет намного выше, чем у наилучших ламп накаливания. Поэтому там, где требуются очень мощные и яркие источники света, например в прожекторах, дуговой разряд применяется очень часто.
4. Тлеющий разряд
Тлеющий разряд возникает, если давление газа низкое (от сотых долей до нескольких мм.рт.ст.) и напряжение на электродах порядка нескольких сотен вольт. Он представляет собой слабое свечение газа, заметное только в тёмном помещении или в тёмное время суток. Тлеющий разряд применяется в светящихся трубках рекламы, заполненных неоном, аргоном, в лампах дневного света. Важнейшее современное применение тлеющий разряд получил в сравнительно недавно созданных квантовых источниках света – газовых лазерах.
Образование химически активных частиц в плазме
Высокие концентрации химически активных частиц, включая заряженные частицы и фотоны — характер-ное свойство плазмохимических систем. В плазмохимической системе такие частицы определяют не только протекание химических реакций, но все физико-мимические свойства плазмы.
Суммарная скорость химических превращений в системах, со-держащих активные частицы, определяется главным образом ба-лансом этих частиц, т. е. скоростями их генерации и распада. Рассмотрим основные процессы образования и гибели колебательно- и электронно-возбужденных молекул, свобод-ных атомов и радикалов, заряженных частиц.
Колебательное возбуждение молекул
Эффективный механизм возбуждения колебаний молекул электронным ударом заключается в прилипании электрона к молекуле с образованием неустойчивого отрицательного иона. Ион распадается с отрывом электрона и образованием молекулы в колебательно-возбужденном состоянии. Такой процесс эффективен в узком диапазоне энергий электронов (1-2 эВ), его максимальное сечение достигает 10-16 – 10-15 см2
Колебательное возбуждение может возникнуть и при соударениях тяжелых частиц за счет кинетической энергии их относительного движения, и в результате обмена колебательными квантами.
Вероятности этих процессов в зависимости от колебательного квантового числа и температуры изменяются в широких пределах: 10-5 – 10-2.
Электронное возбуждение атомов и молекул
Образование молекул в электронно-возбужденном состоянии может происходить при взаимодействии невозбужденных или уже возбужденных молекул с электронами, тяжелыми частицами и фотонами. Если исходное состояние молекулы не возбужденное, процесс возбуждения называют прямым. Если же исходное со-стояние — возбужденное и лежит ниже или выше конечного, говорят, соответственно о ступенчатых и каскадных процессах.
Источником необходимой для возбуждения энергии может быть не только кинетическая энергия относительного движения частиц и энергия фотона, но и их внутренняя энергии (электронная или колебательная). В случае атомных газов набор процессов меньше из-за отсутствия колебательных степеней свободы. Вклад разных энергий может сильно различаться в зависимости от конкретных условий в плазме.
Прямое электронное возбуждение электронным ударом в общих чертах имеет одинаковый характер для атомов и молекул.
Диссоциация молекул в неравновесной плазме
В условиях неравновесной плазмы более эффективными оказываются процессы, протекающие под действием электронного удара. При этом распад молекул может протекать как в результате возбуждений электронных состояний молекул, так и при возбуждении колебательных уровней основного электронного состояния.
Прямая диссоциация молекул путем электронного возбуждения их ударами электронов существенна лишь в плазме при давлениях ниже 100 Па
Ход процесса зависит от соотношения потенциальных кривых основного и возбужденного состояний. Приведем одну из таких кривых в качестве примера.
На данном рисунке верхнее состояние - отталкивательное. Переход в это состояние всегда приводит к распаду молекулы. Этот процесс характерен для диссоциации водорода.
Другим одностадийным процессом, ведущим к распаду молекул, является диссоциативный захват электронов. Он наблюдается для всех электроотрицательных газов, но является основным кана-лом распада молекул, по-видимому, только в случае галогенов и некоторых галогенпроизводных, например:
Cl2 + e Cl- + Cl
Ионизация молекул в неравновесной плазме
Ионизация молекул электронным ударом во многом подобна электронному возбуждению. Процесс может протекать при участии молекул, находящихся в основном состоянии, или уже возбужденных (прямая и ступенчатая ионизация). Прямая ионизация преоб-ладает в плазме при низких давлениях (100 Па) и малых сте-пенях ионизации. С ростом давления и концентрации заряженных частиц возрастает роль ступенчатой ионизации электронным уда-ром, а также других процессов ионизации, идущих с участием возбужденных частиц. Так, при соударениях возбужденных тяжелых частиц возможен процесс ассоциативной ионизации:
Al + Bn ABm ABl+ + e-
При столкновении двух тяжелых частиц, в частном случае атомов А и В, образуется нестабильная мо-лекула АВm, которая может распа-даться с образованием молекуляр-ного иона и электрона. По этой же схеме, но в обратном направлении протекает процесс диссоциативной ион-электронной рекомбинации, являющийся часто основным каналом гибели заряженных частиц в объеме неравновесной плазмы.
Образование отрицательных ионов при столкновениях электронов с молекулами
Столкновение электрона с молекулой может привести к образованию отрицательного иона при диссоциации молекулы на ионную пару:
AB + e- A+ + B- + e-
или в результате прилипания электрона.
Первый процесс требует большой затраты энергии и в усло-виях низкотемпературной плазмы, как правило, несуществен.
Процесс захвата электрона нейтральной молекулой можно рассматривать как переход между двумя состояниями молекулярного отрицательного иона. В начальном состоянии один из электронов находится на несвязывающей орбитали, так что кривая потенциальной энергии системы совпадает с кривой потенциальной энергии молекулы в невозбужденном состоянии. Результат процесса зависит от соотношения между потенциальными кривыми начального и конечного состояний.