- •1.Базовые единицы системы си.
- •1.Основные и производные единицы измерения с-мы си.
- •Основными единицами Международной системы единиц си (si) являются:
- •Производными единицами Международной системы единиц являются:
- •3)Электронная оптика является основным инструментом в электронных мик-
- •3)Обратный термоэлектрический эффект.В спае из 2 проводников с разным ко-
- •1.Реализация единицы температурной шкалы
- •3. Магното-электр. И электро-магнитный эффекты.
- •3. Термоэлектр. И терморезистивный эффекты.
- •2.Обратный пьезо-электрический эффект.
- •1.Мех.В немех.
- •2. Электронно-лучевая оптика
- •3. Единицы температурной шкалы
- •1.Основы методов визуализации узи
- •2)Методы визуализации узв классифицируются на:
- •2) Электронно-лучевая оптика
- •3)Механические испытания материалов.
- •3. Обратный пьезо-электр. Эффект.
- •Вторичные преобразов. Механич. Воздействий в немеханические.
- •Магнитоэлектрический и электромагнитный эффект.
3)Электронная оптика является основным инструментом в электронных мик-
роскопах, которые служат для исследования структуры материалов, дефектов
кристалл. решетки и деформаций на молекулярном уровне. В этих микроско-
пах изображение Получается с помощью электронов, проходящих через
объект или отраженных от него,электроные пучки формируются электромагн.
или электростат. линзами, а изображение наблюдается на люминесцентных эк-
ранах, фиксируется на фотоматериалах и с помощью высокочувствительных
детекторов выводиться на видеосистемы.Основой микроскопа является элект-
ронная пушка:
рисунок 1)термоэлектрический катод.2)электростатич.линза.3)высоковольтный источ-
ник тока.4)электромагнитная линза. 5)исследуемый объект. За счет термоэлектрон. эмиссии на вольфрамовом катоде, нагретом до 2700 К,
образуется электронное облако.За счет электростат. линзы обеспечивается
плотность тока эмиссии порядка 5*104А/см2 под действием разности потен-
цииалов порядка 30-36 кВ электроны ускоряются и направляются к иследуему
объекту.Проходя черезз линзу, происходит уменьшение сечения пучка элект-
ронов и настраивается фокусировка на исследуемый объект. Проходя через
аморфное вещ-во,электроны отклоняются от своей траектории движения и чем
> слой вещества или выше плотность, тем > угол отклонения электронов. Элек-
тронные пучки рассеянные на большой угол,не попадают на экран, поэтому
толстые участки или плотные на экране будут обозначаться темными пятнами,
и чем >электронов попадет на экран, тем светлее будет изображение.
Билет №4
1)Конделла-единица силы света-излучение платиновой лампы при начале крис-
тализации платины которая составляет 2047 градусов цельсия.Излучение осу-
ществлялось через дырку в крышке диаметром 7 мм.Вторичные эталоны выпол-
нены из вольфрамовой лампы накаливания поверенная по первичному эталону.
рисунок
1)корпус.2)корпус.3)индукционная печь.4)тигель.5)расплав платины.6)вторич-
ный эталон.7)зеркало
2)применяется в измерительных системах для определения температуры и изме-
рительных системах для не разрушающих методов контроля.
рисунок
Wп/я-энергия выхода из потенциальной ямы.Wп/б-энергия преодоления потен-
циального барьера.1)источник питания.2)спираль из тугоплавкого материала
3)электронное облако.
Эффект заключается в том что при нагревании проводников с высокой концен-
трацией свободных электронов за счёт увеличения амплитуды колебаний уве-
личивается их Ек.При определённой температуре характерной для каждого
проводника электроны выходят из потенциальной ямы.Набирают за счёт взаим-
ного сталкивания дополнительную Ек. Которая позволяет преодолеть потенции-
альный барьер проводник-вакуум.При высокой концентрации вышедших из про
водника электронов образуется электронное облако-оно с помощью специаль-
ных электромагнитных линз фокусируется и ускоряется с появлением электрон-
ного пучка. Попадая на коллектор электронов поток создаёт ЭДС для измери-
тельных систем. Воздействие потоков электронов на материал позволяет иссле-
довать их структуру. Сканирование потока электронов на экраны позволяет по-
лучить визуальное изображение (применяется в TV в старых ЭЛТ мониках).