- •1.Особенности радиоконструкций аиус
- •2.Требования к конструкциям аиус
- •3.Элементная база и поколения
- •5.Виды конструкций интегральных схем (ис), используемых в аиус.Полупроводниковая ис, пленочная ис, гибридная интегральная схема (гис)(определения).
- •6.Элемент, компонент ис. Микросборка, микроблок (определения).
- •7.Возможности реализации резисторов и конденсаторов, транзисторов и диодов в полупроводниковом и пленочном исполнении. (?!?!)
- •8.Тонкопленочные и толстопленочные гис. Характеристики, области использования.
- •9.Методы изготовления тонкопленочных и толстопленочных гис.
- •10.Подложки гис. Требования, материалы.
- •11., 13 Проводники и контактные площадки тонкопленочных гис.
- •12. Пасты толстопленочных гис. Последовательность нанесения слоев.
- •14. Тонкопленочные резисторы. Основные характеристики. Коэффициент формы. Возможные формы резисторов.
- •17.Полная относительная погрешность изготовления тонкопленочного резистора.
- •18. Последовательность расчета тонкопленочного резистора.
- •20.Тонкопленочные и толстопленочные конденсаторы. Форма, материалы. Расчет конденсатора.
- •21. Компоненты гис. Бескорпусные полупроводниковые приборы. Виды выводов.
- •22.Компоненты гис. Навесные конденсаторы, используемые в гис. Формы, характеристики, группы по температурному коэффициенту емкости (тке).
- •23.Выбор размеров подложки.
- •24.Размещение компонентов на плате. Операции крепления на подложке и присоединения компонентов к контактным площадкам.
- •25.Корпуса гис. Операции при размещении гис в корпусе.
- •26. Конструкторская документация гис. Особенности оформления чертежа «Плата».
- •27. Конструкторская документация гис. Особенности оформления чертежа «Плата. Сборочный чертеж».
1.Особенности радиоконструкций аиус
К радиоэлектронной аппаратуре относят класс изделий радиоэлектроники, вычислительной техники, которые позволяют выполнить преобразование информации, представленной в виде электромагнитных сигналов.
Процесс проектирования предусматривает этапы:
Техническое предложение
Эскизный проект (варианты эл. Базы, алгоритм функционирования…)
Технический проект (оконч. Эл. База, чертежи структурной (функциональные узлы), функциональной (физ. процессы), принципиальной (элементы в виде уго))
Рабочее проектирование (рабочие чертежи, позволяющие изготовить схему)
РЭА требуют объема, отвода тепла, электромагнитной совместимости, работу в условиях помех.
2.Требования к конструкциям аиус
Большой температурный диапазон
Большие скорости перемещения объектов носителей
Несколько вариантов алгоритмов работы
Устойчивая работа в условиях помех
Обеспечение тепловых режимов
Надежность конструкции
Снижение стоимости
Снижение трудоемкости в производстве
3.Элементная база и поколения
Эл. База – совокупность ЭРЭ из которых формируется данная конструкция
1 поколение – электр. Лампы, соединения объемным проводом (0.03-0.04 элемента на кубический сантиметр)
2 поколение – транзисторы, диоды в корпусах, дискр. Конденсаторы, резисторы, соединения – печатные электрические (1-2 элемента на сантиметр кубический)
3 поколение – интегральные схемы, степень интеграции растет. Эл. Соединения – печатные платы.
4 поколение – бескорпусные резисторы конденсаторы интегральные мс, на диэлектрической основе, соединения пленочные.
5.Виды конструкций интегральных схем (ис), используемых в аиус.Полупроводниковая ис, пленочная ис, гибридная интегральная схема (гис)(определения).
Полупроводниковая интегральная микросхема - интегральная микросхема, все элементы и межэлементные соединения которой выполнены в объеме и на поверхности полупроводника. К недостаткам полупроводниковых интегральных схем следует отнести их чувствительность к перегреву и, особенно, радиации, сложность изготовления пассивных электрорадиоэлементов (ЭРЭ), таких как резисторы, конденсаторы и т.п.
Пленочная интегральная микросхема - интегральная микросхема, все элементы и межэлементные соединения которой выполнены в виде пленок. Частными случаями являются тонкопленочные интегральные микросхемы, пассивные электрорадиоэлементы которых изготовлены в виде совокупности тонких ( менее 1 мкм ) пленок, и толстопленочных – толщиной ( 10…15 мкм). Недостатки пленочных интегральных микросхем относится то, что полупроводниковые резисторы и конденсаторы имеют низкие характеристики, такие так же как и активные ЭРЭ, как транзисторы, диоды и т.п.
Широкое распространение получили гибридные ИС – интегральные схемы, в которых применяются плёночные пассивные элементы и навесные элементы (резисторы, конденсаторы, диоды, оптроны, транзисторы), называемые компонентами ГИС. Электрические связи между элементами и компонентами осуществляются с помощью плёночного или проволочного монтажа.