Удаление фоторезиста

Удаление фоторезиста бывает жидкостным и сухим.

Методы жидкостного удаления фоторезиста:

1. Обработка в горячих органических растворителях ( диметилформамиде и др.). При этом слой фоторезиста разбухает и вымывается.

2. Обработка в кислотах - подложки кипятят в серной H₂SO₄, азотной HNO₃ кислоте или в смеси Каро. При этом слой фоторезиста разлагается и растворяется в

кислоте.

После жидкостного удаления фоторезиста подложки тщательно очищают от его остатков и от загрязнений, вносимых операциями фотолитографии.

Примечание: сухое удаление фоторезиста смотри в теме " ПХТ ".

После удаления фоторезиста на подложке остается рельефный рисунок технологического слоя, переданный с фотошаблона при помощи фоторезиста (см. рисунки в первой теме).

Тема: Изготовление фотошаблонов Урок Изготовление фотошаблонов

Фотошаблоны являются основными инструментами фотолитографии, с их помощью производится локальное облучение фоторезиста в соответствии с рисунком микросхемы.

Фотошаблон - это плоскопараллельная стеклянная пластина с нанесенным на ее рабочую поверхность непрозрачным пленочным рисунком одного из слоев микросхемы, многократно повторенным с определенным шагом.

Для выполнения непрозрачного пленочного рисунка применяют металлы ( хром Cr -металлизированные фотошаблоны ), оксиды ( Fe₂O₃ - цветные фотошаблоны ).

Точность выполнения рисунка (маски) на фотошаблоне должна отвечать самым высоким требованиям.

Основные этапы изготовления фотошаблонов

1. Изготовление первичного оригинала.

Первичный оригинал представляет собой изготовленный в увеличенном ( 1000:1; 500:1; 200:1 ) масштабе рисунок одного кристалла (модуля) микросхемы. В качестве подложек используют витринное стекло площадью ≈ 100 х 100 см². Стекло покрывают тонкой пленкой черной эмали. Затем прорезают алмазным резцом рисунок нужной конфигурации, ненужные куски пленки удаляют.

2. Изготовление промежуточного фотооригинала (пфо).

Промежуточный фотооригинал - это уменьшенное в 10 - 50 раз изображение первичного оригинала. Изготовление ПФО выполняется методом фотографирования рисунка на специальную фотопластину (стеклянную пластину со слоем фотоэмульсии) с помощью специальной фотокамеры. Когда рисунок первичного оригинала уже переснят на фотопластину, ее (фотопластину) проявляют и закрепляют (фиксируют) проявленный на фотопластине рисунок.

ПФО используется в качестве шаблона на проекционной фотолитографии.

3. Изготовление эталонного фотошаблона.

Эталонный фотошаблон - это фотошаблон с размерами элементов, соответствующими размерам элементов ИМС. Эталонный фотошаблон предназначен для последующего изготовления рабочих фотошаблонов.

Изготовление эталонного фотошаблона осуществляется уменьшением изображения ПФО до размеров ИМС и многократным повторением этого изображения на рабочей зоне светочувствительной пластины (метод шагового мультиплицирования с уменьшением масштаба). Далее фотопластины со скрытым изображением проявляют и закрепляют проявленное изображение.