- •Полупроводниковые приборы
- •Полупроводники
- •Электронно-дырочный переход
- •Вентильное свойство идеального p-n перехода
- •Емкость идеального p-n перехода
- •Полупроводниковый диод
- •Вольт-амперная характеристика реального p-n перехода. Пробой
- •Полупроводниковые приборы с одним выпрямляющим переходом
- •Биполярный транзистор
- •Полевые транзисторы
- •Особенности мощных высоковольтных транзисторов
- •Однопереходные транзисторы
- •Тиристоры
- •Усилители
- •Каскадирование как принцип построения электронных устройств
- •Классификация усилителей
- •Основные параметры усилителей
- •Обратные связи в усилителях
- •Усилители на биполярных транзисторах
- •Обеспечение начального режима работы усилителя
- •Усилитель с эмиттерной стабилизацией
- •Математические модели биполярного транзистора
- •Расчет усилителя с эмиттерной стабилизацией по переменному току
- •Усилитель с ок
- •Фазоинверсный каскад
- •Усилители постоянного тока
- •Дифференциальный усилитель
- •Выходные каскады
- •Операционный усилитель
- •Операционный усилитель как идеальный усилитель
- •Передаточная характеристика оу
- •Скорость нарастания оу
- •Упрощенная внутренняя структура оу
- •Основные схемы включения оу
- •Компенсация смещения
- •Ослабление синфазных сигналов
- •Частотная коррекция операционного усилителя
- •Использование оу при однополярном питании
- •Усилители с промежуточным преобразованием
- •Импульсные усилители
- •Общие требования к ключевым каскадам
- •Ключи на биполярных транзисторах
- •Общая характеристика
- •Расчет ключа на биполярном транзисторе
- •Повышение быстродействия ключей на биполярных транзисторах
- •Ключи на полевых транзисторах
- •Общая характеристика
- •Особенности управления мощными полевыми транзисторами
- •Регулирование мощности с использованием ключевых схем
- •Схемы формирования заданного тока и напряжения
- •Источники вторичного электропитания
- •Структура и основные параметры
- •Выпрямители
- •Устройства стабилизации мгновенных значений напряжения
- •Устройства стабилизации среднего значения напряжения
- •Импульсные стабилизаторы напряжения
- •Генераторы сигналов
- •Частотно-зависимые устройства
- •Аналоговые фильтры
- •Синтез корректирующих звеньев
- •Схемная реализация корректирующих звеньев
- •Схемная реализация регулятора
- •Библиографический список
- •Оглавление
-
Емкость идеального p-n перехода
Как отмечено ранее, приграничные зоны p-n перехода характеризуются пониженной концентрацией носителей заряда, т. е. граница p-n перехода обладает высоким удельным сопротивлением и переход можно рассматривать как конденсатор. На обкладках этого конденсатора имеются равные по величине, но противоположные по знаку заряды . Емкость, обусловленная перераспределением зарядов в p-n переходе, называется барьерной. В общем случае емкость определяется выражением . Суммарный заряд на одной из обкладок конденсатора можно найти из следующего выражения: , где S — площадь p-n перехода. Подставив зависимость (0) в последнюю формулу и продифференцировав по напряжению, получим следующее выражение для барьерной емкости:
. |
Ф4 (0) |
Первый сомножитель в (0) определяет емкость обычного плоского конденсатора, второй — характеризует зависимость барьерной емкости от приложенного обратного напряжения.
-
Полупроводниковый диод
Рассмотренный идеальный p-n переход обладает вентильным свойством: он пропускает ток в одном направлении и практически не пропускает его в противоположном направлении. Данное свойство p-n перехода используется в полупроводниковом приборе, называемом «диод».
Рис. 6 |
Реальный полупроводниковый диод имеет несимметричный p-n переход, существенно различающийся концентрацией носителей в p- и n-областях. При включении реального диода в прямом направлении преобладающее значение в формировании протекающего тока играет процесс переноса основных носителей эмиттера в базу, в которой они становятся неосновными. Данный процесс называется инжекцией. Характеристики диода, включенного в прямом направлении, определяются его эмиттером.
Обратный ток через диод определяется движением неосновных носителей базы в прилегающий к ней эмиттер. Характеристики диода в обратном включении определяются его базой.
Условно-графическое обозначение (УГО) диода показано на рис.6.
-
Вольт-амперная характеристика реального p-n перехода. Пробой
При прямом включении реального диода его ВАХ несколько отличается от рассмотренной ВАХ идеального p-n перехода, аналитически описываемой уравнением (0). В реальном диоде наблюдается падение напряжения в слоях полупроводника (особенно в области базы, отличающейся низкой концентрацией примеси) и на омических контактах. Это приводит к тому, что реально напряжение на диоде при заданном токе получается несколько больше (на доли вольта) напряжения, получаемого из (0).
Рис. 7 |
Кроме того, на обратный ток реального диода влияют поверхностные утечки, возникающие в молекулярных и ионных пленках, шунтирующих p-n переход.
На обратной ветви ВАХ диода выделяют участок пробоя, отсутствующий на ВАХ идеального p-n перехода (рис. 7).
Пробоем называется резкое изменение режима работы реального p-n перехода, находящегося под обратным напряжением. Характерной особенностью этого изменения является резкое уменьшение дифференциального сопротивления перехода , определяемого следующим выражением: .
После начала пробоя незначительное увеличение обратного напряжения вызывает значительное увеличение обратного тока. В процессе пробоя ток может увеличиваться при неизменном, или даже уменьшающемся обратном напряжении. В последнем случае дифференциальное сопротивление перехода становится отрицательным.
Природа пробоя может быть различной. Он может быть электрическим, при котором p-n переход не разрушается, и тепловым, ведущим к разрушению кристаллической решетки полупроводника. Электрический пробой связан со значительным увеличением напряженности электрического поля в p-n переходе. Различают два типа электрического пробоя: туннельный (эффект Зенера) и лавинный. Туннельный пробой характерен для полупроводников с узким p-n переходом, т. е. для полупроводников с большой концентрацией примесей. Туннельный эффект, вызывающий одноименный пробой, состоит в том, что под действием сильного электрического поля носители заряда способны просачиваться (туннелировать) через границу p-n перехода без потери энергии благодаря своим квантово-механическим свойствам. Напряжение туннельного пробоя не превышает, обычно, нескольких десятков вольт. С увеличением температуры напряжение туннельного пробоя уменьшается.
Лавинный пробой — это пробой, вызванный лавинным размножением носителей заряда под действием сильного электрического поля. Его механизм состоит в том, что в сильном электрическом поле носители заряда на длине свободного пробега приобретают кинетическую энергию, достаточную для того, чтобы при столкновении с атомами кристаллической решетки полупроводника выбить из ковалентных связей электроны, т. е. возникает ударная ионизация. Образовавшаяся при этом пара «электрон-дырка» тоже примет участие в ударной ионизации. Процесс нарастает лавинообразно и приводит к значительному возрастанию обратного тока. Лавинообразный пробой характеризуется напряжением пробоя в десятки и сотни вольт.
Тепловой пробой возникает тогда, когда мощность, выделяемая на p-n переходе при прохождении через него обратного тока, превышает мощность, которую может рассеять p-n переход. В результате происходит разогрев перехода, вызывающий дальнейшее увеличение обратного тока. Тепловой пробой может приводить к разрушению кристаллической структуры полупроводника.