- •Введение
- •Развитие электроники
- •Особые свойства электронных приборов
- •Глава 1. Физические основы проводимости полупроводников
- •1.1. Общие сведения о полупроводниковых материалах
- •1.1.1. Энергетические зонные диаграммы кристаллов
- •1.1.2. Прохождение тока через металлы
- •1.2. Собственная проводимость полупроводников
- •1.3. Примесная проводимость полупроводников
- •1.3.1. Электронная проводимость. Полупроводник n-типа
- •1.3.2. Дырочная проводимость. Полупроводник p-типа
- •1.4. Однородный и неоднородный полупроводник
- •1.5. Неравновесная концентрация носителей
- •1.6. Прохождение тока через полупроводники
- •1.7. Уточнение понятий “собственные” и “примесные” полупроводники
- •Глава 2. Количественные соотношения в физике полупроводников
- •2.1. Распределение Ферми. Плотность квантовых состояний
- •2.2. Функция распределения Ферми – Дирака
- •2.3. Плотность квантовых состояний
- •2.4. Концентрация носителей в зонах
- •2.5. Собственный полупроводник
- •2.6. Примесный полупроводник. Смещение уровня Ферми
- •Глава 3. Электронно-дырочный переход
- •3.1. Образование и свойства р-п перехода
- •3.1.1. Виды p-n переходов
- •3.1.2. Потенциальный барьер
- •3.1.3. Токи р-n перехода в равновесии
- •3.1.4. Электронно-дырочный переход при внешнем смещении
- •3.2. Вольт-амперная характеристика р-п перехода
- •3.2.2 Влияние температуры на характеристику и свойства р-п перехода
- •3.2.3. Емкость р-п перехода
- •Глава 4. Полупроводниковые диоды
- •4.1 Диоды
- •4.1.1. Реальная вольт-амперная характеристика (вах) диода
- •4.1.2. Параметры диода
- •4.2. Разновидности диодов. Точечные и плоскостные диоды
- •4.2.1. Выпрямительные и силовые диоды
- •4.2.2. Тепловой расчет полупроводниковых приборов
- •4.2.3. Кремниевые стабилитроны (опорные диоды)
- •4.2.4. Импульсные диоды
- •4.2.5. Туннельные и обращенные диоды. Туннельный эффект. Туннельные диоды (тд)
- •4.2.6. Варикапы
- •4.4. Обозначение (маркировка) несиловых диодов
- •Глава 5. Биполярный бездрейовый транзистор
- •5.1. Устройство и принцип действия
- •5.2. Основные соотношения для токов. Коэффициент передачи тока
- •5.2.1. Возможность усиления тока транзистором
- •5.3. Три схемы включения транзистора
- •5.4. Статические характеристики транзистора
- •5.5. Предельные режимы (параметры) по постоянному току транзистора
- •5.6. Малосигнальные параметры и эквивалентные схемы транзистора
- •5.6.1. Зависимость внутренних параметров транзистора от режима и от температуры
- •5.6.2. Четырехполюсниковые h-параметры транзистора и эквивалентная схема с h-параметрами
- •5.6.2.1. Определение h-параметров по статическим характеристикам
- •5.6.2.2. Связь между внутренними параметрами и h-параметрами
- •5.7. Частотные свойства транзисторов. Дрейфовый транзистор
- •5.7.1. Частотно-зависимые параметры
- •5.7.2. Дрейфовый транзистор
- •Глава 6. Полевые (униполярные) транзисторы
- •6.1. Унитрон
- •6.3. Параметры и эквивалентная схема полевого транзистора
- •6.4. Обозначение (маркировка) и типы выпускаемых транзисторов
- •Глава 7. Тиристоры
- •7.1. Устройство и принцип действия тиристоров
- •7.2. Закрытое и открытое состояние тиристора
- •7.2.1. Закрытое состояние тиристора (ключ отключен)
- •7.2.2. Открытое состояние (ключ включен)
- •7.3. Включение и выключение тиристора
- •7.4. Параметры тиристора
- •7.5. Типы и обозначения силовых тиристоров
- •Глава 8. Интегральные микросхемы.
- •8.1 Общие сведения о микросхемах.
- •8.1.1 Классификация микросхем.
- •8.1.2. Обозначения имс
- •8.2. Сведения по технологии получения имс
- •8.2.1. Исходные материалы
- •8.2.2. Групповой метод. Планарная технология
- •8.3. Планарно – эпитаксиальный цикл.
- •8.3.1. Эпитаксия.
- •8.3.2. Окисление поверхности кремния.
- •8.3.3. Первая (разделительная) диффузия.
- •8.3.4. Вторая (базовая) и третья (эмиттерная) диффузии.
- •8.3.5. Металлизация (межсоединения).
- •8.3.6. Фотолитография.
- •8.4. Особенности и перспективы развития интегральных схем.
- •8.4.1. Особенности имс.
- •8.4.2. Перспективы развития.
- •Библиографический список
- •Глава 8. Интегральные микросхемы ……………………………………… 61 Библиографический список ……………………………………………….. 78
Глава 2. Количественные соотношения в физике полупроводников
2.1. Распределение Ферми. Плотность квантовых состояний
В предыдущих разделах приведено качественное описание собственной и примесных проводимостей. Для количественной характеристики этих проводимостей, а также для определения зависимости проводимостей от температуры и других факторов нужно знать концентрацию подвижных носителей (электронов и дырок) в различных условиях. Эта концентрация может быть найдена только из зонной теории твердого тела. Ниже приводится упрощенное определение концентрации свободных носителей в собственных и примесных полупроводниках и смещение уровня Ферми в примесных полупроводниках, использующееся при дальнейшем изложении. Для определения концентрации носителей в зонной теории используется функция распределения Ферми - Дирака, заимствованная из статистической физики, и плотность квантовых состоянии g(W) (плотность энергетических уровней ) в определенном энергетическом диапазоне dW , заимствованная из квантовой механики. Все остальные математические положения зонной теории вытекают из этих двух посылок.
2.2. Функция распределения Ферми – Дирака
Из физики известно, что положение электрона может быть определено лишь в вероятностном смысле. Распределение Ферми - Дирака дает вероятность fn(W) того, что любой частный уровень энергии W занят электроном /3,4/:
, (2.1)
где WF - уровень Ферми, вероятность занятия его разна 1/2,
T - абсолютная температура по Кельвину;
k - постоянная Больцмана.
В невырожденных состояниях WWF >> кТ и распределение (2.1) переходит в классическое распределение Больцмана – Максвелла:
. (2.1)
2.3. Плотность квантовых состояний
Из квантовой механики известно, что почетность квантовых состояний в разрешенных зонах изменяется по определенным законам.
В частности, для нижнего края зоны проводимости и верхнего края валентной зоны плотность квантовых состояний g(W) (плотности энергетических уровней) в узком диапазоне энергии dW на уровне W определяется следующим выражением /3,4/ (а единицах объема – уровни/(Джсм3) ):
, (2.3 )
где Wгр - энергия границы зоны (верхнего края валентной зоны или нижнего края зоны проводимости);
, (2.4)
mэф - эффективная масса (электрона - в зоне проводимости, дырки - в валентной зоне);
h - постоянная Планка.
2.4. Концентрация носителей в зонах
Концентрация электронов dn в диапазоне энергий dW около уровня W в зоне проводимости может быть определена как произведение вероятности fn(W) занятия электронами уровня W на количество уровней g(W) dW в этом диапазоне:
.
Тогда концентрация электронов n по всей зоне проводимости определится интегрированием dn от нижнего края Wc в глубь зоны (для невырожденных полупроводников в зоне проводимости справедливо (2.2)):
, (2.5)
где
. (2.6)
Интеграл (2.5) приводится к табличному подстановкой . Nc называют эффективной плотностью состояний в зоне проводимости. Практически - это максимально возможная концентрация n в невырожденном состоянии, равная приблизительно 51019 см3. CC - коэффициент из (2.4), в котором mэф - эффективная масса электрона в зоне проводимости.
Концентрация дырок в валентной зоне находится таким же образом, только вместо fn(W) подставляется вероятность появления дырки в валентной зоне fp(W), равная вероятности отсутствия электрона на этом уровне:
.
а интегрирование по W производится от верхнего края вглубь валентной зоны:
, (2.7)
где
. (2.8)
называют эффективной плотностью состояний в валентной зоне. Практически равна максимальной концентрации дырок в невырожденном состоянии: Nc.
=1,7 и 2,8 для Ge и Si, т.е. эти значения близки, поэтому – коэффициент из (2.4), где mэф эффективная масса дырки в валентной зоне.
Концентрация свободных носителей n, p в (2.5) и (2.7) определена при заданной температуре Т0 через неизвестный уровень Ферми WF. В общем случае уровень Ферми сам является функцией концентрации носителей. Общее решение этой задачи довольно сложно, но для некоторых частных случаев уровень Ферми WF может быть легко найден. Ниже находится используемый в последующем изложении уровень Ферми для собственного и примесного полупроводников при температуре 300 К. Уровень WF определяется при тепловом равновесии из условий электрической нейтральности полупроводника (закона сохранения заряда).