- •Математические модели радиокомпонент Методические указания к лабораторным работам
- •Оглавление
- •Ключевая задача №1
- •Рекомендуемая учебно-методическая литература
- •1.4 Задание к выполняемой работе
- •1.5 Содержание отчета
- •2.1 Цель работы
- •2.2 Подготовка к работе
- •Модели электростатических полей
- •Модели электрического тока в полупроводниках
- •Модели резисторов
- •Омические контакты
- •Длина l
- •2.3 Краткие теоретические сведения
- •2.3.1 Справочные данные для расчетов моделей подвижностей и удельных сопротивлений для различных полупроводниковых материалов
- •2.3.2 Поверхностное сопротивление резистивного слоя и коэффициент формы резистора.
- •Рекомендуемая учебно-методическая литература
- •2.5 Содержание отчета
- •3.1 Цель работы
- •3.2 Подготовка к работе
- •Модели неравновесных процессов в полупроводниках
- •Основные физические одномерные модели резких p-n переходов
- •Физическая схемотехническая модель реального диода (для программы pspice)
- •Рекомендуемая учебно-методическая литература
- •3.4 Задание к выполняемой работе
- •Часть 1
- •Часть 2
- •Часть 3
- •5. Содержание отчета
- •4.1 Цель работы
- •Модель Гуммеля-Пуна для бт в программе pspice
- •4.3 Краткие теоретические сведения
- •Рекомендуемая учебно-методическая литература
- •4.4. Задание к выполняемой работе
- •Часть 1 Исследование модели тока связи бт
- •Часть 2 Исследование основных параметров бт
- •Раздел 3 Исследование модели Эберса-Молла
- •Раздел 4 Исследование модели Гуммеля-Пуна
- •5. Содержание отчета
- •Математические модели радиокомпонент
3.4 Задание к выполняемой работе
3.4.1 Выбор варианта
В соответствии с таблицей 3.1 и указаниями преподавателя выбрать вариант исходных данных для работы.
Таблица 3.1 варианты исходных данных
№ варианта |
Полупроводник |
Концентрация легирующей примеси в эмиттере Nэ(см-3) |
Концентрация легирующей примеси в базе NБ (см-3) |
Геометрические размеры резистора ( мкм) |
Сечение захвата (см-2) |
1 |
Германий |
110+18 |
210+15 |
LБАЗЫ=10 LЭМИТ=2 W=500 H=200 |
210-16 |
2 |
Германий |
210+17 |
810+14 |
LБАЗЫ=10 LЭМИТ=2 W=600 H=400 |
210-15 |
3 |
Германий |
110+18 |
210+14 |
LБАЗЫ=10 LЭМИТ=1 W=500 H=300 |
410-16 |
4 |
Германий |
810+17 |
410+15 |
LБАЗЫ=10 LЭМИТ=1 W=500 H=200 |
110-16 |
5 |
Кремний |
410+16 |
110+15 |
LБАЗЫ=8 LЭМИТ=2 W=700 H=200 |
210-16 |
6 |
Кремний |
210+17 |
810+14 |
LБАЗЫ=8 LЭМИТ=2 W=500 H=300 |
210-15 |
7 |
Кремний |
610+17 |
110+14 |
LБАЗЫ=9 LЭМИТ=3 W=400 H=200 |
410-16 |
8 |
Кремний |
210+15 |
110+15 |
LБАЗЫ=9 LЭМИТ=3 W=500 H=250 |
110-16 |
P.S Варианты 9-16 получаются из вариантов 1-8 путем перехода от p-n к n-p структурам
Часть 1
3.4.2 На PC (персональном компьютере) изучить правила работы
Изучить структуру листа Excel “Основные параметры материалов”
Все зеленые поля соответствуют входным данным, которые должны быть заполнены в соответствии с заданием. Желтые и голубые поля автоматически вычисляются в Excel.
3.4.3 Подготовить исходные данные для выполнения работы
Для этого необходимо в соответствии с исходными данными варианта задания в листе Excel “Основные параметры материалов”:
выбрать нужный тип полупроводника и легирующей примеси в базе и эмиттере;
в концентрационных таблицах установить значения N в базе и эмиттере;
задать типы основных и неосновных носителей в базе и эмиттере;
по графикам концентрационной зависимости подвижностей от концентрации при 300 К задать подвижности основных и неосновных носителей для трех концентрационных значений;
задать геометрические размеры диода.
установить требуемое сечение захвата и комнатную температуру 300К
3.4.4 Исследовать зависимость времени жизни от концентрации легирующей примеси.
записать модель времени жизни для выбранного материала и определить ее входные параметры;
найти значения времен жизни неосновных носителей при различных температурах, заполнить таблицу:
-
Nmin
N
Nmax
Эмиттер
(сек) при 300К
Эмиттер
(сек) при 400К
Эмиттер
(сек) при 500К
База
(сек) при 300К
База
(сек) при 400К
База
(сек) при 500К
построить семейство концентрационных графиков времени жизни неосновных носителей с температурой в качестве параметра
как влияет смена типа материала на время жизни неосновных носителей?
насколько процентов изменится время жизни неосновных носителей в базе при фиксированных N и температуре T=300К, если сечение захвата увеличится на 1%?
сделать выводы
3.4.5 Исследовать свойства диффузионной длины неосновных носителей
записать модель диффузионной длины и определить ее входные параметры;
найти значения диффузионной длины неосновных носителей при различных температурах, заполнить таблицу:
-
Nmin
N
Nmax
Эмиттер
L (см) при 300К
Эмиттер
L (см) при 400К
Эмиттер
L (см) при 500К
База
L (см) при 300К
База
L (см) при 400К
База
L (см) при 500К
построить семейство концентрационных графиков диффузионной длины неосновных носителей с температурой в качестве параметра
диод с какой базой (длинной или короткой) рассматривается в вашем варианте?
как влияет смена типа материала на диффузионную длину неосновных носителей в эмиттере?
насколько процентов изменится диффузионная длина неосновных носителей в базе при фиксированных N и температуре T=300К, если сечение захвата увеличится на 1%?
сделать выводы
3.4.6 Исследовать модель тока насыщения Is идеального диода в модели Шокли
записать модель тока насыщения Is для ВАХ идеального диода в модели Шокли и определить ее входные параметры
найти значения тока насыщения Is при различных температурах, заполнить таблицу:
Nmin
N
Nmax
Isбазы при 300К
Isэмиттера при 300К
Isпри 300К
Isпри 350К
Isпри 400К
построить семейство температурной зависимости тока насыщения Is с концентрациями в базе и эмиттере в качестве параметра;
насколько процентов изменится ток насыщения Is при фиксированных N в базе и эмиттере и температуре T=300К, если сечение захвата увеличится на 1%?
насколько процентов изменится ток насыщения Is при фиксированных N в базе и эмиттере и температуре T=300К, если площадь поперечного сечения увеличиться на 1%?
чувствительность по какому параметру — сечению захвата или площади поперечного сечения наивысшая?
сделать выводы
3.4.7 Исследовать модель контактной разности потенциалов
записать модель контактной разности потенциалов к и определить ее входные параметры
найти значения контактной разности потенциалов к при различных температурах, заполнить таблицу:
Концентрация в базе
Nmin
N
Nmax
кпри 300К
кпри 350К
кпри 400К
построить семейство температурной зависимости контактной разности потенциалов к с концентрацией в базе в качестве параметра;
как влияет смена типа материала на контактную разность потенциалов к?
сделать выводы
3.4.8 Исследовать модель толщины ОПЗ
записать модель толщины ОПЗ ( W) и определить ее входные параметры
найти значения толщины ОПЗ (W) при различных температурах для напряжения U=0, заполнить таблицу:
Nmin
N
Nmax
Wбазы при 300К
Wэмиттера при 300К
Wпри 300К
Wпри 350К
Wпри 400К
построить семейство температурной зависимости толщины ОПЗ W с концентрацией в базе в качестве параметра;
приняв за ноль положение металлургической границы, графически изобразить положение границ ОПЗ для разных концентраций в базе и температуре;
как влияет смена типа материала на толщину ОПЗ ?
найти зависимость толщины ОПЗ при температуре T=300К от U при прямом и обратном смещениях напряжения на диоде, заполнить таблицу
Напряжение (Вольт)
Nmin
N
Nmax
Прямое
U1
U2
U3
U4
U5
Обратное
U1
U2
U3
U4
U5
построить графики семейства зависимостей толщины ОПЗ W от напряжения с величиной концентрации легирования в базе в качестве параметра;
сделать выводы