Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Аналоговые запоминающие и адаптивные элементы

..pdf
Скачиваний:
7
Добавлен:
24.10.2023
Размер:
9.92 Mб
Скачать

В плоских пленках с разомкнутым магиитопроводом условия зародышеобразования легче выполняются на краях пленочных пятен. При достижении внешним полем величины, близкой к ко­ эрцитивной силе Нс, эти краевые домены прорастают с противо­ положных краев до последующего слияния. Перемагничивание обычно завершается движением стенок в направлении трудной

оси.

Запись многоуровневой информации можно

производить

серией

импульсов постоянной или

меняющейся

амплитуды.

В этом случае необходимо выполнить

условие

# > # « , , где Hw

поле начала

необратимого смещения

стенок

зародышей (коэр-

цитивность

стенки).

 

 

 

В соответствии с теорией импульсного перемагничивания ско­ рость движения стенок v пропорциональна давлению стенок 2JS(H—Hw) и обратно пропорциональна их «трению», т. е.

v =

^

( H - H w ) ,

(1-32)

где

Js

— намагниченность

насыщения материала пленки; |3 —

коэффициент потерь, учитывающий потери на спиновую релак­

сацию и вихревые

токи.

Отсюда величина, обратная времени перемагничивания

пленки,

 

±-=Uf{H-Hv),

(1-33)

где с? —среднее расстояние, проходимое стенкой за время пере­ магничивания.

Таким образом, воздействуя на насыщенную пленку серией импульсов поля H>HW с длительностью, меньшей времени пол­ ного перемагничивания, можно получить в принципе любую промежуточную доменную конфигурацию, характеризуемую значением остаточного потока Фв^Ф'ост + Фв-

Следует

учесть, что для получения достаточно

монотонной

зависимости

изменения Ф о с т от количества

импульсов внешнего

поля число

центров зародышеобразования

должно

оставаться

постоянным и независимым от величины внешнего поля. Обычно такими центрами являются краевые зародышеобразования. В случае зависимости числа зародышей обратной намагничен­ ности от внешнего поля процесс перемагничивания может про­ текать на несколько порядков быстрее, чем это следует из формулы (1-33), из-за лавинообразного процесса слияния гра­ ниц вновь образующихся и растущих от краев зародышей. Та­ кой лавинообразный процесс может полностью нарушить моно­ тонность характеристики вход — выход элемента. Поэтому для

71

использования в адаптивных элементах следует выбирать плен­ ки с критическим полем зародышеобразования HN>HW. По­ скольку зародышеобразование связано с некогерентным враще­ нием, то требование HN~>HW в конечном итоге сводится к ре­ комендации использовать неинверсные пленки с Нь_>Нс, где Ни — поле анизотропии, Нс — коэрцитивная сила пленки. В на­ чальном состоянии подразумевается априорное существование желаемых доменных стенок, обычно возникающих вследствие краевых эффектов.

Краевая зона плоских ТМП с разомкнутым магнитопроводом является особенно благоприятной для зародышеобразова­ ния. Локальное размагничивающее поле для однородно намаг­

ниченного образца

здесь

приближается к величине 2 л / я

и

может

быть существенно

больше

Hw. Поэтому краевая зона,

как

отме­

чалось, может служить, с одной стороны, источником управляе­ мого (информационного) зародышеобразования, а с другой — неуправляемого (ненужного, вредного) зародышеобразования обратных доменов. При неудачно выбранной геометрии элемен­ тов, а также из-за низких значений порогов . сползания домен­ ных стенок эта зона может стать главной причиной разрушения полезной информации. Основными средствами для уменьшения влияния краевой зоны на стабильность хранения информации

можно

считать:

1) применение элементов канальной геометрии, т. е. ТМП,

сильно

вытянутых вдоль оси легкого намагничивания;

2)

использование замыкающих магнитопроводов (киперов)

и магнитно-связанных ТМП, а также цилиндрических ТМП с за­ мыканием магнитного потока;

3) контроль коэрцитивное™ доменных стенок посредством специальных технологических приемов [Л. 155].

На рис. 1-30 показано движение доменных стенок в длинном узком ферромагнитном канале (рис. 1-30,а) и круглой пленке

(рис. 1-30,6) под действием импульсов поля

вдоль оси

легкого

намагничивания ( О Л Н ) . Как следует из

рисунка, в

круглой

пленке при воздействии поля вдоль ОЛН происходит вначале встречное прорастание «обратных» доменов до слияния, а затем боковое движение стенок вдоль оси трудного намагничивания (ОТН) пленки. На краях круглой пленки всегда существует множество «обратных» доменов, число которых не удается кон­ тролировать. Пороговые характеристики круглых пленок не удовлетворяют условиям матричной выборки элемента, а ха­ рактеристики адаптации часто неоднозначны. Исследования, проведенные с круглыми ТМП, тем не менее показали, что прин­ ципиально возможно реализовать тонкопленочные АЭ в виде

72

твердотельной матрицы с неразрушающим считыванием «содер­ жания» веса [Л. 165].

Для достижения однородного и однонаправленного продви­ жения доменной верхушки в ТМП Сакураи {Л. 166] впервые применил пленку в виде сильно вытянутого канала. Элемент Сакураи изображен на рис. 1-31. Элемент представляет собой четырехслойную конструкцию. На стекло для лучшей адгезии последующих слоев нанесен слой окиси кремния толщиной око­ ло 1 мкм. На слой окиси кремния напылен подслой алюминия так, что на поверхности окиси кремния образуются узкие про­ межутки канальной формы размерами 4,0X0,25 мм. Затем

сверху

сплошным

слоем

наносят

ферромагнитную

пленку,

со-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

о

 

 

 

 

стоящую из 80%

N i , 20%

Fe. Толщина

пленки 700

А. Там,

где

пленка

непосредственно

соприкасается

с

алюминием,

коэрци-

тивность ее составляет 6,5 а/см,

в

тех

же

местах, где

ферромаг­

нетик

лег на

окись кремния, коэрцитивность

составляет

около

1,5

а/см.

Целью

такой конструкции является

обеспечение

одно­

 

 

 

 

 

 

 

 

направленности

продвижения

до­

 

ОТН

-

 

 

 

 

менной стенки

при приложении

им­

 

 

 

 

 

пульсов поля вдоль ОЛН. Как вид­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ОЛН

 

 

 

 

но из рис. 1-30,а,

перемагничивание

 

 

 

 

 

 

 

 

узкой пленки в однородном поле на­

 

 

 

 

 

 

 

 

чинается сразу с обоих концов ка­

 

 

 

 

 

 

 

 

нала

 

и носит

характер

 

встречного

 

 

 

 

 

 

 

 

продвижения

доменных

 

стенок.

 

 

 

 

 

 

 

 

В элементе Сакураи этого не проис­

 

 

 

 

 

 

 

 

ходит. За счет подавления зародыш-

 

 

 

 

 

 

 

 

шей обратных доменов на краях ка­

 

 

 

 

 

 

 

 

нала,

окруженного алюминием, про­

 

 

 

 

 

 

 

 

растание

стенки происходит

 

всегда

 

 

 

 

 

 

 

 

с «открытого»

конца элемента,

как

 

 

 

 

 

 

 

 

показано

на

рис. 1-31,е. Этим

до­

 

 

 

 

 

 

 

 

стигается лучшая линейность ха ­

 

 

 

 

 

 

 

 

рактеристики

продвижения

стенки и

 

 

 

 

 

 

 

 

увеличение числа ее стабильных по­

 

 

 

 

а)

 

 

 

ложений

на

длине канала

при

за ­

 

 

 

 

 

 

 

данной форме

импульса.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Рис.

1-30.

Иллюстрация

дви­

На рис. 1-32 представлены харак­

жения

 

доменной

 

границы

теристики

продвижения

верхушки;'

в

узком

 

ферромагнитном

обратного домена в низкокоэрцитив-:

тонкопленочном

канале

(а)

ном

канале

под совместным

 

дейст-\

и

рост

клиновидных

 

доменов

 

 

вием импульсного поля

вдоль легкой ^

в

круглой

пленке

под

действием

импульсов

 

адап­

оси и синусоидального поля возбуж­

тации

(б).

 

 

 

дения

вдоль

трудной оси

намагни-

73

чивания пленки [Л. 166]. Длительность

импульсов была

выбрана

относительно

большой

и

составляла

30 мсек

при

амплитуде

2,0 а/см.

Частота

поля

возбуждения

 

1 ООО гц

при

амплитудах

поля соответственно 0,97; 0,87 и 0,81

а/см. По оси абсцисс отло­

жено число

поданных

импульсов

п,

а по оси ординат — путь /,

пройденный

доменной

стенкой в

миллиметрах.

Длина

канала

(активная длина

элемента)

составляла 4 мм. Число

стабильных

состояний

стенки

не превышает 72.

 

 

 

 

 

На рис. 1-33 приведены характеристики продвижения домен­ ной стенки в низкокоэрцитивном канале длиной 12 мм для раз­

личных

параметров

продвигающего

поля

(1—Ял

= 2,2 а/см;

7 Л = 12,5

мксек;

2—#п

= 2,83

а/см;

7^=1,3

мксек;

3—Ял=

= 2,2 а/см;

7 Л = 1,3 мксек) и

при

фиксированной

частоте и

амплитуде

поля

возбуждения

(1 000

гц

и 2,0

а/см соответствен­

но). Элемент имеет до 500 устойчивых состояний при хорошей линейности характеристик. Элемент Сакураи относительно сло­ жен и рассчитан на использование в элементах аналоговой па­ мяти, в связи с чем главной целью исследований было дости­ жение приемлемой линейности накопительных характеристик.

Требованиям применения тонкопленочных АЭ в адаптивных устройствах в большой степени отвечает конструкция АЭ, пред­ ложенная В . А. Гостевым [Л. 167]. Элемент представляет собой тонкую пленку / (рис. 1-34,а) сильно вытянутой формы, нане­ сенную на немагнитную непроводящую подложку 2, например стеклянную пластину. На противоположной стороне подложки, непосредственно под ферромагнитным каналом, размещен про­ водник возбуждения 3. Проводники 4, создающие поле продви­ жения стенки, смещены к одному из концов канала. Цель такой конструкции—обеспечить однонаправленное продвижение стенки вдоль канала при перемагничивании последнего. Как показал эксперимент [Л. 167], стенка обратного домена 5, зародившись на краю канала под шинами продвижения, продвигается в не­ однородном поле вдоль канала лишь под участком, охваченным шинами. Встречного движения обратных доменов с противопо­ ложных концов канала не происходит. Типовые размеры канала 6,0X2,0X0,00015 мм.

Конструкция, приведенная на рис. 1-34,а, может быть легко трансформирована в конструкцию, объединяющую в одном тон­ копленочном канале два адаптивных элемента. На рис. 1-34,6 изображены два АЭ, выполненные на одной ферромагнитной пленке. Оба элемента имеют общую шину возбуждения и инди­ видуальные продвигающие шины. Продвижение доменной вер­ хушки имеет место лишь при совместном действии двух полей: поля возбуждения и поля продвижения. Это обстоятельство по-

74

Ni.Fe Al SiO Стекло

Рис.

1-31.

Адаптивный

эле­

мент

на основе

узкого

низко­

коэрцитивного

канала

(1),

окруженного

высококоэрци­

тивной

пленкой

(2).

 

а вид

в

разрезе;

б элемент

намагничен

до

насыщения;

в — процесс

движения

обратного

домена

3.

 

 

 

ММ [_ \

0.87

0,81

 

Рис.

1-32.

Характеристики

продвижения

 

доменной

стенки

в низкокоэрцитивном

канале

при

различных

амплитудах

поля

возбуждения.

 

Рис. 1-33. Характеристики продвижения доменной стенки в канале при различных длительностях продвигающих импульсов (Ню = 1,74 а/см).

зволяет на основе приведенной кон­

струкции АЭ осуществить

матрич­

ную выборку

произвольного

элемен­

та

по

принципу

совпадения

(см.

§ 4-5).

 

 

 

 

 

 

 

На

рис. 1-35

приведена

 

схема

для

снятия

рабочих

характеристик

элементов в

реальном

режиме фор­

мирования,

хранения

и разрушаю­

щего считывания

аналоговой инфор­

мации.

 

 

 

 

 

[

Источником

переменного

поля,

возбуждения

по трудной оси Я т слу­

жат полосковые шины 3, в которые подается синусоидальный ток / т ча'^ стоты f T с генератора 2. Нужцую шину можно выбрать переключат/е-г лем. Импульсное поле вдоль лег'кой,

оси

Я л

задается

генератором ,../^.щ>-

дающим импульс тока 1Я в плоскою,

четырехвитковую

катушку

^ . ^ о | р , ^

рая,

кроме

того,

является

 

f.c^iiVrbi-r

вающей.

 

 

 

 

 

 

 

 

. w i e / V '

Как

показывают визуальные на^

блюдения

 

на

 

м а гн итооптической.

установке

 

Керра, при подачу имп^ль^

сов

т л

 

перемагничив§ет^ 0 1 Т 0 льф -

тот элемент,

который

находится над.

возбужденной

шиной

З.^.О^талЩйё

элементы

 

остаются

р,(щ^рщфц

'Э ) со-

стоянии.

Контроль

 

'^^р^руцхецщ

уровня

остаточного^' 'эдот^а/;'д6(ЭД^

окончания

импульса, Т л ^ с у з д е с ^ л ^ -

ется

селективным' (',вр,л,ьхметр,Р!ц.' ^

выделяющим

 

сигналn ( ^acj|o( fь/i, "27.т>

амплитуда

 

 

 

 

v -

'

 

нальна Ф 0

 

 

 

 

 

 

 

 

сигнал

микр

 

ЖШЩ4%ШЖМ

плитудный

 

 

вход

осциллографа

5;

Д^ля.двтрМ.а^

тической г

п регистрации ^'йзмёйёнйг

потока

 

 

 

 

 

^д^^^^^уищцЩ.уё^-

пульсов: .

 

I c

^

f

i ^ T

^ a J

'

l ^ ^ ^

дим ^к^т^Ч^ШкШ^{}1сШь

Я?

навливающий элемент

памяти

в исходное состояние в момент

достижения насыщения

( Ф 0 с т =

Ф8). Эту функцию выполняет ге­

нератор 5, который, кроме того, осуществляет синхронизацию ге­ нератора / и запуск развертки осциллографа 8. В результате на экране осциллографа можно визуально наблюдать и фотогра­ фировать ступенчатую кривую, характеризующую собой зависи­ мость выходного сигнала от числа импульсов записи. В дальней­ шем эту зависимость будем называть характеристикой накопле­ ния. Каждая ступенька этой характеристики соответствует опре­ деленному уровню остаточного потока Ф 0 с т - На рис. 1-36 показа­ ны фотографии выходного напряжения адаптивного элемента по

схеме

рис.

1-34.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

На

рис.

1-37

показано семейство

характеристик есч(п,

/л)

для

элементов,

где

есч(п,

/ л )

— э . д.

с , пропорциональная

уров­

ню

остаточного

магнитного

потока,

п — число

импульсов

про­

двигающего

поля

Я л

вдоль

легкой

оси

пленки.

Отметим, что

току / л = 80

ма

соответствует поле Я л = 2

а/см.

Характеристики

были

сняты

при постоянной амплитуде синусоидального тока

( / л

= 30 ма),

близком к пороговому,

т. е. такому,

при котором

в отсутствие тока еще не происходит разрушения уровня оста­

точного

потока. Длительность импульсов тока / л (10 мксек) и

частота

(1,5 Мгц) тока / т поддерживались постоянными.

Магнитные пленки вначале насыщались установочным им­ пульсом с генератора 6, а затем каждым импульсом поля Я л переключались в новые состояния. Через 150—200 импульсов записи вновь поступал установочный импульс и режим периоди­ чески повторялся. Ток возбуждения действовал на пленки непре­ рывно.

Как видно из рис. 1-37, все кривые семейства есч(п, / л ) не­ линейны. Порядок нижеприведенных факторов определяет сте­ пень их влияния на нелинейность кривых. Первый фактор — большое число стенок и зародышей обратной намагниченности, возникающих в момент действия первых импульсов записи после насыщения в обратном направлении. Второй — плавное увеличе­ ние порогового поля движения стенок по мере приближения к состоянию насыщения. Это, в частности, связано с тем, что здесь размагниченное состояние энергетически выгоднее, нежели насыщенное. Третий фактор связан с неоднородностью поля полосковой шины возбуждения, которое спадает у краев шины. Он вступает в силу при боковом движении доменных стенок параллельно легкой оси пленки.

На рис. 1-38 приведены накопительные характеристики АЭ по схеме рис. 1-34, снятые для различных длительностей импуль­ сов продвигающих токов / л . Как следует из рисунка, накопле-

76

 

 

 

0

б)

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

|J||1||1||J||1|

 

 

г-1И

 

 

 

 

 

I

6

 

 

 

 

 

 

 

Рыл. 1-34. Адаптивный

элемент

на ТМП канальной

 

геометрии

(а).

Сдвоенный АЭ на основе одного

тонкопленочного

канала с

общей

шиной возбуждения

(б).

 

 

 

 

Рис. 1-35. Схема испытаний адаптивных элементов на п. лоских ТМП.

77

ние 100 импульсов не является пре­ делом накопительных возможностей элемента.

Возможность применения цилин­ дрических тонких магнитных пленок ( Ц Т М П ) , нанесенных на проводя­ щую проволочную подложку, была подробно исследована В. А. Госте­ вым [Л. 168]. Особенностью ЦТМП является замкнутый магнитопровод (обычно вдоль легкой оси) и боль­ шая толщина покрытия, позволяю­ щая получить больший выходной сигнал по сравнению с плоскими ТМП.

Для экспериментов были выбра­ ны обычные ЦТМП, предназначаю­ щиеся для двоичного ЗУ. Основные

статические

параметры

партии

пле­

нок

были

следующими

[Л.

168]:

# с =

1,0-И,4

а/см, c t = l l - f - 3 °

(ди­

сперсия

легкой

оси),

 

# й = 2 , 6 - ь

3,1 а/см,

(5= 11 + 3 ° (скос легкой оси),

d = l

мкм

(толщина

Т М П ) ,

D —

= 200

 

мкм

(диаметр

 

подложки).

Наиболее подходящим режимом

за­

писи

каждого

 

из

промежуточных

состояний, как

и для

плоских ТМП,

оказывается

 

сползание

доменных

стенок,

вызываемое

одновременным

воздействием на

магнитную пленку

ортогональных

полей — переменного

Я т с

частотой

/ т

по

трудной оси и

постоянного

Я л

вдоль

легкой

оси.

Более удобно в технических приме­ нениях говорить об импульсном по­

ле Нл. Для возникновения

сполза­

ния необходимо

выполнить

условия:

Тл.имп>1//т,

а

также Я Т

> Я Т . П и

Я л > # л . п ,

где # т . п и # л . п некото­

рые пороговые значения полей вдоль трудной и легкой осей соответствен­ но. Для ЦТМП, обладающих при­ емлемыми пороговыми характери-

Рис. 1-36. Осциллограмма накопительной характеристи­ ки АЭ по схеме рис. 1-34.

1.0

40

-1,0

Рис.

1-37.

Накопительные

ха­

рактеристики

адаптивного

элемента

по

схеме

рис.

1-34

для

фиксированной

длительно­

сти

продвигающих

импульсов

Тимп = /(7

мксек.

 

 

78

Рис. 1-38. Накопительные

ха­

рактеристики

адаптивного

 

элемента по

схеме рис. 1-34

для

фиксированной

амплитуды

продвигающих

 

импуль­

 

сов

1Л=20

ма.

 

 

3 4

к - *--г».

Синхроимпульс

Рис. 1-39. Схема

испытаний

адаптивных элементов на ЦТМП.

стиками, управление ортогональны­ ми полями означает возможность матричной выборки. Кроме того, ма­ лые скорости сползания позволяют получать за время действия поля Я л малые приращения магнитного по­ тока и достаточную точность при записи.

На рис. 1-39 приведена схема экспериментального стенда для сня­ тия основных характеристик много­ уровневых запоминающих элементов на ЦТМП [Л. 168].

Источником переменного поля Я т служит генератор / совместно с десятивитковым соленоидом. Импульс­ ное поле Я л создается генератором 5. Контроль без разрушения уровня остаточного магнитного потока, до­ стигаемого в результате записи, про­

изводится после окончания

импуль­

са поля Я л . Поле Я Т )

действующее

теперь

как

поле опроса,

вызывает

обратимые

колебания

вектора сум­

марной

намагниченности

Jj

вокруг

равновесного состояния

в

соответст­

вии с простой моделью вращения. Обратимость вращения Js достига­

ется

за

счет того, что Я т , необходи­

мое

для

начала

сползания

стенок,

гораздо

меньше

Яд, а также

Я т . п .

Составляющая с частотой 2/т выделяется и усиливается селектив­ ным вольтметром 3 (В6 - 1) . Генера­ тор 6 осуществляет установку эле­ мента памяти 2 в исходное состоя­ ние в момент достижения насыще­ ния, а также синхронизирует гене­ ратор 5 и запускает развертку ос­ циллографа 4. Автоматический ре­ жим позволяет наблюдать визуаль­ но и фотографировать ступенчатую кривую е с ч ( п , / л ) . Одна из таких кривых показана на рис. 1-40.

79

 

На рис. 1-41

изображено

семей­

ство

кривых

есч{п,

 

 

/ л

) ,

где

е с ч

э. д. с , пропорциональная, как ука­

зывалось,

уровню

Фост, га число

импульсов

 

поля

Я л ,

а

/ л — ток,

создающий поле Я л

 

(току 7 = 1 0 0 ма

соответствует

поле

 

Я = 0 , 7

 

а/см).

Семейство

 

кривых

было

снято

при

постоянных

значениях

 

тока

/ т =

= 25

ма

(амплитудное

значение),

длительности

импульсов

 

поля

Я л

т л

= 1

мксек

и

частоте

/ т

тока

/ т ,

равной 2,5 Мгц. Установочный им­

пульс

с

генератора

 

6

поступал че­

рез 40—50 импульсов

записи, и ре­

жим

периодически

повторялся.

 

б)

Запись

 

информации

 

 

в

АЭ

 

 

с использованием

 

 

 

процессов

 

 

вращения

 

 

намагниченности

 

 

 

Запись вращением вектора

намагни­

ченности

осуществляется

в

режиме,

близком к режиму записи, принято­

му

в

двоичных

ЗУ

 

на ТМП, при

Я Л < Я С и Я Т > Я Й .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

На рис. 1-42,а представлен АЭ на

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

о

двойных

пленках

толщиной

4 000 А

каждая [Л. 165]. Временная диаграм­

ма

работы

 

элемента

 

приведена

на

рис. 1-42,6. Поле вдоль

трудной оси

спадает экспоненциально. В

момент

уменьшения этого поля в шину, со­

здающую

поле вдоль легкой оси, по- _

ступает

импульс

записи

 

длитель­

ностью 75 нсек.

Уровень

записи ана­

логовой

информации

определяется -

амплитудой

 

импульса.

 

Длитель­

ность

импульса

тока,

создающего

поле

вдоль

 

трудной

 

оси,

порядка

100 нсек.

Линейность

 

характеристи­

ки

вход — выход

составляет + 1 0 %

в интервале

+ 3 5 %

 

динамического

диапазона

работы

элемента.

Поле

Т "

WtfHtf iiiilut uiiliur

 

m\mу

 

 

 

 

 

 

 

|№

г

 

iililmi lllllllll

iniliui

•iiiN

 

 

Mll|lll MiijiMi rrlrfmr /iHjliK

 

 

 

lllllflll lllllllll finliiii

 

-,..,(.„.

 

 

•"•Г"!

Ml|lllf MII|MI[

_ 1 "

 

Рис. 1-40. Типовая

осцилло­

грамма выходного

напряжения

адаптивного

элемента

на

ЦТМП.

 

 

Рис.

1-41. Накопительные ха­

рактеристики

для

адаптив­

ных

элементов

на

ЦТМП.

t--=!,0

мксек.

 

 

80

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ