- •Физика конденсированного состояния
- •Часть II физика диэлектриков
- •Лабораторная работа № 1 Исследование молекулярных центров с водородной связью, изолированных в матрице ионных кристаллов
- •Введение
- •Классификация водородных связей
- •Методика измерения ик-спектров
- •Вопросы и задания
- •Литература
- •Положение, интенсивность и полуширина f-полосы
- •Порядок выполнения работы
- •Описание установки
- •Задания
- •Контрольные вопросы
- •Литература
- •Экспериментальная установка
- •Порядок выполнения работы
- •Контрольные вопросы
- •Литература
- •644077, Г. Омск-77, пр. Мира, 55а, госуниверситет
Методика измерения ик-спектров
1. Получить кристаллы у преподавателя или лаборанта.
2. Поставить образцы на отжиг в муфельную печь, прогреть при 5000С в течение 15–20 мин.
3. Включить ИК-спектрофотометр согласно описанию.
4. После охлаждения образца до комнатной температуры записать ИК-спектр и идентифицировать наличие в кристалле изолированных молекул О–Н по полосе поглощения 3720 см–1.
5. Облучить образец в течение 1 ч. на γ-установке «Исследователь», предварительно завернув его в фольгу во избежание загрязнения поверхности.
6. Записать ИК-спектр облученного образца, идентифицировать образование центров с водородной связью по широкой полосе в области 3000–3400 см–1 (vs-полоса);
7. Определить ширину vs-полосы, сдвиг максимума относительно полосы 3720 см–1.
Вопросы и задания
1. Объяснить полученные результаты на основе модели бесконечно глубокой потенциальной ямы, локализовавшей протон, воспользовавшись работами [4, 5].
2. Почему после образований водородной связи нужно говорить не об атоме водорода в молекулярном центре ОН–…Halio, а о протоне?
3. Вычислить кривые энергии осциллятора О–Н и протона в бесконечно глубокой потенциальной яме с d = 2,01 А.
Литература
Эмсли Дж. Очень сильные водородные связи. – М., 1981. – С. 55.
Чанг Р. Физическая химия. – М., 1980. – С. 169.
Пиментел Дж. Водородная связь. – М., 1964. – С. 560.
Алексеев П.Д., Баранов Г.И. Образование водородной связи в LiF:OH при гамма-облучении // Физика твердого тела. – 1980. – Вып. 4. – С. 1213–1215.
Алексеев П.Д. ИК-спектры ЩГК:ОН – до и после гамма-облучения и их природа // Оптика и спектроскопия. –1985. – Т. 59. – Вып. 3. – С. 567–572.
Лабораторная работа № 2
Измерение характеристик F-полосы и определение
концентрации F-центров в ионных кристаллах
Цель работы: оптическими методами исследовать радиационные дефекты в матрице облученных ионных кристаллов.
Принадлежности: щелочногалоидные кристаллы (LiF, NaF, NaCl, KCl, KBr), спектрофотометр СФ-26, установка «Исследователь».
Введение
При действии ионизирующего излучения на щелочногалоидные кристаллы (LiF, NaCl, KBr, KI, RbCl, CsBr и т. п.) происходят разнообразные процессы: образование электронных и дырочных центров окраски, возникновение щелочного металла в коллоидной форме и молекулярного галогена, накопление электрического заряда, изменение механических свойств и др.
После облучения ионных кристаллов ионизирующим излучением они окрашиваются. Окраска обусловлена соответствующими центрами поглощения, получившими название центров окраски (ЦО). Центры окраски, возникающие при облучении ЩГК, подразделяются на электронные и дырочные. В образовании первых участвуют электроны, а вторых – дырки.
Электронные центры окраски. Простейшим электронным центром окраски в облученных ЩГК является F-центр – анионная вакансия, локализовавшая электрон . Схема этого центра приведена на рис. 1. В зависимости от природы ЩГК F-центры имеют полосы оптического поглощения в ультрафиолетовой, видимой и ближней инфракрасной областях спектра (табл. 1).
Рис. 1. Схема F-
и F'-центров
(соответственно a и b) в щелочногалоидном
кристалле: 1 – галоген;
2 – металл;
3 – электрон
Таблица 1 |
|
Кристалл |
λmax, нм |
LiF |
250 |
NaF |
341 |
NaCl |
458 |
KCl |
556 |
KBr |
625 |
KI |
689 |
Дырочные центры окраски. Дырочные центры в ЩГК возникают при локализации дырок на галогенид-ионах и подразделяются на первичные и вторичные. Первичные центры образуются в идеальной решетке кристалла. Вторичные центры появляются в результате взаимодействия первичных центров с дефектами структуры и примесями.
К первичным центрам относятся Н- и VK-центры. Образование Н-центров происходит при облучении ЩГК при низких температурах. Этот дефект представляет собой молекулярный ион галогена , находящийся в анионном узле кристаллической решетки, причем он взаимодействует с двумя соседними ионами галогена, так что получается частица типа (например, в кристалле KCl). Схема Н-центра в ЩГК представлена на рис. 2.
В физико-химическом отношении Н-центр эквивалентен междоузельному атому галогена. При действии ионизирующего излучения Н-центры образуются одновременно с F-центрами. Пара, состоящая из F- и Н-центров, представляет собой дефект Френкеля. При их рекомбинации решетка восстанавливается.
О
Таблица 2
Кристалл
λmax,
нм
NaCl
330
KCl
345
KBr
380
KI
445; 555
RbBr
382*
CsBr
437; 490
*
При 16 К
Рис. 2. Схема Н-
и VK-центров
(соответственно a
и b)
в щелочногалоидном кристалле: 1 –
галоген; 2 – металл
VK-центр – это дырка, локализованная на двух соседних ионах галогена, т. е. (см. рис. 2). Этот центр получил такое название по той причине, что обусловленная им полоса поглощения смещена от полосы поглощения F-центра к фиолетовому концу спектра (от немецкого Violetzentrum – фиолетовый центр). В VK-центре расстояние между ядрами галогена на 30–40 % меньше, чем расстояние между ионами галогена в идеальной решетке.