Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Конспект лекций ч.2 doc.doc
Скачиваний:
16
Добавлен:
05.12.2018
Размер:
1.07 Mб
Скачать

Зависимость концентрации носителей заряда от температуры. Элементы статистики электронов.

Из выражения для собственной концентрации носителей заряда

Находим зависимость логарифма ni от T:

Рассмотрим примесный полупроводник.

В широком диапазоне температур и для различного содержания примесей имеют место температурные зависимости концентрации носителей заряда в полупроводнике n-типа, показанные на рис.42. Проанализируем случаи:

а) NД1 - малая концентрация доноров. В области низких температур увеличение концентрации электронов при нагревании полупроводника обусловлено возрастанием степени ионизации доноров (участок 1-4). Каждый ионизированный донор можно рассматривать как центр, захвативший дырку.

Учитывая, что общее число энергетических состояний на донорных уровнях в расчете на единицу объема равно NД1, то для концентрации ионизированных доноров рД можно записать

где ЭД1 - положение донорного уровня, причем энергетический уровень будет вырожденным, если одному и тому же значению энергии соответствуют различные состояния электрона (например, отличие в магнитных спинах).

  1. При не очень низкой температуре, если учесть, что концентрация ионизированных доноров равна концентрации электронов и что на донорном уровне лишь один электрон условие

, gД=2, g0=1

дает

Отсюда

И соответственно

(а)

где ЭД1СД1.

  1. Если температура низкая и

то

g=2 и

Аналогично

  1. В общем случае

g0=1 - число квантовых состояний для пустого энергетического уровня

gД=2 - число квантовых состояний для заполненного примесного (донорного) уровня

Это так называемое квантовомеханическое вырождение энергетического уровня.

Из выражения (а) следует, что наклон прямой на учаске 1-4 характеризует энергию ионизации примесей.

При дальнейшем повышении температуры при некоторой температуре (точка 4) все электроны с примесных уровней будут переброшены в зону проводимости. При этом вероятность ионизации собственных атомов полупроводника еще очень мала. Поэтому в достаточно широком температурном диапазоне (участок 4-6) концентрация носителей заряда остается постоянной и практически равной концентрации доноров. Этот участок называется областью истощения примесей.

При относительно высоких температурах (участок кривой за точкой 6) происходит переход в область собственной проводимости (перебросы электронов из валентной зоны через запрещенную в зону проводимости).

Крутизна кривой определяется Э - шириной запрещенной зоны.

Тi - температура перехода к собственной электропроводности. Тi для большинства полупроводников много больше Ткомнатн.

При повышении NД (NД2>NД1) кривые температурной зависимости смещаются вверх. Это следует из выражения (а). С повышением концентрации примесей уменьшается расстояние между атомами примесей. Это приводит к более сильному взаимодействию электронных оболочек примесных атомов и к расщеплению дискретных энергетических уровней в примесные зоны.

При достаточно большой концентрации NД3 их энергия ионизации ЭД3=0, т.к. образовавшаяся примесная зона перекрывается зоной проводимости, т.е. такой полупроводник является вырожденным и способен проводить электрический ток при очень низких температурах.

Вырожденные полупроводники иногда называют полуметаллами.