- •Федеральное агентство по образованию
- •Конспект лекций
- •1 Цели и задачи изучения дисциплины
- •1.1 Цель преподавания дисциплины
- •1.2 Задачи изучения дисциплины
- •Часть 2. Электротехнические материалы
- •Классификация этм по электропроводности
- •Диэлектрики. Электропроводность диэлектриков в слабых полях
- •Для газов мала: 1,000072…1,0019
- •Электропроводность диэлектриков в сильных полях Пробивное напряжение и электрическая прочность
- •Определение электрической прочности
- •Электрический пробой
- •Электротепловой пробой
- •Количество отводимого тепла определяется равенством
- •Электротепловой пробой
- •Электрохимический пробой
- •Пробой газообразных диэлектриков
- •Пробой жидких диэлектриков
- •Пробой твердых диэлектриков
- •Проводниковые, полупроводниковые и сврхпроводящие материалы Проводники п рирода проводимости и основные характеристики проводниковых материалов
- •Зависимость удельного электрического сопротивления металлов от температуры
- •Физическая природа сверхпроводимости
- •Магнитные элементы и материалы Физические процессы в магнитных элементах
- •Потери в обмотках
- •Поверхностный эффект или эффект вытеснения тока
- •Эффект близости
- •Потери в сердечнике
- •Магнитные материалы
- •Схемы замещения магнитных элементов
- •Контрольные вопросы
- •Особенности электpопpоводности полупpоводников
- •Примесные полупроводники
- •Кристаллическая решетка примесного полупроводника
- •Основные и неосновные носители заряда.
- •Зависимость концентрации носителей заряда от температуры. Элементы статистики электронов.
- •Положение уровня Ферми.
Зависимость концентрации носителей заряда от температуры. Элементы статистики электронов.
Из выражения для собственной концентрации носителей заряда
Находим зависимость логарифма ni от T:
Рассмотрим примесный полупроводник.
В широком диапазоне температур и для различного содержания примесей имеют место температурные зависимости концентрации носителей заряда в полупроводнике n-типа, показанные на рис.42. Проанализируем случаи:
а) NД1 - малая концентрация доноров. В области низких температур увеличение концентрации электронов при нагревании полупроводника обусловлено возрастанием степени ионизации доноров (участок 1-4). Каждый ионизированный донор можно рассматривать как центр, захвативший дырку.
Учитывая, что общее число энергетических состояний на донорных уровнях в расчете на единицу объема равно NД1, то для концентрации ионизированных доноров рД можно записать
где ЭД1 - положение донорного уровня, причем энергетический уровень будет вырожденным, если одному и тому же значению энергии соответствуют различные состояния электрона (например, отличие в магнитных спинах).
-
При не очень низкой температуре, если учесть, что концентрация ионизированных доноров равна концентрации электронов и что на донорном уровне лишь один электрон условие
, gД=2, g0=1
дает
Отсюда
И соответственно
(а)
где ЭД1=ЭС-ЭД1.
-
Если температура низкая и
то
g=2 и
Аналогично
-
В общем случае
g0=1 - число квантовых состояний для пустого энергетического уровня
gД=2 - число квантовых состояний для заполненного примесного (донорного) уровня
Это так называемое квантовомеханическое вырождение энергетического уровня.
Из выражения (а) следует, что наклон прямой на учаске 1-4 характеризует энергию ионизации примесей.
При дальнейшем повышении температуры при некоторой температуре (точка 4) все электроны с примесных уровней будут переброшены в зону проводимости. При этом вероятность ионизации собственных атомов полупроводника еще очень мала. Поэтому в достаточно широком температурном диапазоне (участок 4-6) концентрация носителей заряда остается постоянной и практически равной концентрации доноров. Этот участок называется областью истощения примесей.
При относительно высоких температурах (участок кривой за точкой 6) происходит переход в область собственной проводимости (перебросы электронов из валентной зоны через запрещенную в зону проводимости).
Крутизна кривой определяется Э - шириной запрещенной зоны.
Тi - температура перехода к собственной электропроводности. Тi для большинства полупроводников много больше Ткомнатн.
При повышении NД (NД2>NД1) кривые температурной зависимости смещаются вверх. Это следует из выражения (а). С повышением концентрации примесей уменьшается расстояние между атомами примесей. Это приводит к более сильному взаимодействию электронных оболочек примесных атомов и к расщеплению дискретных энергетических уровней в примесные зоны.
При достаточно большой концентрации NД3 их энергия ионизации ЭД3=0, т.к. образовавшаяся примесная зона перекрывается зоной проводимости, т.е. такой полупроводник является вырожденным и способен проводить электрический ток при очень низких температурах.
Вырожденные полупроводники иногда называют полуметаллами.