- •Введение
- •Лабораторная работа “Измерение ватт-амперных характеристик инжекционного лазера при различных температурах”
- •Относительная спектральная характеристика инжекционного лазера
- •Диаграмма направленности инжекционного лазера
- •Ватт-амперные характеристики инжекционного лазера при различных температурах
- •Зонная диаграмма инжекционного квантоворазмерного InGaAsP/InPлазера
- •Инжекционный лазер с резонатором Фабри-Перо
- •Инжекционный лазер с распределенной обратной связью
- •Внешний вид волоконно-оптического лазерного модуля
- •Конструкция волоконно-оптического лазерного модуля
- •Блок-схема лабораторной установки
- •Лабораторная работа “Измерение фотоэлектрических характеристик p-I-nфотодиода”
- •Вольт-амперные характеристики p-I-nфотодиода при различных уровнях мощности оптического излучения
- •Энергетическая характеристика p-I-nфотодиода
- •Относительная спектральная характеристика монохроматической чувствительности p-I-nфотодиода
- •CтруктураInGaAs/InPp-I-nфотодиода и его зонная диаграмма
- •Относительная спектральная характеристика InGaAs/ InP p-I-nфотодиода
- •Внешний вид волоконно-оптического фотодиодного модуля
- •Зависимость темнового тока InGaAs/InP p-I-nфотодиода от напряжения обратного смещения
- •Блок-схема лабораторной установки
- •Лабораторная работа “Измерение амплитудно-частотной характеристики p-I-nфотодиода”
- •Переходные характеристики p-I-nфотодиода
- •Частотная характеристика p-I-nфотодиода
- •Зависимость предельной частоты InGaAs/InPp-I-nфотодиода от толщины поглощающегоi-слоя при различных диаметрах фоточувствительной области
- •Эквивалентная электрическая схема p-I-nфотодиода
- •Блок-схема лабораторной установки
- •Лабораторная работа “Измерение фотоэлектрических характеристик лавинного фотодиода”
- •Вольт-амперные характеристики лавинного фотодиода в темновом режиме и при освещении, а также вольтовая характеристика коэффициента умножения
- •Структура InGaAs/InPлавинного фотодиода
- •Блок-схема лабораторной установки
- •Лабораторная работа “Измерение токовой характеристики силы излучения светодиода”
- •Энергетические и фотометрические величины оптического излучения
- •Относительная спектральная характеристика светодиода
- •Диаграмма направленности светодиода
- •Токовые характеристики силы излучения (силы света) в максимуме диаграммы направленности светодиода при различных температурах
- •Поперечное сечение светодиода
- •Внешний вид 5 мм светодиода
- •Относительная спектральная характеристика квантоворазмерного GaAlAs суперяркого красного светодиода
- •Диаграмма направленности квантоворазмерного GaAlAs суперяркого красного светодиода
- •Блок-схема лабораторной установки
- •Спектральная характеристика кремниевого p-I-nфотодиода
- •Относительная спектральная характеристика монохроматической чувствительности глаза человека
- •Оценка погрешностей результатов измерений
- •Значение коэффициента Стьюдента tдля случайной величиныX, имеющей распределение Стьюдента с (n-1) степенями свободы
- •Ряд экспериментальных значений
- •Ряд случайных отклонений результатов
- •Литература
Зонная диаграмма инжекционного квантоворазмерного InGaAsP/InPлазера
При рекомбинации электронов и дырок выделяется энергия, равная разности энергетических состояний носителей. Выделяемая энергия может быть излучена в виде фотона или безызлучательно передана кристаллической решетке. Излучательная рекомбинация может осуществляться различными способами: при переходах электронов из зоны проводимости в валентную зону или на примесный акцепторный уровень, при переходах с донорного уровня в валентную зону или на акцепторный уровень. На выбор материала для инжекционного лазера существенно влияют микроструктура поля кристаллической решетки и определяемая ею структура границ энергетических зон. При квантовых переходах, помимо закона сохранения энергии, выполняется также закон сохранения импульса. Импульс фотона по сравнению с импульсом электрона имеет ничтожно малую величину. Поэтому, если импульсы электрона в начальном и конечном состояниях одинаковы, то кристаллическая решетка не участвует во взаимодействии. Квантовые переходы, при которых импульс частиц не меняется, называются прямыми. Наоборот, при непрямых переходах электроны изменяют свой импульс, и тогда во взаимодействии участвует кристаллическая решетка, обеспечивающая выполнение закона сохранения импульса. Вероятность непрямых переходов существенно меньше, чем прямых, поскольку при рекомбинации электрона и дырки кристаллическая решетка должна одновременно получить или передать импульс, то есть обладать определенной локальной интенсивностью колебаний. Очень часто непрямые переходы бывают безызлучательными, когда вся энергия, выделяющаяся при рекомбинации, передается кристаллической решетке. В настоящее время для создания инжекционных лазеров используются только такие материалы, в которых вследствие специфической структуры границ энергетических зон возможны прямые переходы. К ним относятся соединения АIIIBV,AIIBVIAIVBVIи их твердые растворы. Германий и кремний не удовлетворяют этому условию.
Инжекционные лазеры существенно отличаются от других типов лазеров (твердотельных или газовых):
квантовые переходы в инжекционных лазерах обусловлены зонной структурой материала, поэтому в них достигается большое внутренне усиление;
инжекционные лазеры имеют малые размеры (до 100 мкм в длину, порядка нескольких микрометров в ширину, и доли микрометра толщиной), поэтому они имеют широкую диаграмму излучения;
лазерное излучение возникает непосредственно под действием тока, протекающего через прямо смещенный диод, что позволяет проводить модуляцию мощности излучения лазерного диода за счет модуляции тока накачки;
наличие встроенного оптического резонатора, образованного либо гранями кристалла (лазерный диод с резонатором Фабри-Перо, Рис. 3.2.), либо с помощью нанесения дифракционной решетки на поверхности кристалла (лазерный диод с распределенной обратной связью, Рис. 3.3.).
Современные инжекционные лазеры изготавливаются на основе многослойной структуры из полупроводников с различной шириной запрещенной зоны, образующих p-nпереход. В центре располагают слои с более узкой шириной запрещенной зоны и с более высоким показателем преломления по сравнению с наружными слоями, что приводит к ограничению носителей заряда с помощью потенциальных барьеров на гетерограницах (Рис. 3.1.) и ограничению фотонов с помощью эффекта полного отражения излучения в центре лазера. Следует отметить, что квантоворазмерные гетероструктуры, в которых толщина слоев порядка нескольких нанометров, обладают наибольшим усилением благодаря лучшему ограничению носителей заряда и фотонов. Набор квантовых ям используется для умножения усиления, что приводит к снижению порогового тока квантоворазмерного инжекционного лазера. Типичное число квантовых ям в современных инжекционных лазеров составляет от 3 до 10.
Рис. 3.4. показывает схема включения лазерного диода в СВЧ диапазоне и на низких или высоких частотах. Изменение температуры приводит к незначительному изменению длины волны излучения и порогового тока, поэтому на практике применяют специальные меры по стабилизации мощности излучения инжекционного лазера.