- •210202 – Проектирование и технология электронно-вычислительных средств,
- •140609 – Электрооборудование летательных аппаратов,
- •140610 – Электрооборудование и электрохозяйство предприятий, организаций и учреждений
- •Рецензенты:
- •Предисловие
- •1. Основные сведения о физических явлениях и процессах в полупроводниковых структурах
- •1.1. Основные понятия и уравнения твердотельной электроники
- •Температурный потенциал
- •Закон действующих масс
- •1.2. Электронно-дырочный переход
- •1.2.2. Образование переходов методом диффузии.
- •1.3. Структура "металл-полупроводник"
- •1.4. Структура "металл-диэлектрик-полупроводник"
- •2. Состав индивидуального задания
- •Заключение
- •Библиографический список и требования к нему
- •4. Варианты индивидуальных заданий
- •4.1. Электронно-дырочный переход Варианты 1.1 – 1.12
- •Варианты 2.1 – 2.12
- •Варианты 3.1 – 3.5
- •Варианты 4.1 – 4.5
- •4.2. Структура металл-полупроводник Варианты 5.1 – 5.5
- •4.3. Структура металл-диэлектрик-полупроводник Варианты 6.1 – 6.5;
- •5. Некоторые Примеры расчетов электрофизических характеристик полупроводниковых структур
- •Решение
- •Решение
- •Решение
- •Решение
- •Решение
- •Решение
- •Приложения п 1. Соотношения между некоторыми физическими единицами. Множители для образования дольных и кратных единиц
- •П 2. Некоторые физические постоянные
- •П 3. Основные параметры и свойства некоторых полупроводников и диэлектриков, применяемых в твердотельной электронике
- •П 4. Логарифмический масштаб
- •П 9. Темы рефератов
- •210202 – Проектирование и технология электронно-вычислительных средств,
- •140609 – Электрооборудование летательных аппаратов,
- •140610 – Электрооборудование и электрохозяйство предприятий, организаций и учреждений
Решение
Поскольку
q =qМ–qп=0,5 эВ,
получим
qп=qМq0=4,750,5=4,25 эВ.
Воспользовавшись рис. 4, можно записать:
qпqæ =(EcEfn),
откуда следует
EcEfn=4,254=0,2 эВ;
EfnEi=(EcEi)(EcEfn).
Таким образом,
EfnEi=0,5620,2=0,362 эВ.
Теперь, используя уравнение
,
можно рассчитать концентрацию примеси в полупроводнике:
n=ND=niexp(0,362/0,0258)=1,5∙1010exp(0,362/0,0258)=
=1,8∙1016см-3.
Из уравнения, приведенного в пункте 1.3.1, следует, что напряженность электрического поля в ОПЗ максимальна (Em) при U = 0. Рассчитаем вначале ширину ОПЗ при U = 0:
см,
а затем напряженность электрического поля:
В/см.
Пример 6. Идеальный МДП-конденсатор сформирован на основе кремниевой подложки р-типа с концентрацией NA = 1015 см-3. Диэлектрический слой имеет толщину 100 нм. Разность работ выхода электрона из металла и полупроводника составляет qМП = 0,9 эВ. Плотность заряда на границе раздела Qss = 810-8 Кл/см-2. Вычислите максимальную толщину обедненной области Wmax , емкость диэлектрического слоя, заряд в обедненной области (Qs), пороговое напряжение и минимальную емкость МДП-конденсатора, а также его пороговое напряжение с учетом влияния напряжения плоских зон.
Решение
Для расчета максимальной толщины обедненной области Wmax вычислим сначала величину объемного потенциала:
об=Tln(NA/ni)=0,026ln(1015/1,51010)=0,29 B.
Тогда
мкм,
а емкость диэлектрического слоя
Cd=0d/d=8,8510-144/10-5=3,4510-8 Ф/см2.
Заряд в обеденной области рассчитаем следующим образом:
QB=Qs =qNAWmax=1,610-1910150,8710-4=1,3910-8 Кл/см2,
тогда пороговое напряжение
Uпор=2bQs/Cd =20,29+1,3910-8/3,4510-8=0,98 B.
Емкость обеденного слоя полупроводника
С=Сп =0s/Wmax=8,8510-1412/0,8710-4=1,210-8 Ф/см2,
а общая емкость МДП-структуры при наличии обедненного слоя
Ф/см2.
Пороговое напряжение с учетом влияние напряжения плоских зон
U/пор =МП+2обр(Qss +Qs)/Cd=0,9+0,576
(510111,610-19 1,3910-8)/3,4510-8 = 2,24 B.
Приложения п 1. Соотношения между некоторыми физическими единицами. Множители для образования дольных и кратных единиц
1 ампер (А) =1 Кл/с
1 ангстрем = 10-10 м = 10-4 мкм
1 атмосфера (ат) = 760 мм рт. ст. = 101 325 Па
1 кулон (Кл) =1 А×с
1 электрон-вольт (эВ) = 1,60×10-19 Дж
1 фарад (Ф) = 1 Кл/В
1 калория (кал) = 4,1868 Дж
1 генри (Гн) = 1 В×с/А
1 джоуль (Дж) =107 эрг = 1 Вт×с = 6,25×1018 эВ=1Н×м=1Кл×В
1 микрометр (мкм) = 10-6 м
1 ньютон (Н) = 1 кг×м/с2
1 сименс (См) = 1 Ом-1
1 тесла (Тл) = 1 Вб/м2
1 вольт (В) = 1 Вт/А
1 ватт (Вт) = 1 Дж/с
1 вебер (Вб) = 1 В×с
гига (Г) = ´ 109
мега (М)= ´ 106
кило (к) = ´ 103
микро (мк) = ´ 10-6
нано (н) = ´ 10-9
пико (п) = ´ 10-12
П 2. Некоторые физические постоянные
Наименование |
Символ |
Числовое значение |
Скорость света в вакууме |
с |
2,998×108 м/с |
Заряд электрона |
q |
1,602×10-19 Кл |
Масса покоя электрона |
m |
9,109×10-31 кг |
Отношение заряда электрона к его массе |
q/m
|
1,759×10-11 Кл/кг
|
Постоянная Планка |
h |
6,626×10-34 Дж×с |
Приведенная постоянная Планка, равная h/2p |
ħ |
1,055×10-34 Дж×с |
Постоянная Больцмана |
k |
1,381×10-23 Дж/К |
Постоянная Стефана - Больцмана |
|
5,670×10-8 Вт/(м2×К4) |
Число Авогадро |
NA |
6,023×1023 1/моль |
Постоянная Фарадея |
F |
6,649×104 Кл/моль |
Магнитная постоянная |
m0 |
1,257×10-6 Гн/м |
Электрическая постоянная |
e0 |
8,849×10-12Ф/м |
Температурный потенциал при температуре 300 К |
jT |
25,8 мВ |
Постоянная Ридберга |
R |
1,097×107 1/м |