Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Билеты 1_5.doc
Скачиваний:
7
Добавлен:
21.04.2019
Размер:
9.21 Mб
Скачать

3. Изобразить алгоритм реализации основных этапов автоматизированного тп сборки и монтажа ячейки эу по варианту III,б с поверхностно-монтируемым объемным соединителем.

Для варианта III характерны: большой выбор ПМК и ТМК, в том числе с учётом оптимизации выбора по их стоимости, сложности конструкции, выходным функциональным параметрам, массогабаритным показателям, температурной совместимости с материалами КП, минимальному количеству сборочных автоматов и другим критериям; большая точность монтажа, чем при реализации варианта II; уменьшение объема ЭУ на 20 – 60% по сравнению с ТМ; возможность использования, наряду с новыми, традиционных средств для сборки и монтажа; возможность изготовления уникальных ЭУ (как в отношении конструкции, так и функциональных особенностей). Однако в отдельных разновидностях его реализация (например, вариант III, в, г, см. рис. 9.5) невозможна без применения ручных процессов сборки и монтажа ТМК. Вместе с тем этот вариант требует дополнительных средств реализации сборочных и монтажных операций (при этом увеличивается парк технологического оборудования и количество разнообразной оснастки), многоступенчатого процесса пайки, а также затрудняет выполнение операций контроля, испытаний и устранения дефектов сборки и монтажа смонтированных ЭУ. Таким образом, данный вариант сборки и монтажа является самым сложным и дорогим при реализации, особенно если речь идет о его наиболее сложных разновидностях в, г (см. рис.9.5, вариант III). И тем не менее, преимущественное использование разновидностей варианта III характерно для современных производств, адаптирующихся к требованиям и условиям ТПМ.

Билет № 3

1. Конструкторско-технологические показатели эвс I…V поколений, направления совершенствования.

Таблица1.1.

Конструкторско-технологические показатели поколений ЭВМ.

Показатель

Поколения Э В М

I

II

III

IV

V

Тип элементной базы

Электровакуумные лампы, дискретные пассивные компоненты

Дискрет-

ные полупроводниковые приборы и пассивные компоне-

нты

Интеграль-ные схемы в корпусах и др.

ИС, БИС, СБИС, микросборки (МСБ), в том числе бескорпус-

ные

СБИС, УБИС в кристаллодержателях и на лентах-носителях (в том числе 2-х и 3-х мерные вертикально-совмещенные УБИС), изделия функциональной микроэлектроники и др.

Уровень интеграции, полупроводниковой элемент-

ной базы, элементов/кристалл

0

10

до103

до107

более 107

Принцип конструирования

Блочный

Функционально-узловой

Функционально-модульный

Особенности монтажа

С использованием проводов; монтажных колонок, вставляемых в ламповые панельки; жгутов; шасси.

С использованием одно- и двухсторонних печатных плат; жгутов; микроплат.

С использованием двухсторонних печатных плат, гибких кабелей и шлейфов; многослойных печатных плат.

С использованием техники поверхностного монтажа, многослой-ных коммутационных плат, гибких кабелей и шлейфов.

С использованием техники поверхностного монтажа, включая полимерную технологию и биотехнологии (систолические контакты), многослойных коммутационных плат, включая рельефные и др.

Продолжение табл.1.1.

Показатель

Поколения Э В М

I

II

III

IV

V

Особенности конструкций и общая характеристика ЭВМ.

Конструкция характеризуется большими массогабаритными показателями; большим энергопотреблением; неприспособленностью конструкции к механизации и автоматизации сборочно-монтажных работ; малой плотностью компоновки; большой материалоемкостью; низкой надежностью, но высокой ремонтопригодностью; в качестве носителей данных использовались магнитные барабаны;

быстродействие - опер./с.

Характерно использование модулей с дискретными компонентами на печатных платах и микромодулей на микроплатах с миниатюрными дискретными компонентами, что позволило увеличить плотность компоновки; массогабаритные показатели и энергопотребление уменьшились более чем в 10 раз, а срок службы увеличился в 7-14 раз по сравнению с поколением I; в качестве носителей данных служили миниатюрные магнитные сердечники (в оперативных ЗУ) и магнитные ленты (во внешних ЗУ); ремонтопригодность

Применение изделий интегральной микроэлектроники позволило создать МЭА (ЭВС) с более сложными узлами и с лучшими показателями, чем у поколения II;в качестве носителей данных стали использовать магнитные ленты и жесткие магнитные диски (во внешних ЗУ); возросли функциональные возможности; появилось семейство универсальных ЭВМ на единой конструктивнотехнологической базе с программной и аппаратной совместимостью.

Характерно появление микропроцессоров (БИС, СБИС), что позволило создать мини - и микро- ЭВМ, а также персональные ЭВМ и различной сложности информационно - и измерительно-вычислите-льные системы с развитой периферией и большим объемом памяти. Конструкция –моно- и полиблочная с сохранением основных структурных решений III поколения. Быстродействие – до опер./с. Технико-экономические показатели лучше, чем у III поколения, что связано с применением компьютерно-интегрирован-ных технологий для разработки и производства таких ЭВС. Исполь-

Использова-

ние новейших достижений интегральной (например,

3-х мерных УБИС) и функциональной (например, разного вида микросистем) микроэлектроники, что существенно повысит “интеллектуальный” уровень ЭВМ, резко увеличит плотность компоновки, расширит функциональные возможности и (в потенциале) улучшит технико-экономиче-ские показатели ЭВМ. Однако это требует: разработки теоретических основ построения ЭВМ

Окончание табл.1.1.

Показатель

Поколения Э В М

I

II

III

IV

V

ухудшилась при использовании модулей и потребовалось большое число компонентов, однако появилась возможность автоматизации производства ЭВМ. Быстродействие-

опер./с.

Характерно также использование автоматизированных средств для разработки и производства ЭВМ. Быстродействие - опер./с.

зование накопителей на гибких и жестких магнитных дисках; устройств, расширяющих функциональные возможности ЭВМ (например, для речевого ввода (или ввода-вывода) информации, расширения памяти и др.) и устройств сопряжения их с локальной и глобальной компьютерными сетями.

с искусственным интеллектом; освоения нанотехнологий; разработки и реализации новых архитектур ЭВМ и их систем, обеспечивающих параллельную и распределенную обработку информации; освоения имеющихся и разработки новых изделий микросистемотехники; разработки эффективного программного обеспечения; разработки новых групповых технологий (включая аппликативные) формообразования в разных технологических средах на базе микроэлектронных и других технологий.

2. Микросварка при узловом монтаже. Общая характеристика; механизмы и способы микросварки. Средства реализации.

Общие сведения о сварке в производстве изделий электронной технике. Механизмы и способы реализации.

Сварка представляет собой технологический процесс (ТП) получения неразъемных соединений элементов конструктивов электронных устройств (ЭУ) посредством местного разогрева (иногда до температуры плавления ( )), пластической деформации либо совместного их воздействия на контактируемые материалы. Суть процесса сварки заключается в таком взаимном проникновении или сближении контактируемых материалов, при котором начинают действовать силы межатомного (межмолекулярного) сцепления (то есть образуются устойчивые химические связи между атомами соединяемых материалов).

По физическому состоянию материала в зоне соединения все существующие способы сварки можно подразделить на сварку плавлением и сварку давлением (рис.13.1).

Рис.13.1. Основные способы сварки, используемые в производстве изделий электронной техники.