Лекция ВАКУУМ (РЛ-6) (2015) студентам

Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования

МОСКОВСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙТитулТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ ИМ. Н.Э. БАУМАНА

Проектирования нанотехнологического оборудования

Рекомендуемая литература

1.Розанов Л.Н. Вакуумная техника. Учебник для высшей школы, 3-е издание, М.- “Высшая школа”, 2007, 391 с.

2.Пипко А.И. и др. Конструирование и расчёт вакуумных систем. М., Энергия, 1970, 504с.

3.Вакуумная техника: справочник / под общ. ред. К.Е. Демихова, Ю.В. Панфилова. 3-е изд., перераб. и доп. М.: Машиностроение, 2009, 590 с. ил.4.

Зачем нужен вакуум?

1.Вакуум предохраняет нагреваемые поверхности (нити накала,

катоды и др.) от окисления, перегорания;

2.Вакуум позволяет формировать потоки заряженных и

нейтральных частиц;

3.Благодаря вакууму потоки заряженных частиц могут

беспрепятственно преодолевать межэлектродные расстояния

(при этом они могут ускоряться, фокусироваться и отклоняться по заданной траектории);

4.Вакуум позволяет сохранить чистоту мишени или обрабатываемой поверхности материала (обеспечить отсутствие сорбированных молекул газа, паров углеводорода и воды, оксидов и др.) для обеспечения работы ЭВП, при реализации технологических процессов (диффузионной сварки, выращивания монокристаллов полупроводников, формирования элементов топологии на полупроводниковой пластине и т. д).

Технологическое оборудование

•вакуумное напылительное оборудование

(10-3…10-6Па, ВВ, СВВ);

Технологическое оборудование

•электроннолучевое оборудование для сварки, пайки, размерной обработки деталей электронных приборов (10-3Па, ВВ);

Технологическое оборудование

•оборудование ионной обработки (ионной очистки, ионного травления, ионной имплантации

(10-1…10-3Па, ВВ);

Технологическое оборудование

•ростовое оборудование, оборудование зонной плавки, очистки (10-3Па, ВВ);

Технологическое оборудование

•оборудование бесштенгельной откачки и сборки электронных приборов (10-8Па, СВВ);

Технологическое оборудование

• оборудование для электронной, рентгеновской, ионной литографии (10-5Па, СВВ), использующее сверхвысокий безмасляный вакуум;

Технологическое оборудование

•технологическое оборудование промежуточного контроля качества поверхности, химического состава, структуры материала, элементов топологии формируемого электронного прибора

(10-8…10-10Па, СВВ).