- •Департамент образования и науки
- •Содержание
- •Лабораторная работа № 1
- •Третий закон для абсолютно черного тела. Закон смещения Вина.
- •Описание экспериментальной установки
- •Методика проведения эксперимента
- •Порядок выполнения работы
- •Методика измерений и обработка результатов
- •Контрольные вопросы
- •Список литературы
- •Описание экспериментальной установки
- •Порядок выполнения работы
- •Задание 1. Проверка закона Столетова
- •Задание 2. Проверка формулы Эйнштейна
- •Обработка результатов измерений
- •Контрольные вопросы
- •Список литературы
- •Лабораторная работа № 3 соотношение неопределенностей для фотонов
- •Теоретическая часть
- •Описание экспериментальной установки
- •Порядок выполнения работы
- •Обработка результатов.
- •Контрольные вопросы
- •Список литературы
- •Лабораторная работа № 4 изучение эффекта зеебека (тэдс металлов)
- •Теоретическая часть
- •Рассмотрим подробно рис. 4.3,(в) – область контакта 1-го и 2-го металлов.
- •Описание экспериментальной установки
- •Задание
- •Порядок выполнения работы
- •Для первой пары металлов (м1 – м2)
- •Обработка результатов
- •Контрольные вопросы
- •Металлы
- •Полупроводники
- •Экспериментальная установка
- •Практические задания
- •Контрольные вопросы
- •Использование полупроводникового диода для измерения е полупроводника
- •Описание экспериментальной установки
- •Порядок выполнения работы
- •Обработка результатов
- •Обратной абсолютной температуре
- •Контрольные вопросы
- •Список литературы
- •Лабораторная работа № 7 изучение закона радиоактивного распада
- •Теоретическая часть
- •Описание экспериментальной установки
- •Методика измерения Задание 1. Определение радиоактивного фона
- •Экспериментальные данные для определения радиоактивного фона
- •Задание 2. Определение постоянной распада
- •Обработка результатов
- •Поглощение -квантов веществом. Свойства -излучения
- •Экспериментальная установка.
- •Методика регистрации -излучения
- •Экспериментальная часть Задание 1. Определение фона
- •Задание 2. Определение коэффициента поглощения
- •Алюминий
- •График зависимости интенсивности поглощения - квантов от толщины образца. Обработка результатов
- •Контрольные вопросы
- •Список литературы
- •Лабораторная работа № 10
- •Определение резонансного потенциала
- •Криптона методом франка и герца
- •Теоретическая часть
- •Выводы из опытов франка и герца
- •Резонансный потенциал. Резонансная флуоресценция.
- •Энергия ионизации. Потенциал ионизации.
- •Устройство и принцип работы установки.
- •Методика проведения эксперимента
- •Обработка результатов
- •Контрольные вопросы
- •Список литературы
- •628400, Россия, Ханты-Мансийский автономный округ,
Использование полупроводникового диода для измерения е полупроводника
Основой любого полупроводникового диода является р-n- переход. который образуется при контакте двух полупроводников n- и p-типа.
Электронная (n-типа) проводимость образуется при введении в собственный полупроводник донорной примеси. Донорами являются атомы пятой группы таблицы Менделеева (например, доноры для ПП Ge – Р, As, Sb). Уровень энергии, соответствующей донорной примеси (Еd), лежит в запрещенной зоне «ниже» Ес на 0,01 эВ для германия и на 0,05 эВ для кремния (рис. 6.2). Поэтому уже при комнатных температурах все доноры будут ионизированы, т.е. «лишние» электроны атомов донорной примеси перейдут в зону проводимости. Концентрация электронов (ne) в зоне проводимости примерно равна концентрации атомов примеси. Электроны для полупроводника n-типа – основные носители заряда. Ионизированные атомы-доноры становятся положительными ионами.
Положение уровня Ферми (ЕF) определяется температурой (Т) и концентрацией атомов донорной примеси. О качественной зависимости положения ЕF от температуры для полупроводника n-типа можно судить по диаграмме, (рис. 6.2). При 50% ионизации примесных атомов ЕF совпадает с Ed, при 100% ионизации ЕF расположен «ниже» Ed примерно на величину, равную Ес – Ed, т.е. на 0,02 эВ для германия. Это состояние и соответствует примерно комнатным температурам.
При увеличении температуры выше 40–50С (для Ge) начинается интенсивный переход электронов из валентной зоны в зону проводимости. При этом концентрация электронов в зоне проводимости резко возрастает, но на столько же возрастает и концентрация дырок в валентной зоне. Когда ЕF достигнет середины запрещенной зоны, происходит компенсация типа проводимости – примесный полупроводник становится похожим на собственный: ne = np. Для Ge это происходит при Т = 150С.
Дырочная проводимость (или проводимость p-типа) образуется при введении в полупроводник акцепторной примеси. Акцепторная примесь – атомы трехвалентных элементов, например для Ge – Al, Zn, Ga. На зонной диаграмме уровень энергии акцепторов (ЕА) находится тоже внутри запрещенной зоны, но вблизи потолка валентной зоны.
Для большинства акцепторов в Ge разность ЕА – ЕV = 0,01 эВ. Вследствие малости этой энергии акцепторы при комнатных температурах будут все ионизированы, что соответствует положению уровня Ферми в легированных полупроводниках вблизи верхней границы валентной зоны в зависимости от температуры.
Еd – Энергетический уровень ЕA - Энергетический уровень
донорной примеси акцситорной примеси
Рис. 6.2. Зонная диаграмма примесного полупроводника
При переходе электронов из валентной зоны на акцепторный уровень (акцепторы при этом превращаются в отрицательные ионы) в валентной зоне образуются дырки, концентрация их примерно равна концентрации акцепторов: np = nA. Дырки являются основными носителями заряда для полупроводника р-типа. При комнатных температурах в зоне проводимости имеется небольшое число электронов, попавших туда из валентной зоны. Электроны для полупроводника р-типа – неосновные носители.
Положение ЕF в полупроводнике р-типа изменяется в зависимости от температуры совершенно так же, как и в полупроводнике n-типа. И все остальные рассуждения, связанные с изменением положения ЕF, аналогичны приведенным выше для n-типа.
Итак, независимо от типа проводимости германиевого полупроводника, при комнатных температурах интервал энергий ЕF – ЕV (для n-типа) или ЕС – ЕF (для р-типа) всего на 0,02 эВ меньше ширины запрещенной зоны полупроводника Е. Это обстоятельство позволяет использовать стандартные Ge-диоды для определения Е.
p-n-переход образуется при соединении полупроводников р- и n-типа. Вблизи границы контакта на длине свободного пробега электроны и дырки, встречаясь друг с другом, рекомбинируют. Оставшиеся нескомпенсированными ионы примеси (положительные в n-типе) и отрицательные в p-типе образуют область пространственного заряда (ОПЗ), которая своим электрическим полем препятствует диффузии основных носителей: дырок из р-области, электронов из n-области (условия равновесия).
Состояние динамического равновесия характеризуется тем, что уровень Ферми будет одинаков для p- и n-областей, как это показано на рис. 6.3, а.
В состоянии равновесия электроны в зоне проводимости полупроводников p- и n-типа имеют разную энергию, и чтобы электрону из n-области перейти в p-область, ему необходимо преодолеть потенциальный барьер ЕПБ. Именно высота этого барьера и определяет состояние равновесия.
При прямом включении высота потенциального барьера ЕПБ становится меньше (рис. 6.3, б) (так как поле источника и поле перехода Еп направлены противоположно, результирующее поле уменьшается).
При обратном включении поле источника и поле перехода Еn суммируются и высота потенциального барьера возрастает, (рис. 6.3, в). Обратный ток диода на один-два порядка меньше прямого тока и его легко замерить.
Рис. 6.3. Уровень Ферми в полупроводниках различного типа
Если на торцы p-иn-областей нанести металлизированные слои и к ним припаять выводы для подключения внешнего источника питания, то получается полупроводниковый диод (рис. 6.4), у которогоp-область называется анодом, аn-область – катодом.
Внешний источник к диоду можно подключить двумя способами:
«Плюс» источника к аноду, а «минус» к катоду – это прямое включение.
«Минус» к аноду, а «плюс» к катоду – это обратное включение.
Рис. 6.4. Стандартное изображение диода
Неосновные носители в легированных полупроводниках появляются лишь при переходе электронов из валентной зоны в зону проводимости. Вероятность такого перехода пропорциональна дляр-области; для n-области . Поскольку величины (ЕС – ЕF) и (ЕF – EV) в соответствующих областях мало отличаются от Е (для германия не более чем на 0,02 эВ), то используя (6.1) можно записать обратный ток диода:
(6.4)
где I0 – постоянная для данного диода.
Примечание. Выражение (6.4) справедливо для резких р-n-переходов при небольшом запирающем напряжении, когда генерацией носителей заряда в области перехода можно пренебречь.