Вопрос 3
Дифракционный предел для видимого света позволяет достичь примерно 1000 кратного увеличения. Это соответствует разрешению порядка нескольких сотен нанометров.
Объекты размером в десятки, а тем более в единицы нанометров в такой оптический микроскоп разглядеть невозможно. Поэтому первым шагом к наномиру стал электронный микроскоп.
Таким образом, просвечивающий электронный микроскоп используют для изучения микроструктуры объектов, находящихся за пределами разрешающей способности оптического микроскопа (мельче 0,1 мкм).
На следующем слайде 3 приведена схема, показывающая основные функции электронного микроскопа при исследовании различных материалов, а на слайде 4 перечислены основные возможности ПЭМ.
Высокая
(неограниченная) разрешающая способность
Возможность
изучения практически всех основных
носителей
структурно чувствительных свойств
вещества.
Возможность
атомного разрешения – наблюдения
атомов, кристаллической решетки, любых
Дефектов
кристаллической решетки
Возможность
электронного дифракционного анализа
Высокая
локальность электронной дифракции
(микродифракции)
Мгновенная
визуализация дифракционной картины
Совместный
анализ изображения и дифракционных
эффектов
Электронная
дифракция от нанокристаллических
объектов
Возможность
локального элементного анализа
В
настоящее время вплоть до по-атомного
элементного
анализа
Возможность
исследования поведения объектов in
situ
непосредственно
в процессе протекающих в них изменений:
движение
дислокаций при пластической деформации;
фазовые превращения при нагреве;
образование
радиационных
объектов при облучении и т.д.
Возможность
заглянуть внутрь вещества
Конструкция держателя образцов позволяет перемещать образец поступательно, вращать и наклонять его по отношению к пучку, а также нагревать образец до температуры 10000С, а в некоторых случаях и выше, охлаждать образец и растягивать, деформировать образец. Для этих целей разработаны специальные приставки к микроскопу.
Лучшие ПЭМ имеют разрешающую способность меньше 0,1 нм. Кроме возможности исследования микроструктуры образцов с высоким разрешением, в современных микроскопах можно получить картину дифракции с участка образца с поперечным размером меньше 1 мкм. Получение дифракционной картины, соответствующей микроскопическому участку объекта (электронная микродифракция) является одним из самых важных средств структурного анализа материалов.
Из простых геометрических соображений следует, что: tg 2 θ = R/L, Согласно закону Вульфа-Брэгга, λ = 2d sin θ Из-за малой длины волны λ электронов углы дифракции очень маленькие (порядка 1-2 градусов), поэтому может быть допущена аппроксимация: tg 2θ = 2 sin θ (т.к. для небольших значений углов: 2 sin θ ~ 2θ ~ 2 tg θ = tg 2θ) Отсюда следует, что: R/L = λ/d Или, окончательно: di = λL/Ri
Это и есть формула для расчета значений межплоскостных расстояний кристаллических образцов по электронограммам. Произведение λL называется постоянной прибора. Так как трудно достаточно точно измерить раздельно значения λэл и L, постоянную прибора определяют съемкой эталонного вещества с известными значениями d. Мы, например, для этих целей используем пленки золота, полученные вакуумной конденсацией высокочистого золота (99,99%).
При проведении электронографического анализа следует учитывать, что точность определения межплоскостных расстояний на кольцевых электронограммах не превышает 10-3 А. Из-за размытости рефлексов на точечных электронограммах эта точность еще ниже. То есть, точность определения значений межплоскостных расстояний здесь горазда хуже, чем в РФА.
Процедура индицирования электронограммы заключается в приписывании точечным рефлексам или кольцам индексов Миллера плоскостей решетки, ответственных за их возникновение.