- •Ивановский государственный энергетический университет
- •Лекция 1
- •1. Физические основы деформационного упрочнения металлов
- •1.1 Параметры состояние поверхностного слоя деталей машин
- •Субструктура
- •Задание 1.1
- •2.2 Образование и размножений дислокаций
- •Задание 2.1
- •3.2. Физические основы разрушения металлов
- •Задание 3.1
- •4.2.2 Водородное охрупчивание
- •4.2.3 Отличия водородного изнашивания от водородного охрупчивания
- •4.2.4 Методы уменьшения и предупреждения водородного изнашивания
- •4.3 Абразивное изнашивание
- •4.4 Окислительное изнашивание
- •4.5 Изнашивание вследствие пластической деформации
- •4.6 Изнашивание вследствие диспергирования
- •4.7 Изнашивание в результате выкрашивания вновь образуемых структур
- •4.8 Коррозия
- •4.9 Кавитационное изнашивание
- •4.9.1 Гидродинамическое изнашивание
- •4.9.2 Вибрационная кавитация
- •4.10 Эрозионное изнашивание
- •4.11 Схватывание и заедание поверхностей при трении
- •4.12 Изнашивание при фреттинг- коррозии
- •4.13 Трещинообразование на поверхности трения
- •4.13.1 Усталостное изнашивание
- •4.13.2 Трещинообразование термического происхождения
- •4.14 Избирательный перенос при трении
- •4.14.1 Использование избирательного переноса в узлах машин
- •Задание 4.1
- •5.2 Классификация методов отделочно-упрочняющей обработки деталей машин
- •5.2.1 Упрочнение с созданием пленки на поверхности
- •5.2.2 Упрочнение с изменением химического состава поверхностного слоя металла
- •6.2. Расчет глубины деформационного упрочнения поверхностного слоя
- •6.2.1 Расчет приближенного значения накопленной деформации поверхностного слоя
- •Задание 6.1
- •Задание 6.2
- •Лекция 7
- •7. Алмазное выглаживание
- •7.1 Силы, возникающие при алмазном выглаживании
- •7.2 Трение и смазка
- •7.3 Инструменты для выглаживания
- •7.4 Вибровыглаживание
- •Задание 7.1
- •8.2 Азотирование
- •8.3 Термодиффузионное хромирование
- •8.4 Силицирование
- •8.5 Оксидирование
- •8.6 Фосфатирование
- •8.7 Сульфидирование
- •8.8 Гальванические покрытия поверхностей деталей машин
- •8.8.1 Электрическое хромирование
- •8.8.2 Железнение
- •8.9 Электромеханический способ упрочнения детали
- •Задание 8.1
- •9.1 Лазерное упрочнение
- •9.1.1 Лазерная наплавка
- •9.1.2 Лазерное оборудование
- •9.2 Электронно-лучевая обработка
- •9.2.1 Электронно-пучковое оборудование
- •9.3 Методы детонационного и плазменного нанесения покрытий
- •9.3.1 Оборудование для детонационного нанесения покрытия
- •9.3.2 Плазменное поверхностное упрочнение деталей
- •9.3.3 Оборудование для плазменного упрочнения деталей
- •Техническая характеристика установки мпу-4:
- •9.3.4 Технологические варианты плазменного упрочнения деталей
- •Задание 9.1
- •10.2 Ионное распыление
- •10.3 Магнетронное распыление
- •10.4 Ионное осаждение покрытий
- •10.5 Ионно-диффузионное насыщение
- •10.6 Ионное легирование (имплантация)
- •Задание 10.1
- •Задание 10.2
- •Лекция 11
- •11. Магнитное упрочнение деталей машин
- •11.1 Методы магнитной обработки
- •11.2 Сущность магнитной обработки
- •Задание 11.1
- •12.1.1 Выбор материалов для трущихся деталей
- •12.1.2 Выбор материалов при конструировании узлов трения
- •12.1.3 Числовые критерии работоспособности материалов в парах трения
- •12.1.4 Правила сочетания материалов
- •12.1.5 Пористость материала
- •12.1.6 Расположение материалов пар трения по твердости
- •12.1.7 Замена в узлах машин трения скольжения трение качения
- •12.1.8 Учет температурных деформаций детали
- •12.1.9 Способы установки узлов, уменьшающие дополнительные нагружения при монтаже и в эксплуатации
- •12.1.10 Защита рабочих поверхностей пар трения от загрязнения
- •12.2 Методы повышения износостойкости деталей и узлов трения машин в эксплуатации
- •12.2.1 Изменение свойств смазочного материала при эксплуатации
- •12.2.2 Отложения на деталях и в смазочной системе
- •12.2.3 Пенообразование
- •12.2.4 Обкатка машин
- •Задание 12.1
- •Ответ 5.1
- •Ответ 7.3
- •Ответ 11.2
- •Ответ 12.1
- •Ответ 12.2
11.2 Сущность магнитной обработки
Рис.11.1 Обработка импульсным магнитным полем.
При обработке магнитным полем заготовка 2 помещается внутрь соленоида 1, к которому подключается генератор импульсов. Напряженность магнитного поля, длительность импульсов и количество импульсов зависят от конкретной обрабатываемой детали:
материал детали;
конфигурация;
габариты;
термообработка.
Рис.11.2 Обработка постоянным магнитным полем.
При обработке постоянным магнитным полем соленоид 1 подключают к источнику постоянного тока, вследствие чего возникает магнитное поле с полюсами N и S. Заготовку размещают внутри соленоида или рядом с полюсом N. Обязательно размагничивание. Известно, что кристалл (зерно) размерами 10-2- 10-3см. состоит их субкристаллов (субзерен), средний размер которых 110-3110-4см. Субзерна состоят из блоков с размерами10-410-5см. Согласно теории магнетизма кристаллы разделяются на замкнутые области- домены, каждая из которых имеет определенный магнитный момент. В целом кристалл не намагничен, так как магнитные моменты доменов ориентированы в пространстве равновероятно. Средний размер доменов находится в пределах 10-210-7см.
Рассмотрим ход кривой намагничивания В=f(H) ферромагнетика, состоящего из совокупности отдельных кристаллов (рис.11.3). в прямоугольниках показаны направления намагничивания доменов при различных значениях намагничивающего поля. Исходное состояние соответствует размагниченному образцу (Н=0, В=0), т.е. равно вероятному расположению доменов, намагничивающих в легком направлении (по ребрам куба ферромагнетики с кубической кристаллической структурой).
Рис.11.3 Кривая намагничивания ферромагнетика.
Слабым полям соответствует участок обратимого смещения границ. На этом участке происходит увеличение объемов доменов, векторы намагниченности (магнитных моментов) которые образуют наименьший угол с направлением внешнего поля за счет «антипараллельных» доменов. Процесс практически является обратимым, т.к. после удаления внешнего поля образец возвращается в исходное состояние.
На участке необратимого процесса под действием энергии кристаллографической магнитной анизотропии происходит увеличение объема тех доменов, вектор намагниченности которых образует наименьший угол с направление магнитного поля. Это увеличение происходит за счет уменьшения объема неблагоприятно расположенных доменов ( явление анизотропии). Одновременно с ростом доменов под действием энергии магнитострипционной деформации происходит процесс вращения (поворота) доменов вокруг оси легкого намагничивания. Магнитосрипция, возникающая под действием магнитного поля, деформирует кристаллическую решетку.
Поворот доменов происходит в направлении внешнего поля. При устранении намагничивающего поля не происходит возврата в исходное состояние. Согласно магнитной теории домены растут в процесс магнитной обработки. Но как известно, чем меньше зерен, тем выше твердость металла. Поэтому для упрочнения металла важен начальный момент образования доменной структуры до момента роста доменов.
Необходимым условием обработки импульсным магнитным полем является, чтобы напряженность внешнего магнитного поля Н0была больше Нмахобрабатываемого материала. Исследованиями установлено, что при образовании доменной структуры возникают доменные границы, толщина которых зависит от энергии магнитной анизотропии и магнитоупругой энергией. Размеры самих доменов зависят от наличия и распределения в образце неоднородностей: неметаллических включений, размеров зерен, скоплений дислокаций и т.д.
Исследованиями установлено, что в результате предшествующей термообработки металла и последующей импульсной магнитной обработки происходит перестройка дислокационной структуры: часть дислокаций равномерно распределяются внутри зерен, а часть перестраивается с образованием субграниц. При этом, чем крупнее зерно, тем больше отток дислокаций на субграницы, ограничивающие зерно.
При увеличении времени обработки магнитным полем происходит рост доменов. Этот рост начинается у доменов, векторные намагниченности которых наиболее близки к направлению внешнего поля Н0. При этом наиболее сильные домены, у которых векторы Н совпадают с Н0«поедают» наиболее слабые, у которых векторы Н противоположны с Н0.
В результате импульсной магнитной обработки в течение первых нескольких секунд происходит увеличение дисперсности структуры (измельчение) поверхностного слоя и плотности дислокаций. При увеличении времени обработки МИО дисперсность структуры уменьшается в результате роста доменов внутри зерен исходной структуры и несколько снижается плотность дислокаций.
Контрольные задания