- •14. Особенности изучения реального кристаллообразования. Выбор метода выращивания монокристаллов.
- •3. Точечные
- •15.Технология получения монокристаллов. Выращивание монокристаллов из расплава. Характеристики метода.
- •16. Методы нормальной направленной кристаллизации. Основные параметры. Достоинства и недостатки.
- •17. Метод Бриджмена. Основные параметры. Достоинства и недостатки. Основные параметры. Достоинства и недостатки.
- •18. Методы вытягивания кристаллов из расплава. Метод Чохральского. Основные параметры. Достоинства и недостатки.
- •19. Методы вытягивания кристаллов из расплава. Метод Киропулуса. Основные параметры. Достоинства и недостатки.
- •20. Методы зонной плавки. Основные параметры. Достоинства и недостатки.
- •21. Бестигельные методы выращивания монокристаллов. Метод Вернейля. Основные параметры. Достоинства и недостатки.
- •22. Бестигельные методы выращивания монокристаллов. Зонная плавка. Основные параметры. Достоинства и недостатки.
- •23. Бестигельные методы выращивания монокристаллов. Метод выращивания с пьедестала. Основные параметры. Достоинства и недостатки.
- •24. Выращивание кристаллов из растворов. Требование к растворителю. Основные стадии.
- •25. Выращивание кристаллов из растворов. Метод зонной плавки.
- •26. Выращивание кристаллов из растворов. Гидротермальное выращивание. Основные параметры и требования.
- •27.Выращивание из растворов. Метод испарения летучего растворителя.
- •28.Выращивание из растворов. Метод повышения концентрации летучего компонента раствора.
- •29. Выращивание из растворов. Направленная кристаллизация пересыщенных растворов.
- •30. Выращивание монокристаллов из паровой фазы.
- •1.Метод конденсации паров компонентов.
- •2. Метод диссоциации восстановление газообразующих соединений.
- •3.Метод реакции переноса.
- •3.1.Метод переноса в потоке
- •31. Легирование кристаллов в твердой фазе.
- •32. Легирование кристаллов при выращивании из жидкой фазы.
- •33. Технологические неоднородности состава кристаллов и методы их уменьшения.
- •34. Легирование кристаллов при выращивании из газовой фазы.
- •3.Метод газоразр-го легирования.
- •4.Материалы электрода.
- •35. Особенности стеклообразного состояния и строение стекла. Типы стекол. Температурный интервал стеклования. Теория Лебедева.
- •36. Физико-химические основы стекловарения. Вязкость и поверхностное натяжение стекол и расплавов. Технологическая шкала вязкости.
- •1. Технологические параметры, которые определяют технологию варки стекла.
- •37. Сырьевые материалы для производства стекла. Природное сырье и синтетическое. Основное и вспомогательное сырье. Методы получения синтетического оксида кремния.
- •2 Группы:
- •6.5 Ускорители варки стекла.
- •39. Приготовление шихты. Факторы, влияющие на качество шихты.
- •40.Изготовление шихты для изготовления высокооднородных стекол (метод соосаждения, метод гидролиза, топохимический метод)
- •1.Метод соосаждения.
- •2.Метод гидролиза.
- •3.Топохимический метод
- •Стекловарение. Этапы стекловарения. Силикатообразование. Факторы, влияющие на процесс.
- •Стекловарение. Этапы стекловарения. Стеклообразование. Факторы, влияющие на процесс.
- •43. Стекловарение. Этапы стекловарения. Осветление.
- •Стекловарение. Этапы стекловарения. Этап гомогенизации. Факторы, влияющие на процесс.
- •Стекловарение. Этапы стекловарения. Студка. Факторы, влияющие на процесс.
- •Пороки стекла. Газовые, стекловидные, кристаллические пороки. Методы борьбы с пороками.
- •Формование стекла. Стадии процесса формования.
- •48. Непрерывные и циклические процессы формования стекла.
- •49. Технологические характеристики формования. Текучесть стекломассы. Охлаждение и твердение.
- •50. Способы формования стекла. Вытягивание. Прокатка. Прессование. Выдувание. Центробежное формование. Флоат способ.
- •51. Термическая обработка стекла. Отжиг и закалка стекла.
- •52. Методы получения пленок стекла. Нанесение пленок из жидкой фазы. Нанесение пленок из газовой фазы. Структура и свойства пленок стекла. Дефекты пленок.
- •Ситаллы. Катализаторы кристаллизации. Требования к катализаторам. Механизмы действия катализаторов. Фотоситаллы. Термоситаллы.
- •Технологические стадии получения ситаллов.
19. Методы вытягивания кристаллов из расплава. Метод Киропулуса. Основные параметры. Достоинства и недостатки.
- вытягивания.
Рисунок: 1-затравка; 2 – кристалл; 3 – тигель; 4 – расплав.
Затравка вводится в расплав и далее не вытягивается, а врастает в него за счет того, что охлаждается через кристаллодержатель с уменьшением Т расплава. Метод применяется для выращивания кристалла с большим отношением диаметра к высоте.
Преимущество методов: нет механических напряжений от тигля и размеры кристалла можно вольвировать. Можно визуально наблюдать за процессом, что позволит оптимизировать процесс. Метод применяется при выращивании кремния.
Установки снабжены системами регулирования; диаметр кристалла контролируется системой, которая основана на измерении диаметра мениска вблизи фронта или уменьшение из тигля массы расплава.
Метод используется для большинства полупроводниковых соединений.
20. Методы зонной плавки. Основные параметры. Достоинства и недостатки.
Метод используется как для очистки материалов от примесей, так и для выращивания монокристаллов.
Достоинства: возможность легировать одновременно с процессом выращивания.
Кристаллический материал располагается в тигле. К материалу тигля предъявляется требования, что и в методе нормальной направленной кристаллизации. В 1-м конце лодочки – монокристаллическая затравка, а остальная часть – поликристаллическая лодочка помещенная в кварцевую трубку. Создаваемая атмосфера инертного газа и используем узкую печь сопротивления, что создает узкую зону расплава. Перемещая нагреватели, перемещают зону расплава вдоль слитка. С 1-й сторону – плавление, с 2-й – кристалл. В итоге весь слиток превращается в монокристалл. С точки зрения процесса кристаллизации метод зонной плавки отличается от метода Бриджмента. Используют одну печь для создания лимитирующего фона вдоль слитка и вторую печь – для создания расплавленной зоны можно контролировать градиент Т у фронта кристаллизации и создавать условия для увеличение совершенства структуры монокристалла.
Преимущество: время, в течении которого расплав находиться в контакте материала лодочки, меньше чем у метода Бриджмента, следовательно, загрязняется меньше. Есть возможность регулировать толщину расплавляющей зоны, скорость и можно создавать несколько расплавленных зон вдоль слитка.
Управление формой фронта кристаллизации является сложной задачей, т.к. роль играет теплопроводность.
21. Бестигельные методы выращивания монокристаллов. Метод Вернейля. Основные параметры. Достоинства и недостатки.
Выбор материала часто ограничивает возможности применения тигельных методов. Материал тигля должен быть инертным по отношению к выращиваемому монокристаллу.
Метод Вернейля ( метод пламенного плавления) – это метод является прототипом всех безтигельных методов.
Принцип: с помощью нескольких кислородно – водородных горелок на верхнем торце вертикально расположенная затравки, которая вращается, создается тонкий слой расплава. Из бункера, который подвергается вибрации расположен над затравкой подается поток мелких частиц, которые успевают разогреться и расплавиться за время прохождения через пламя горелок и падают на поверхность расплавленного слоя.
Рисунок 1: 1 – механизм опускания кристалла; 2 – кристаллодержатель; 3 –кристалл; 4 – печь; 5 – горелка; 6 – бункер; 7 – механизм вибро; 8 – катетометр(- прибор для точного измерения вертикальных расстояний между точками при физических опытах, придуманный французскими физиками Дюлонгом и Пти для определения разности уровней ртути в сообщающихся сосудах).
Объем расплава постоянно увеличивается, слиток (1) опускается с небольшой скоростью, нижние слои расплава кристаллизуется и формируют монокристалл.
Преимущество: отсутствие тигля, возможность контроля за ростом монокристалла.
Недостатки: внутреннее напряжение, нарушение стехиометрии (компоненты могут восстанавливаться водородом) состава ( и могут испарятся летучие вещества), скорость роста маленькая ( мм в час), трудно управлять распределение Т вблизи фронта кристаллизации. Следовательно, получить этим методом структурно совершенственные кристаллы не удается.
Используют для выращивания кристаллических материалов, которые химические стабильные в условиях пламени. Метод радиационный и плазменный нагрев для материалов химических неустойчивых в пламени. Для стабилизации шихты используют не смесь порошков, а жидкую смесь исходных компонентов.