- •Курс лекций
- •Технологии наноэлектроники
- •Молекулярно-лучеваяэпитаксия.
- •Газофазная эпитаксия из металлоорганических соединений.
- •Нанолитография.
- •Разрешающая способность.
- •Оптическая литография.
- •Рентгеновская литография.
- •Электронная литография.
- •Ионная литография.
- •Возможности методов литографии в наноэлектронике.
- •Нанопечатная литография.
- •Процессы травления в нанотехнологии.
- •Процессы самосборки повторяющихся структур.
- •Самосборка в объемных материалах.
- •Самосборка при эпитаксии.
- •Пленки пористых материалов.
- •Пленки пористого кремния.
- •Пленки пористого оксида алюминия.
- •Пленки поверхностно-активных веществ.
- •Основные определения и механизмы.
- •Осаждение пленок пав.
- •Пленки на основе коллоидных растворов.
- •Основные определения и свойства.
- •Золь-гель технология.
- •Методы молекулярного наслаивания и атомно-слоевой эпитаксии.
- •Зондовые нанотехнологии.
- •Физические основы зондовой нанотехнологии.
- •Контактное формирование нанорельефа.
- •Бесконтактное формирование нанорельефа.
- •Локальная глубинная модификация поверхности.
- •Межэлектродный массоперенос.
- •Электрохимический массоперенос.
- •Массоперенос из газовой фазы.
- •Локальное анодное окисление.
- •Стм-литография.
- •Методы исследования наноструктур.
- •Сканирующая зондовая микроскопия.
- •Сканирующая туннельная микроскопия.
- •Атомно-силовая микроскопия.
- •Ближнепольная сканирующая оптическая микроскопия.
- •Масс-спектроскопия атомов и молекул.
- •Определения и возможности.
- •Конструкции масс-анализаторов.
- •Вторично ионная масс-спектроскопия.
- •Электронные микроскопы.
- •Просвечивающие электронные микроскопы.
- •Растровые электронные микроскопы.
- •Метод дифракции медленных электронов (дмэ).
- •Метод дифракции отраженных быстрых электронов (добэ).
- •Оже-электронная спектроскопия.
- •Фото-электронная спектроскопия.
- •Полевая эмиссионная микроскопия.
- •Эллипсометрия.
- •Конфокальная сканирующая оптическая микроскопия.
- •Радиоспектроскопия.
- •Электронный парамагнитный резонанс.
- •Ядерный магнитный резонанс.
- •Ядерный квадрупольный резонанс.
- •Рентгено-структурный анализ.
- •Метод Лауэ.
- •Метод Дебая-Шеррера.
- •Компьютерный метод дш.
Зондовые нанотехнологии.
Физические основы зондовой нанотехнологии.
Зондовая нанотехнология представляет собой совокупность методов и способов обработки и изменения свойств материала на уровне отдельных атомов, молекул и элементов нанометровых размеров с помощью острийного зонда с одновременной визуализацией и контролем процесса.
Вообще слово технология произошло от греческих слов techne — искусство, мастерство, умение и logos — слово, учение. В такой трактовке зондовая нанотехнология является вершиной человеческой мудрости и искусства создания приборов и устройств из отдельных атомов и молекул.
В основе зондовой нанотехнологии лежат уникальные приборы с зондом — сканирующий туннельный микроскоп (СТМ) и атомносиловой микроскоп (ACM).
В сканирующем туннельном микроскопе зонд представляет собой металлический игольчатый электрод с очень тонким острием, закрепленный на трехкоординатном сканере. Зонд-острие, находящийся под электрическим потенциалом, располагается перпендикулярно поверхности на таком расстоянии от нее, при котором возникает туннельный ток. Туннельный ток зависит от величины зазора между острием и поверхностью, а также от величины электрического потенциала на зонде. Если с помощью цепи обратной связи при сканировании поверхности поддерживать постоянным туннельный ток, то можно получить информацию о рельефе исследуемой поверхности. Это метод «постоянного тока».
Если в процессе сканирования с помощью петли обратной связи поддерживать постоянным зазор между острием и поверхностью, то по величине туннельного тока можно получить информацию о поверхности на уровне атомного разрешения.
Сущность зондовой технологии на базе туннельного микроскопа заключается как в визуализации поверхности и объектов на ней, так и в формировании, модификации этой поверхности а нанометровой области.
В атомно-силовых микроскопах зонд-острие крепится на свободном конце гибкой консоли — кантилевера.
Между атомами вещества сближающихся тел действуют силы межмолекулярного взаимодействия F. На рис. 2.27 показана зависимость силы Ван-дер-Вальса от расстояния. Эта сила обращается в нуль при R=d0, где d0 — расстояние между центрами взаимодействующих молекул. На больших расстояниях (R > d0) происходит притяжение между телами с силой, пропорциональной R-7, на малых расстояниях (R<d0) наблюдается отталкивание с силой, пропорциональной R-13.
Ван-дер-вальсовские силы притяжения или отталкивания деформируют кантилевер при его взаимодействии с поверхностью. По регистрируемой величине и направлению деформации кантилевера можно судить о рельефе поверхности.
Рис.2.27. Зависимость межмолекулярных сил взаимодействия F от расстояния R.
Методы локального зондового воздействия на поверхность можно использовать для проведения нанолитографических процессов. При этом нужно учитывать ряд физико-химических явлений и эффектов.
Эффект полевой эмиссии. В основе работы туннельного микроскопа лежит явление автоэлектронной (полевой) эмиссии. Автоэлектронная эмиссия представляет собой явление испускания электронов проводящими телами под действием внешнего электрического поля высокой напряженности.
На рис. 2.28 представлена энергетическая диаграмма автоэлектронной эмиссии. На границе металл—вакуум существует потенциальный барьер величиной (q∙φ), где q — заряд электрона, φ — потенциал, отсчитанный от уровни Ферми EF (работа выхода электрона).
Рис. 2.28. Энергетическая диаграмма автоэлектронной эмиссии.
В отсутствие электрического поля распределение потенциала представлено в виде кривой E1. Потенциальный барьер имеет бесконечную ширину.
При приложении к энергетическому барьеру потенциала создается поле высокой напряженности E ( ≈108 В/см), которое снижает высоту потенциального барьера и уменьшает его протяженность до величины х2— x1.
Электроны в виде дебройлейской волны туннельно просачиваются сквозь сниженный и суженный барьер, создавая ток автоэлектронной эмиссии. Величина плотности тока автоэлектронной эмиссии электронов, подчиняющихся статистике Ферми—Дирака,
где:
m-масса; q – заряд электрона; θ(y) – табулированная функция; φ – работа выхода электрона.
Оценки показывают, что при радиусе закругления острия зонда порядка 10 - 20 нм и при напряжении 5 В, приложенном к зазору величиной 0,5 нм, плотность тока достигает значений порядка 109 А/см2.
Пондеромоторные силы. Под пондеромоториыми силами будем подразумевать механические силы, возникающие в проводниках с током.
В рассматриваемом случае проводниками с током являются зонд и область растекания тока в подложке. На поверхность под зондом действует пондеромоторная сила, которая оценивается как отрицательное давление, нормальное к поверхности. Создаваемое механическое напряжение оценивается величиной
σ=ε∙ε0∙E2/2
где ε — диэлектрическая проницаемость среды между зондом и подложкой, ε0— диэлектрическая проницаемость вакуума, E — напряженность электрического поля. Величины пондеромоторных сил таковы, что достигаются значения, при которых начинается пластическая деформация вещества и его разрушение. В полупроводниковых образцах возможна локальная глубинная деформация.
Электронный пучок большой плотности производит механическое давление на приповерхностный слой. Это давление в паскалях можно оценить из соотношения
где m, υ, q — масса, скорость и заряд электрона соответственно, Рq — удельная мощность пучка (Вт/см2), W — энергия в пучке (кэВ).
Поляризационные эффекты и модификация среды в зазоре. В области между зондом и подложкой возникает поляризация молекул среды и их перестройка. Формируются проводящие молекулярные мостики из адсорбированных молекул. Если между острием зонда и поверхностью поместить жидкий диэлектрик, то также быстро формируются проводящие мостики. Величина электрического поля Em, при котором образуются проводящие мостики, можно вычистить из формулы:
Em={(μ2+2∙α∙k∙T)0.5-μ}/α
где α — поляризуемость молекулы; μ — дипольный момент молекулы; k — постоянная Больцмана; Т — температура.
Таким образом, при E > Em поляризованные молекулы в промежутке зонд—поверхность будут связаны механизмом диполь-дипольного взаимодействия и ориентированы по направлению поля, формируя мостики.
В атмосферных условиях возможно формирование из адсорбированных молекул молекулярных мостиков длиной до 100 нм, которые имеют электрические контакты с подложкой и острием. Сформированные таким образом мостики обладают нелинейными электрическими характеристиками и нестандартными резистивными свойствами.
При E < Em тепловое движение молекул эти мостики разрушает.
(2.18)
Ep+=
где р — кратность ионизации испаряемого атома, Iк — потенциал ионизации, К — кратность ионизации атома, ζ— энергия испарения атома, φ— работа выхода электрона. Ясно, что энергетически более выгодно испарение многократно ионизированных, чем однократно ионизированных атомов.
Для отрицательно заряженных ионов значение напряженности электрического поля определяется выражением:
Ep- =
где АК— сродство к электрону в К-кратном зарядовом состоянии.
Процесс стационарного полевого испарения может происходить при выполнении условия для напряженности электрического поля Eисп > Ep . В противном случае будут возникать молекулярные мостики между зондом и подложкой.
Локальные потоки тепла. Плотность туннельного тока может достигать значений 108 А/см2. Такие сверхплотные значения тока вызывают на подложке локальный разогрев, который может привести к локальным структурным изменениям вещества.