Дополнительная

1. Головин Ю.И. Введение в нанотехнику.- М.: Машиностроение, 2007.- 496 с.

2. Сергеев Г.Б. Нанохимия. - М.: Изд-во МГУ. 2003. - 288 с.

3. Гречихин Л.И. Физика наночастиц и нанотехнологий. Минск.: УП "Технопринт". 2004.- 399 с.

4. Суздалев И.П. Нанотехнология: физико-химия нанокластеров, наноструктур и наноматериалов. -М.: КомКнига, 2006.- 592 с.

5. Практическая растровая электронная микроскопия / Под ред.: Дж. Гоулдстейна, Х. Яковица. М.: Мир, 1978.

6. Моро У. Микролитография: В 2 т. М.: Мир, 1990.

7. Вудраф Д., Делчар Т. Современные методы исследования поверхности/Пер. с англ. М.: Мир, 1989.

Содержание

Введение....................................................................................................3 Электронная литография.........................................................................5

Общие понятия.................................................................................5

Основные характеристики резистов.............................................10

Моделирование процессов рассеяния и потерь

энергии при взаимодействии электронов с твердым телом........17

Ионная имплантация...............................................................................33

Общие понятия...............................................................................33

Моделирование процесса ионной имплантации..........................37

Расчет распределения концентрации примеси в двухслойных

структурах.......................................................................................43

Моделирование процесса ионной имплантации с помощью

уравнения переноса Больцмана и метода Монте-Карло............46

Образование радиационных дефектов........................................52

Список рекомендуемой литературы......................................................54