книги / Остаточные напряжения
..pdfрой (аналитическое описание этих зависимостей весьма затруд нительно), то решение их проводилось в приближенном виде:
Аас = (асАТс - а пЛАТхи1)) Ес.
Вычисление временных напряжений проводилось по сле дующему алгоритму:
- для произвольной точки, принадлежащей покрытию, процесс формирования соединения разбивался на конечное чис ло отрезков времени At;
-на каждом отрезке времени рассчитывалось изменение температуры АТ;
-на каждом отрезке времени с учетом изменения темпера туры и температурных зависимостей модуля упругости и коэф фициентов термического расширения рассчитывалось прираще ние напряжений Дет;
-величина напряжений в произвольно взятый момент вре
мени определялась как сумма частных приращений за предыду-
/
щий участок времени ст, = ^ Дет '=V
Здесь для удобства вычислений за начало отсчета принят момент времени совпадающий с достижением температуры контактной зоны Тну. Следует отметить, что фактически образо вание соединения происходит несколько раньше. Поскольку вы равнивание температур в контактной зоне происходит практиче
ски мгновенно, то величину начального напряженного состояния
ануможно определить следующим образом:
где лТНуС=Тт-Т!иь=0— изменение температуры покрытия в мо мент t„y\ лТнушЬ^Тпр^^+Тгф.О.ОЛнуУТ^О— изменение температу ры основы в момент t^; Tm— температура плавления материала покрытия.
Таким образом, общая зависимость для расчета величины напряжений в покрытии будет иметь вид
1и у
7.8. Программный комплекс для компьютерного моделиро
вания теплофизических и динамических процессов при
плазменном напылении покрытий
Программный комплекс «Plasma» [24] (рис. 7.5) разработан с использованием результатов исследований и объектно-ориен тированной технологии программирования и состоит из не скольких модулей расчетов, в которых реализованы несколько математических моделей, описывающих определенную стадию процесса плазменного напыления. В специальных файлах про блем содержатся исходные данные (свойства веществ, парамет
ры процесса и другая необходимая информация), а также резуль таты моделирования в виде отчетов, таблиц и графических зави симостей.
В состав комплекса входит база данных свойств различных ве ществ, которые могут быть использованы при моделировании разных вариантов процесса напыления (плазмообразующие газы, материалы покрытий, свойства материала основы), температурные зависимости свойств в виде аппроксимационных уравнений. Эти данные при не обходимости подключаются к файлу проблемы.
Рис. 7.5. Структура программного комплекса «Plasm a»
Для подготовки аппроксимационных зависимостей, а также для графического представления результатов моделирования раз работан и включен в состав программного комплекса модуль научной графики «Science Graph», который может использо ваться независимо от программного комплекса.
В составе программного комплекса реализованы следую щие модели:
—нагрев и движение частиц в плазменной струе;
—формирования структуры покрытия;
—теплопередачи в системе покрытие-основа;
—формирования остаточных напряжений в системе по крытие-основа.
В комплексе предусмотрена возможность независимого моделирования отдельных процессов, а также комплексное мо делирование со сквозной передачей данных. Для организации моделирования в программном комплексе разработан специали зированный объект «Проблема», который включает все необхо димые средства для решения задач пользователя.
7.9.Модель формирования остаточных напряжений
вплазменном покрытии
Рассмотрим механизм формирования остаточных напряже ний при выполнении покрытий газотермическими способами. Известно, что в процессе нанесения покрытия поверхности кри сталлизации напыляемого материала перемещаются по нормали к основе. Происходящее при этом изменение температуры при водит к тепловому расширению в системе покрытие-основа. Вследствие наличия в системе разнородных по теплофизическим свойствам материалов и градиента температуры по сечению теп ловое расширение проходит в стесненных условиях, что вызыва ет возникновение напряжений. Остаточные напряжения, возни кающие при напылении, — это один из основных факторов, оп ределяющих адгезию, который является эффективной величи ной, включающей в себя остаточные напряжения, что определяет актуальность этого вопроса.
В свою очередь следует отметить исключительную слож ность задачи математического описания остаточных напряжений из-за дискретного характера формирования слоев покрытия, на личия пор, разнородности физико-механических свойств покры тия и основы, наличия переходной зоны и т.д. Решение этой за дачи в полной постановке вряд ли возможно в ближайшем буду
щем. Это определяет актуальность разработки инженерных ме тодов расчета напряжений, основанных на упрощениях реальной картины образования напряжений.
Известно, что напряжения можно классифицировать по объе мам тела, в которых они уравновешиваются (напряжения I, П и Ш рода). При плазменном осаждении покрытий имеют место все три вида напряжений, но причиной появления трещин и отслоения по крытий являются напряжения I рода. Поэтому в имеющихся экспе риментальных и теоретических работах рассматриваются именно эти напряжения. Покрытия в первом приближении рассматривают ся как сплошная среда, что может быть оправдано невысокой их пористостью. Это существенно упрощает задачу и позволяет прово дить расчеты в рамках хорошо разработанных теорий механики сплошной среды (сопротивления материалов, теории упругости, пластичности и ползучести), хотя, конечно же, и вносит определен ные погрешности в результаты расчета. Однако для инженерной практики такой подход во многих случаях может быть оправдан ным исходя из возможности создания относительно простых про граммных средств, реализующих модели и их уточнения по резуль татам экспериментов.
Рассмотрим образование температурных напряжений в системе покрытие-основа, которую можно представить в виде двухслойной пластины, состоящей из разнородных слоев толщи
ной Si и <%. Считаем, что слои линейно-упругие, однородные и изотропные, а также, что каждый слой нагрет равномерно в плоскости пластины и неравномерно по толщине композита в направлении оси Z .
Принимаем, что напряжения в системе в процессе ее образо вания отсутствуют. Это означает, что к концу процесса формирова ния покрытия напряжения в системе покрытие-основа равны нулю, и остаточные напряжения являются результатом его остывания.
Анализ напряжений и деформаций в системе покрытиеоснова при линейно-упругом деформировании может быть прове ден в рамках теорий термоупругости и многослойных пластин. Уд линение вследствие температурных изменений является чистым изменением объема и поэтому одинаково в направлении трех коор динат. Эти удлинения не вызывают дополнительных напряжений, если в материале имеется постоянное распределение температуры и нет препятствий свободному расширению материала.
Возникающие при этом тепловые расширения могут быть представлены:
ет= а {Т - Т 0), |
(7.10) |
где а — коэффициент линейного расширения материала;
(Т-То) — изменение температуры в материале;
То— соответствует начальной температуре и первоначальной длине материала.
В случае двухосного напряженного состояния, которое бу дет иметь место для рассматриваемой тонкой пластины, состоя щей из изотропных материалов, взаимосвязь между деформа циями и напряжениями может быть представлена с помощью закона Гука с использованием модуля упругости Е и коэффици ента поперечной деформации ц.
S x = ^ K - ^ ) + a (r _ :r o)
6 z = ~ K + s ) + a (7’- :ro |
) |
(7'П ^ |
у
J*y £ *У
Y.T = Y z * = 0
Если граничные условия в направлении осей X и У одина ковы, то стх = ау и систему (7.11) можно представить в виде
е , = е у = ^ стх + а ( 7 ,- 7 ’о)
(7.12)
е , = - у ^ + а ( Г - Г 0)
С другой стороны, деформации, возникающие в системе, можно определить на основе оценки деформации и кривизны базовой поверхности, в качестве которой примем плоскость, от носящую от плоскости ХОУ на расстоянии 5/2 (рис. 7.6).
Считая справедливой гипотезу плоских сечений, деформа цию гх можно записать, используя формулу Коши:
8 |
= 8 ° —Y°(z—— |
(7.13) |
X |
X Л, I 2 |
|
где е° —деформация базовой поверхности;
х° —кривизна базовой поверхности в направлении оси X.
Деформация i-ro слоя в направлении оси X, согласно (7.12),
будет равна |
|
е(*')= :Ч ^ а *+ а ' ф ) ’ |
(7.14) |
где t[z) —изменение температуры в направлении оси Z. Исходя из условия равновесия системы можно записать
f 1a^dz + |
[ |
a ^d z = О, |
|
|
Jo |
* |
Js, |
x |
(7.15) |
|
|
|
z — dz = 0 |
|
|
|
|
|
|
Из уравнений (7.13) и (7.14) для i-ro слоя найдем |
|
|||
о ? |
= 7 Г - ( 8" - Х° (г-- 5/:2 ) - a , t ( z j ) . |
(7.16) |
||
|
* |
М'/ |
|
|
Подставляя (7.16) в систему уравнений равновесия (7.15), после преобразований получим
4 е ° - Я 1ХО- С , = 0 ]
(7.17)
А2г°х- В 21° - С 2= 0 у
где
Из системы уравнений (7.17) можно определить деформа
цию и кривизну базовой поверхности
go _ ~ Q A
‘АВ2- а а ’
о_ АРх а хс2
Когда известны е° и х°, напряжения в покрытии и основе определяются по формуле (7.16). Алгоритм компьютерной реа лизации данной модели приведен на рис. 7.6.