- •1.Этапы развития исследований структуры и свойств поверхностей, покрытий, пленок.
- •2.Тонкие пленки и их классификация.
- •3. Основные параметры тонких покрытий
- •4 Стадии и механизмы роста пленок при их осаждении из газового потока
- •5.Образование адсорбционной фазы и зародышей конденсированной фазы
- •6. Термодинамическая теория зародышеобразования.
- •7. Физико – химические основы активационной обработки поверхностей.
- •8. Механическая активация поверхностей.
- •9. Химическая активация поверхностей.
- •10. Физическая активация поверхностей.
- •11. Нанесение полимерных покрытий
- •12. Классификация методов нанесения полимерных покрытий.
- •13.Нанесение полимерных покрытий электростатическим методом
- •14. Монолитизация покрытий.
- •15.Технологичекие рекомендации по нанесению полимерных покрытий.
- •16.Структура и свойства полимерных покрытий.
- •17 Технологические методы повышения адгезии покрытий.
- •18.Нанесение покрытий в вакууме.
- •20.Лазерное напыление покрытий.
- •21. Электронно-лучевое нанесение вакуумных покрытий.
- •22. Особенности электронно-лучевого испарения диэлектриков
- •23. Электродуговое нанесение покрытия
- •24. Реактивные методы нанесения покрытий
- •25.Катодное распыление
- •26.Магнетронное распыление
- •27.Технология получения покрытий плазмо-ионным распылением в несамостоятельном газовом разряде
- •28.Технология формирования тонких полимерных покрытий из активной газовой фазы
- •29. Антифрикционные и износостойкие покрытия
- •30.Методы контроля параметров осаждения пленок
9. Химическая активация поверхностей.
Химические методы проводят с целью обезжиривание поверхности, формирования на ней слоя с определенными морфологией (травление), химическим составом и свойствами. Такая обработка заключается в действии на поверхность растворителей, специальных химических растворов, паст. Для повышения эффективности обработки деталь или раствор нагревают до Т=60-80 С. После обработки поверхности растворами деталь промывают горячей водой, затем холодной и сушат.
Важной операцией является контроль качества обработки, который может
осуществляют разными способами:
1)восстановление металлов в соответствующем растворе;
2)флуоресцептный метод анализа- обрабатываемая деталь помещается в раствор флуоресцентного красителя. Ели деталь хорошо обработана то под действием УФ излучения происходит равномерное свечение поверхности.
Электрохимическая обработка, осуществляемая в щелочных (NaOH) растворах или растворах солей NaCO3 , NaPO4 при воздействии постоянного или переменного тока. При прохождении тока через раствор происходит электролиз. На поверхности детали, которая является одним из электродов, образуются газовые пузыри, которые захватывают загрязнение на поверхности и удаляются с поверхности вместе с ними. Основной недостаток данного метода: нельзя провести качественную обработку поверхностей сложной формы.
Фосфатирование заключается в обработке поверхности в растворах солей фосфорной кислоты. В результате, на поверхности образуется плотный, нерастворимый в воде слой фосфатов. Образовавшаяся пленка является сплошной, мелкодисперсной и имеет высокую шероховатость, поэтому адгезия наносимого покрытия после фосфатирования очень высокая. Очаг коррозии, образовавшейся в области сквозной поры, при проведении фосфатирования локализуется. Если же поверхность не фосфатирована, то коррозия быстро распространяется по границе пленка-подложка.
Наиболее эффективно применение фосфатирования при нанесении покрытий, эксплуатируются в воде или во влажной атмосфере. Не рекомендуется производить фосфатирование при эксплуатации покрытия в кислых средах; в этом случае кислота взаимодействует с фосфатами, и образуются легкорастворимые соли, что ведет к разрушению пленки. Промышленность выпускает специальные хими- ческие концентраты для фосфатирования КФ-1, КФ-2, КФА-1.
Химическое оксидирование- предназначен для получения оксидных пленок холодным способом. Пленка имеет кристаллическую структуру и предст. смесь металлов и фосфатов.
10. Физическая активация поверхностей.
К физическим методам обработки относятся методы, заключающиеся в воздействии на поверхность электрических и магнитных полей, заряженных частиц, обработка в электрических разрядах, ультразвуком, ультрафиолетовым излучением, радиационная обработка, газопламенная.
I Обработка диэлектриков в плазме газового тлеющего разряда реализуется 1..100Па. Качество активации поверхности зависит от геометрии межэлектронного промежутка, давление газа и наличие внешних магнитных полей.
Активационный эффект при воздействии тлеющего разряда на поверхность диэлектрика обусловлен следующими факторами: воздействием на поверхность электронов; воздействием на поверхность ионов; обработкой поверхностных слоев ультрафиолетовым излучением. II обработка в коронном разряде, возникновение которого обусловлено высокой неоднородностью электрического поля вблизи поверхностей с малым радиусом кривизны. Обработка проводится в атмосфере воздуха, азота, аммиака, инертного газа, водорода, углекислого газа . Данная обработка характеризуется исключительно высокой производительностью, скорость перемотки при обработке пленки составляет до 100 м/мин. Коронирующие электроды, имеющие малый радиус кривизны, размещают на расстоянии 3-5 мм от обрабатываемой поверхности и подают на него отрицательный потенциал 10-50 кВ. Эффективность обработки резко возрастает при использовании высокочастотного напряжения.
III Газопламенная обработка активационный эффект достигается в результате воздействия пламени ацетиленовой горелки на обрабатываемую поверхность. Обработка производится, в кислородсодержащей среде. В поверхностных слоях активно протекают процессы окисления, структурирования.
IV Ультразвуковая очистка, заключающаяся в воздействии на поверхность ультразвуковых колебаний, создаваемых в жидкой среде. Для создания УЗ-колебаний используются устройства, основным элементом которого является магнитно-стрикционный излучатель.
V Ультраабразивные методы реализуются в случае, когда в жидкую среду добавляют высокодисперсные твердые частицы, имеющие размер 5-10 мкм. Размер этих частиц должен быть меньше размеров кавитационных пузырей.