Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

gurtov

.pdf
Скачиваний:
49
Добавлен:
07.02.2016
Размер:
3.72 Mб
Скачать

Приложение А. Нобелевские премии за работы по твердотельной электронике

 

 

 

 

 

Формулировка

Ссылка на текст нобелевской

 

 

 

Авторы

Нобелевского

 

 

 

лекции

 

 

 

 

 

комитета

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1998

 

 

 

Robert B.

 

http://nobelprize.org/

 

 

Laughlin

 

 

 

 

physics/laureates/1998/

1/

 

of the prize

 

3

 

laughlin-lecture.pdf

 

 

 

 

USA

 

 

 

 

 

 

«Fractional quantization»

Stanford University

 

 

Nobel Lecture,

Stanford, CA, USA

 

 

December 8, 1998

 

 

 

b. 1950

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Horst L.

 

http://nobelprize.org/

 

 

Störmer

 

 

 

 

physics/laureates/1998/

1/

 

of the prize

for their discovery

3

stormer-lecture.pdf

Federal Republic

of a new form of

«The fractional quantum Hall

of Germany

quantum fluid with

effect»

Columbia University

fractionally charged

Nobel Lecture,

New York, NY, USA

excitations

December 8, 1998

 

 

 

b. 1949

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

http://nobelprize.org/

Daniel C. Tsui

 

physics/laureates/1998/

1/

3

of the prize

 

stormer-lecture.pdf

 

 

 

USA

 

«Interplay of disorder and

 

 

 

 

 

Princeton University

 

interaction in two-dimensional

Princeton, NJ, USA

 

electron gas in intense magnetic

 

 

 

b. 1939

 

fields»

(in Henan, China)

 

Nobel Lecture,

 

 

 

 

 

 

December 8, 1998

 

 

 

Роберт Лафмен

 

 

1/

3

премии

 

 

 

 

 

США

 

 

 

 

 

 

 

Дробное квантование

Стэнфордский

 

 

 

университет

 

 

 

 

 

р. 1950

 

 

 

 

 

Хорст Штермер

за открытие новой

 

1/

3

премии

формы квантовой

 

 

 

 

ФРГ

жидкости с дробно

Дробный квантовый эффект

 

 

 

 

Колумбийский

заряженными

Холла

университет, США

возбужденными

 

 

 

 

р. 1949

состояниями

 

 

 

 

Дэниел Цуй

 

 

1/

3

премии

 

Взаимосвязь беспорядка

 

 

 

США

 

и корреляции в двумерном

 

 

 

 

 

Принстонский

 

электронном газе в сильных

университет

 

магнитных полях

 

 

 

р. 1939

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Gurtov.indd 373

17.11.2005 12:29:30

Приложение А. Нобелевские премии за работы по твердотельной электронике

 

 

 

 

 

Формулировка

Ссылка на текст нобелевской

 

 

 

Авторы

Нобелевского

 

 

 

лекции

 

 

 

 

 

комитета

 

 

 

 

 

 

2000 for basic work on information and communication technology

Zhores I. Alferov

 

http://nobelprize.org/physics/

 

laureates/2000/alferov-lecture.pdf

1/

 

of the prize

 

4

 

«The double heterostructure:

 

 

 

Russia

 

 

 

 

 

concept and its applications

A. F. Ioffe Physico-

 

 

in physics, electronics and

Technical Institute

 

for developing

technology»

St. Petersburg, Russia

Nobel Lecture

 

 

 

b. 1930

semiconductor

 

 

 

December 8, 2000

 

 

 

 

 

heterostructures used

 

 

 

 

 

 

Herbert Kroemer

in high-speed- and

http://nobelprize.org/physics/

opto-electronics

1/

4

of the prize

laureates/2000/kroemer-lecture.pdf

Federal Republic

 

«Quasi-electric fields and band

of Germany

 

offsets: teaching electrons new

University of California

 

tricks»

Santa Barbara, CA, USA

 

Nobel Lecture,

 

 

 

b. 1928

 

December 8, 2000

 

 

 

 

 

 

 

Jack S. Kilby

 

http://nobelprize.org/physics/

 

laureates/2000/kilby-lecture.pdf

1/

 

of the prize

 

2

for his part in the

«Turning potential into realites:

 

 

 

USA

 

 

 

 

 

 

 

 

invention of the

the invention of the integrated

Texas Instruments

integrated circuit

circuit»

Dallas, TX, USA

 

Nobel Lecture, December 8,

 

 

 

b. 1923

 

 

 

 

 

2000

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2000 за основополагающие работы в информационных и

телекоммуникационных технологиях

 

Жорес Иванович Алферов

 

 

1/

4

премии

 

Двойные гетероструктуры:

 

 

 

Россия

 

свойства и их использование

Физико-техничекий

за открытие

в физике, электронике и

институт им. А. Ф. Иоффе

полупроводниковых

технологиях

 

 

 

р. 1930

гетероструктур,

 

 

 

 

 

 

используемых

 

Герберт Кремер

 

в высокоскростной

 

1/4 премии

оптоэлектронной

Квазиэлектрические поля и

 

 

 

 

ФРГ

связи

 

 

 

 

разрывы зон: новое поведение

Калифорнийский

 

 

электронов

университет, США

 

 

 

 

 

 

р. 1938

 

 

 

 

 

Джек С. Килби

за вклад

 

1/

 

премии

Переход от возможного

2

в изобретении

 

 

 

США

к реальности: изобретение

 

 

 

 

 

 

 

 

интегральной

Техас Инструментс

интегральной схемы

схемы

 

 

 

р. 1923

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Gurtov.indd 374

17.11.2005 12:29:30

Приложение А. Нобелевские премии за работы по твердотельной электронике

 

 

 

 

 

Формулировка

Ссылка на текст нобелевской

 

 

 

Авторы

Нобелевского

 

 

 

лекции

 

 

 

 

 

комитета

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2003

 

 

Alexei A. Abrikosov

 

http://nobelprize.org/physics/

1/

3

of the prize

 

laureates/2003/abrikosov-

USA and Russia

 

lecture.pdf

Argonne National

 

«Type II superconductors and

Laboratory

 

the vortex lattice»

Argonne, IL, USA

 

Nobel Lecture, December 8,

 

 

 

b. 1928

 

2003

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

http://nobelprize.org/physics/

Vitaly L. Ginzburg

 

laureates/2003/ginzburg-

 

lecture.pdf

1/

 

of the prize

for pioneering

3

«On superconductivity and

 

 

 

Russia

contributions

 

 

 

superfluidity»

P. N. Lebedev Physical

to the theory

Nobel Lecture, December 8,

 

 

Institute

of superconductors

 

 

2003

Moscow, Russia

and superfluids

На русском языке http://data.

 

 

 

b. 1916

 

 

 

 

 

ufn.ru//Ginzburg/Gin_nob_

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

r.pdf

 

 

 

 

 

 

 

Anthony J. Leggett

 

http://nobelprize.org/physics/

 

laureates/2003/leggett-lecture.

1/

 

of the prize

 

3

 

pdf

United Kingdom and USA

 

 

«Superfluid 3-He: the early days

University of Illinois

 

 

as seen by a theorist»

Urbana, IL, USA

 

 

Nobel Lecture, December 8,

 

 

 

b. 1938

 

 

 

 

 

2003

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Алексей А. Абрикосов

 

 

1/

3

премии

 

 

США и Россия

 

Сверхпроводники типа II и

Аргонская национальная

 

вихревые решетки

лаборатория

 

 

 

 

 

р. 1928

 

 

 

 

 

Виталий Л. Гинзбург

за новаторский

 

1/

 

премии

 

3

вклад в теорию

 

 

 

 

Россия

Сверхпроводимость и

 

 

 

сверхпроводимости

Физический институт

сверхтекучесть

и сверхтекучести

им. П. Н. Лебедева

 

 

 

 

 

 

р. 1916

 

 

 

 

 

Энтони Дж. Лаггет

 

 

1/

3

премии

 

Сверхтекучий He-3: первые

Великобритания и США

 

 

дни с точки зрения теоретика

Университет Иллинойса

 

 

 

 

 

 

р. 1938

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Gurtov.indd 375

17.11.2005 12:29:30

Приложение А. Нобелевские премии за работы по твердотельной электронике

Нобелевские премии по химии, связанные с тематикой твердотельной микро- и оптоэлектроники1

Таблица А.2

 

 

 

 

 

 

Формулировка

Ссылка на текст нобелевской

 

 

 

Авторы

нобелевского

 

 

 

лекции

 

 

 

 

 

 

комитета

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1996

 

 

Robert F. Curl Jr.

 

http://nobelprize.org/

 

chemistry/laureates/1996/

1/

 

of the prize

 

3

 

curl-lecture.pdf

 

 

 

USA

 

 

 

 

 

 

«Dawn of the fullerenes:

Rice University

 

 

experiment and conjecture»

Houston, TX, USA

 

 

Nobel Lecture, December 7,

 

 

 

b. 1933

 

 

 

 

 

1996

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Sir Harold W. Kroto

 

http://nobelprize.org/

 

chemistry/laureates/1996/

1/

 

of the prize

 

3

for their discovery

kroto-lecture.pdf

 

 

 

 

 

United Kingdom

of fullerenes

«Symmetry, space, stars

University of Sussex

 

and C60»

Brighton, United Kingdom

 

 

Nobel Lecture, December 7,

 

 

 

b. 1939

 

 

 

 

 

1996

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Richard E. Smalley

 

http://nobelprize.org/

1/

3

of the prize

 

chemistry/laureates/1996/

 

 

 

USA

 

smalley-lecture.pdf

 

 

 

 

 

Rice University

 

«Discovering the fullerenes»

Houston, TX, USA

 

Nobel Lecture,

 

 

 

b. 1943

 

December 7, 1996

 

 

 

 

Роберт Ф. Керл мл.

 

 

1/ премии

 

Заря фуллеренов: эксперимент

 

 

 

3

США

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

и гипотезы

Университет Райса

 

 

 

 

 

 

р. 1933

 

 

 

 

 

 

Сэр Гарольд. В. Крото

 

 

1/ премии

за открытие

Симметрия, космос,

 

 

 

3

 

 

Великобритания

фуллеренов

звезды и C60

Университет Суссекса

 

 

 

 

 

р. 1939

 

 

 

 

 

 

Ричард И. Смелли

 

 

1/

3

премии

 

 

 

 

 

США

 

Открытие фуллеренов

 

 

 

 

 

Университет Райса

 

 

 

 

 

р. 1943

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1 http://nobelprize.org/chemistry/

 

Gurtov.indd 376

17.11.2005 12:29:30

ПРИЛОЖЕНИЕ Б

РЕШЕНИЯ ЗАДАЧ

Глава1.Необходимые сведения из физики твердого тела и физики полупроводников

1.1. Концентрация собственных носителей заряда ni имеет сильную температурную зависимость и определяется как:

ni =

NC NV

 

Eg

 

 

exp

 

,

(Б1.1)

 

 

 

 

 

2kT

 

где эффективная плотность состояний в C- и V-зонах NC,V также зависит от температуры T и эффективной массы плотности состояний m*:

 

 

 

 

 

 

 

3

 

 

 

 

 

 

3

 

 

 

3

 

 

 

 

 

 

mn,*

pkT 2

 

 

mn,*

 

2

T

 

 

 

 

NC, V

 

19

 

p

2

 

−3

 

= 2

 

 

 

 

= 2,5 10

 

 

 

 

 

 

 

 

 

, см

 

. (Б1.2)

h

2

m

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

300

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ширина запрещенной зоны Eg имеет слабую зависимость от температуры типа Eg = Eg0 αT. Величины Eg0 и α приведены в приложении, здесь же можно найти величины NC и NV при T = 300 К. Расчет значений эффективной плотности состояний в C- и V-зонах и концентрации собственных носителей заряда ni при температуре жидкого азота 77 К приводится ниже.

 

 

 

Si

Ge

GaAs

InSb

 

 

 

 

 

 

 

N

C

, см–3

3,6·1018

1,04·1019

5,8·1016

5,1·1015

N

V

, см–3

1,4·1018

6,9·1018

9,8·1017

1,5·1018

ni, см–3

3·10–20

1,4·10–7

2,8·10–33

1,2·1010

1.2.Примесь полностью ионизована, когда концентрация равновесных электро-

нов равна концентрации легирующей примеси n0 = ND. Из основного соотношения для полупроводников n0·p0 = ni2 найдем концентрацию неосновных носителей заряда p0 = ni2/n0. Для Si p0 = 2,6·103, для GaAs p0 = 1,2·10–3 см–3.

1.3.В собственном полупроводнике n0 = p0 и положение уровня Ферми относительно середины запрещенной зоны полупроводника φ0 можно рассчитать как:

 

 

 

 

 

 

 

kT

 

 

NV

 

3

 

 

mn*

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ϕ

0i

=

 

 

ln

 

 

 

=

 

 

kT ln

 

 

,

 

 

 

 

 

 

 

(Б1.3)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

*

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

NC

 

4

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

mp

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3

 

 

 

 

3

 

 

 

 

 

 

 

mn,p*

kT

 

 

 

 

 

 

 

mn,p*

 

 

 

T

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

2

 

 

 

N

 

 

 

 

 

 

 

 

19

 

2

 

 

= 2

 

 

 

 

 

 

= 2,5

10

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

. (Б1.4)

C, V

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

h

 

 

 

 

 

 

 

 

 

m0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

300

 

 

 

Gurtov.indd 377

17.11.2005 12:29:31

Приложение Б. Решения задач

T, К

 

300

77

φ0, эВ

Si

–0,0124

–0,0032

 

InSb

0,074

0,019

 

 

 

 

Таким образом, в кремнии уровень Ферми лежит ниже, а в антимониде индия — выше середины запрещенной зоны полупроводника Ei (рис. Б1.1).

Ec

Ei φ0 > 0

Ev

Рис. Б1.1. Зонная диаграмма полупроводника, когда φ0 > 0, mp* > me*

1.4. В легированном полупроводнике p0 >> ni положение уровня Ферми φ0 можно рассчитать по формуле:

ϕ0

=

kT

 

p0

 

 

 

ln

 

.

(Б1.5)

q

 

 

 

ni

 

 

Концентрацию основных носителей p0 найдем, зная величину удельного сопротивления ρ = 10 Ом·см, как:

1

 

p0 = qμpρ .

(Б1.6)

В результате: p0 = 3,3·1014 см–3, φ0 = 0,067 эВ.

1.5. Положение уровня Ферми в InSb определим по формуле (Б1.4):

φ0 = 0,085 эВ.

Чтобы найти φ0 относительно середины запрещенной зоны, нужно учесть сдвиг уровня Ферми в собственном полупроводнике (см. задачу 1.3): –0,019 эВ, т. е. φ0n = 0,104 эВ в n-InSb и φ0p = 0,066 эВ в p-InSb. Если рассчитать положение уровня Ферми относительно края С-зоны, то:

Eg − ϕ0n = 0,115 − 0,104 = 0,011 эВ . 2

Это не превышает величины 2kT (0,013 эВ при T = 77 К), т. е. n-InSb — вырожден, p-InSb — нет.

1.6.Зная удельное сопротивление ρ = 4,5 Ом·см, по формуле (Б1.5) найдем уро-

вень легирования ND = 1·1015 см–3, а далее по формуле (Б1.4) положение уровня Ферми φ0 = 0,284 эВ при 300 К и φ0 = 0,52 эВ при 77 К.

1.7.Величину удельного сопротивления ρ получим из соотношения:

ρ =

1

=

1

,

 

 

 

σ

 

qμn n

учитывая условие полной ионизации примеси.

Gurtov.indd 378

17.11.2005 12:29:34

Приложение Б. Решения задач

p-тип: p0 = NA; n-тип, n0 = ND.

ρ =

1

=

 

1

 

.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

σ

 

qμn,p NA,D

 

 

ρn

=

 

 

 

 

 

1

 

 

= 0,42 Ом см;

 

 

 

 

 

 

1,6 10

−19

16

 

 

 

 

1500 10

 

 

ρp

=

 

 

 

 

1

 

=1,05 Ом см.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

10

−19

16

 

1,6

 

600 10

 

 

1.8. В собственном полупроводнике удельная электропроводность равна:

σi = qnμn + qpμp = qni n + μp)

и, соответственно, ρi = 1/σi:

 

Si

Ge

GaAs

InSb

 

 

 

 

 

ρi, Ом·см

1,9·105

43

6,4·107

4·10–3

1.9. Вырождение в полупроводнике наступает, когда уровень Ферми F приближается к C- или V-зоне на расстояние порядка kT, т. е. F EV = kT. В случае полной ионизации примеси концентрация дырок p определяется как:

 

EV

F

 

p = NV exp

 

 

 

(Б1.7)

 

 

 

kT

 

и равна уровню легирования NA: NA = p = NV/2,73. Для Si: NA = 3,8·1018 см–3, для Ge: NA = 2,2·1018 см–3.

1.10.ND = 7,4·1014 см–3. Учитывая температурную зависимость ni (см. задачу 1.1), вычисляем φ0: при T = 300 К φ0 = 0,47 эВ и при 77 К φ0 = 0,72 эВ, тогда Δφ0 = 0,25 эВ.

1.11.Известно, что Eg и NC,V зависят от температуры. Для оценки граничной температуры пренебрежем этим фактом. Тогда, учитывая, что n0 = ND и n0 = ni, после преобразования получим:

 

Tгр =

Eg

 

 

1

 

.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2k

NC NV

 

 

 

 

 

 

 

ln

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ND

 

 

 

Si

 

Ge

 

GaAs

 

InSb

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Tгр, К

668

 

 

 

439

 

1104

 

195

Tгр, °C

395

 

 

 

166

 

831

 

–78

1.12.На качественной зависимости ln n от 1/T можно выделить 3 участка:

1)с энергией активации Eа, соответствующей ионизации примеси, 2) собственно матрицы полупроводника и 3) нулевой (рис. Б1.2).

Gurtov.indd 379

17.11.2005 12:29:34

Приложение Б. Решения задач

 

ln n

= Ec Ev

 

Ea

 

 

2

 

 

n = Nd Na

 

 

Ea ≈ 0

Ea = Ec Ed

 

1/T2

1/T1

 

 

1/T

Рис. Б1.2. Температурная зависимость концентрации электронов

Нижняя граница области T1 определяется условием n = ND NA, т. е.:

T1 =

EC ED

 

 

.

k ln

NC (T )

 

gNA

 

 

Верхняя граница области T2 определяется условием ni = ND NA, т. е.:

T2 =

(EC EV )0

 

 

;

 

NC (T2 )

 

α

 

2k ln

 

+

 

 

 

NC NV

 

 

 

 

2k

EС EV = (EС EV)0 αT.

В первом приближении T1 = 580 К и T2 = 7010 К. Второе приближение дает существенно отличные значения T1 = 78 К и T2 = 540 К.

1.13. В условиях термодинамического равновесия полная плотность тока дырок jp равна нулю, т. е.:

jp = jpдиф

Отсюда внутреннее поле:

+ jp др = qp E Dp dp) = 0. dx

E= Dp dp 1 . i μp dx p

Продифференцировав p (x): dp = − p , получим: dx x0

E =

Dp

 

1

= 500

В

и j

 

= j

 

= 3,2·10–14·А/см2.

 

 

 

p диф

p др

i

μp

 

x0

см

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1.14. Темп генерации с учетом Ei = Et задается формулой:

G =

pn ni2

 

(p + n + 2 ni )τ0 .

(Б1.8)

Gurtov.indd 380

17.11.2005 12:29:34

Приложение Б. Решения задач

По уровню легирования ND = n0 = 7·1015 см–3 можно рассчитать равновесную концентрацию неосновных носителей заряда:

p0 = ni2 = 2,1 105 см−3.

ND

Время жизни τ0 рассчитаем как:

τ0 =

1

,

(Б1.9)

Ntοtvt

т. е. τ0 равно 1·10–7 с.

Неравновесные концентрации носителей заряда равны:

n = n0 + n n0 — основных и p = p0 + p p — неосновных.

В первом случае, когда n, p << ni, формула (2.1) сводится к:

G =

ni2

= −

 

ni

,

ni 2 τ0

 

 

 

2

τ0

G = 7,25·1016 см–3·c–1.

Во втором случае, когда n >> ni и p0 >> p:

G = n0 p = p p0 = − p0 ,

n0τ0

τ0

τ0

G = 2,6·1011 см–3·c–1.

1.15.Время жизни τ0 рассчитаем по формуле (2.2) как τ0 =1·10–8 с, концентрации неравновесных носителей заряда равны n = ND = 1016 см–3 и p = G·τ0 = 1013 см–3.

1.16.Коэффициент рекомбинации r получим из соотношения G = R = r·n·p.

G = r(n + p) = r(n0 + n + p0 + p) = r ·Δn·(n0 + p0) = r ·Δn·n0.

 

Отсюда имеем для r :

 

 

 

 

r =

G

 

1

=

1

,

 

 

 

 

 

 

 

 

n n0

τ0n0

 

 

r = 1·10–8 см3c–1, избыточная концентрация электронов n = G ·τ

= 5·1012

см–3.

 

 

 

 

 

0

 

 

1.17. При наличии градиента концентраций плотность диффузионного тока:

j

диф

= qD

n =

qμn

 

 

n = 825

А

.

kT

 

см2

 

 

 

 

x

 

x

 

1.18. В стационарном случае имеем:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

q

 

 

 

 

 

G =

τ

p

и G = γ·I,

 

 

 

 

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

поэтому p = γ·I·τ, т. е. p = 1016 см–3.

Δσ =

pn + μp )

= 0,15.

 

σ0

n0μn

Gurtov.indd 381

17.11.2005 12:29:35

Приложение Б. Решения задач

Глава 2. Барьеры Шоттки, p-n-переходы и гетеропереходы

2.1. Контактная разность потенциалов Δφms = ФAu – ФGe = ФAu χ + Eg/2 – φ0. Учитывая, что:

 

1

 

 

 

15

−3

 

ND =

 

 

=1,6 10 см

 

и

qμnρ

 

 

 

 

ND

 

 

 

 

ϕ0

= kT ln

 

 

= 0,11 эВ ,

ni

имеем ФGe = 4,22 эВ, φк = 0,48 эВ.

 

 

 

 

 

 

2.2. Ширина области обеднения W определяется:

 

W =

sε0 (Δϕms Vg )

.

(Б2.1)

 

 

q Nd

 

Высота барьера Δφms, уровень легирования ND и φ0 рассчитываются, как и в задаче 2.1:

ND = 4,2·1016 см–3, φ0 = 0,38 эВ, φк = 1,07 эВ.

Тогда:

W (VG = +0,4) = 0,14 мкм,

W (VG = –0,2) = 0,14 мкм, W (VG = 0) = 0,14 мкм.

2.3, 2.4. Зависимость электрического поля E и потенциала φ в барьере Шоттки от координаты x можно рассчитать как:

E =

dϕ

=

q ND

W

x

 

 

 

 

 

1

 

;

dx

 

 

 

 

 

 

 

εs ε0

 

W

 

 

 

 

x

2

 

 

 

ϕ = ϕmax 1−

 

 

.

 

 

(Б2.2)

W

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ширина области обеднения W определяется, как и в задаче 2.2. Ответ для задачи 2.3 при x = 0:

Emax (VG = +0,3 В) = 3,82·104 В/см,

Emax (VG = 0 В) = 4,95·104 В/см,

Emax (VG = –110 В) = 5,78·105 В/см.

Ответ для задачи 2.4 при W = 4,2 мкм:

E (x = 1,2 мкм) = 1,9·104 В/см,

φmax = φк + VG = 5,65 эВ,

φ(x) = 2,9 В.

2.5. Вольт-амперная характеристика идеального диода описывается формулой:

qVG

 

 

j = js (e kT

−1).

(Б2.3)

Gurtov.indd 382

17.11.2005 12:29:35

Соседние файлы в предмете [НЕСОРТИРОВАННОЕ]