Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

optika

.pdf
Скачиваний:
5
Добавлен:
12.05.2015
Размер:
1.45 Mб
Скачать

зоны переходит в свободную зону, и при наличии электрического поля потечёт ток, который, однако, значительно слабее тока в металлах.

2. Свободные электроны в металле. Рассмотрим кубик металлического проводника единичного объёма, в котором имеется n свободных электронов. В соответствии с рассмотренной выше теорией свободные (валентные) электроны образуют зону, попарно располагаясь на энергетических уровнях. Электроны образуют особый вид газа, в котором все пары электронов имеют разные энергии. Такой газ называется ферми-газом. В молекулярной физике аналогов ему нет, так как любые атомы или молекулы, их которых состоит газ, могут иметь одинаковую энергию. В этом приближении металл можно рассматривать как потенциальную яму (см. §20), размеры которой определяются границами кубика металла. Глубина ямы задаётся потенциальной энергией U0, обусловленной притяжением электронов к положительно заряженным ядрам кристаллической решётки металла (рис. 29.2).

 

W

 

 

 

 

 

 

 

Внутри

 

Снаружи

0

 

x W0

 

 

U(x)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Заполненные

 

 

 

 

 

энергетические

 

 

Kf

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

уровни

 

 

 

 

U0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Рис. 29.2

Энергия электронов считается отрицательной, внутри ямы (объёма металла) изображены уровни энергии n электронов, нулевая энергия соответствует выходу электрона из металла. Как видно из рисунка, энергии электронов различны, и существуют электроны с наивысшей энергией. Самый высокий уровень энергии называется уровнем Ферми (Kf). Свободные электроны металла удерживаются внутри него силами притяжения со стороны ядер. Чтобы вырвать электрон из металла, нужно затратить работу выхода W0. Минимальная работа в этом случае определяется работой выхода с уровня Ферми (W0 = U0 – Kf ), на котором энергия электрона за счёт наличия тепловой энергии самая высокая. Изложенная модель позволяет рассмотреть различные свойства металла и, в том числе, важные с точки зрения техники контактные явления.

3. Контактная разность потенциалов. Контактная разность потенциалов была рассмотрена в разделе «Электрический ток». Рассмотрим вопрос о том, как она объясняется с точки зрения зонной теории. Напомним, что при соединении двух металлических

103

проводников различного типа (например, меди и железа) между ними возникает разность потенциалов, называемая контактной. Это явление можно уяснить, используя диаграммы описанных выше потенциальных ям.

Рис. 29.3

Рассмотрим два различных металла А и В (рис. 29.3 а). Пусть уровень Ферми в металле А составляет –2 эВ, в металле В — –3 эВ; при этом потенциальная энергия электронов внутри металла А равна –4 эВ. а в В — –6 эВ. Приведём в соприкосновение эти два металла. Тогда потенциальные ямы образуют единую яму сложной конфигурации (рис. 29.3 б). Электроны из металла А переходят в металл В, где имеются свободные уровни с более низкой энергией, до тех пор, пока энергии обоих металлов (то есть уровни Ферми) не станут равными. Вследствие этого потенциальная яма металла В поднимается вверх (рис. 29.3).

Между металлами появляется упомянутая выше контактная разность потенциалов ∆ϕ, равная разности уровней Ферми (в нашем случае –2 – (–3) = 1 эВ).

Из сказанного выше и рисунков и нетрудно понять, что работа по переходу электронов из металла А в В равна разности работ выхода электронов из этих металлов,

которую можно записать через разность потенциалов: W = W01 – W02 = = e(ϕ1 ϕ2) = e ∆ϕ. Отсюда

ϕ = W01 W02 .

e

До сих пор мы неявно полагали, что число электронов в наших единичных объёмах металлов (концентрации электронов n) одинаковы. Однако это в общем случае не справедливо, вследствие чего появляется дополнительный вклад в возникающую разность потенциалов. Если концентрация электронов в металле А равна n1 и в В — n2, то вследствие неравенства зарядов в двух металлах и появляется дополнительная разность потенциалов,

kT ln n1 ,

которая, как показывает теоретическое рассмотрение, равна: e n2 где к — постоянная

104

Больцмана, Т — абсолютная температура металла. Общая контактная разность потенциалов равна:

ϕ =

W01 W02

+ kT ln

n1

.

 

 

 

 

 

e

e

n2

(29.1)

Таким образом, обосновывается формула (19.2) во втором томе данного «Курса физики».

§30. ПОЛУПРОВОДНИКИ Полупроводниками называют группу веществ, электропроводность которых

занимает промежуточное положение между металлами и диэлектриками. Исследования полупроводников показали, что их электрические свойства в большой степени зависят от чистоты полупроводника и от примесей, которые в них находятся. Понятие чистоты веществ относительно. Абсолютно чистых веществ не бывает и лишь природа иногда приближается к такому идеалу, создавая такие образования, как алмаз. Искусственно создаваемые вещества всегда содержат примеси, которые попадают из окружающей среды, со стенок приборов и т.д. С точки зрения химии чистым считается вещество, в котором содержится один посторонний атом на 1000 собственных атомов (концентрация 0,1 %). Остановимся сначала на электропроводности чистых полупроводников.

1. Чистые полупроводники. Полупроводниками являются химические элементы четвёртой группы таблицы Менделеева и некоторые другие соединения. Типичными представителями полупроводников являются кристаллы кремния и германия, в которых атомы объединены ковалентной связью. Вследствие теплового колебательного движения атомов может произойти разрыв некоторых химических связей, в результате чего возникает свободный электрон, который будет хаотически двигаться по кристаллу (рис. 30.1, на котором показана часть кристалла кремния и одна разорванная связь). Удаление электрона приводит к нарушению химической связи, поскольку она осуществляется лишь одним валентным электроном. Эту неполноценную связь называют дыркой. Дырку можно рассматривать как положительный заряд, равный заряду электрона по абсолютной величине, так как в месте, покинутом электроном, будет недостаток электрона. На место дырки может попасть электрон от соседней химической связи. Это приводит к изменению положения дырки. Поэтому дырка будет хаотически перемещаться по кристаллу. Происходит и обратный процесс: электрон и дырка, встречаясь друг с другом, соединяются. Это приводит к их исчезновению и восстановлению химической связи. Такой процесс называют рекомбинацией. Таким образом, в полупроводнике при любой температуре имеется определённая концентрация свободных

105

ne = np и

электронов и дырок, которыми и обусловливается собственная электропроводность полупроводников.

Найдём зависимость электропроводности полупроводника от температуры. Сила тока

I в проводнике связана со скоростью υ упорядоченного движения электронов соотношением

I = enυS, где е — заряд электрона по абсолютной величине; n — концентрация свободных электронов (электронов проводимости), т.е. число электронов в единице объёма; S — площадь поперечного сечения проводника (см. т. 2, §16). Собственная проводимость полупроводника обусловлена электронами и дырками. Поэтому сила тока будет зависеть от концентрации пе электронов и пр дырок, а также от их скоростей υе и υр упорядоченного движения, т.е.

I = enеυеS + enрυрS.

(30.1)

Si Si

Si

Si

Si

Si Si

Рис. 30.1

Установлено, что концентрация носителей тока зависит от температуры полупроводника. Найдём эту зависимость. Если энергия теплового движения атомов

достаточна для разрыва химической связи, то появляются свободный электрон и дырка, т.е. электронно-дырочная пара. Обозначим эту энергию через Wg. Число таких пар N1, возникающих в единице объёма в течение одной секунды, зависит от энергии Wg и

Wg

определяется законом (т. 1, §33): N1 = a e kT , где a — коэффициент пропорциональности; к — постоянная Больцмана; Т — абсолютная температура проводника. С другой стороны, в полупроводнике непрерывно идёт процесс рекомбинации электронов и дырок. Число рекомбинированных пар N2 в единице объёма за одну секунду пропорционально числу электронов и дырок, т.е. N2 = bnenp, где b — коэффициент пропорциональности. Число электронов и дырок в полупроводнике одинаково, так как они появляются парами. Поэтому

N2 = bne2 = bnp2. Поскольку концентрация носителей тока при неизменной температуре постоянна, то число рождающихся пар должно равняться числу

106

рекомбинирующих пар, т.е. N2 = N1, и, следовательно,

bn2

= bn2

= a e

Wg /(kT ).

Отсюда

 

e

 

p

 

 

n2

= n2

= a

eWg /(kT )

 

Wg /(2kT )

 

 

 

 

e

p

b

и ne = np = A e

 

 

,

(30.2)

 

 

 

 

 

 

A =

a

 

 

 

 

 

где коэффициент

b оценивается методами квантовой механики и находится в

пределах 1017 — 1019 см–3 . Подставляя значения ne и np в формулу (30.1), получаем

 

I = Ae(υ

e

+υ

p

)S eWg /(2kT ).

(30.3)

 

 

 

 

Из этой формулы следует,

что

с повышением

температуры полупроводника

увеличивается сила тока, протекающего по полупроводнику, при неизменном напряжении на нём. Из этого следует, что с повышением температуры сопротивление полупроводника и его удельное сопротивление уменьшаются. В этом заключается коренное отличие полупроводников от металлов, у которых с ростом температуры удельное сопротивление ρ увеличивается (ρ = αρ0T, где α — температурный коэффициент сопротивления; ρ0

удельное сопротивление проводника при 0 °С (см. т. 2, §18). Из соотношения (30.3) следует также, что при Т → 0 сила тока стремится к нулю. Следовательно, сопротивление полупроводника становится очень большим и при низкой температуре он является диэлектриком, что подтверждается и опытом. Физически это объясняется тем, что энергии теплового движения не хватает на образование электронно-дырочной пары. Оценим число электронно-дырочных пар в полупроводнике, например, в кремнии при разных температурах. Для кремния Wg 1,1 эВ (1 эВ = 1,6 10–19 Дж) и А 2 1019 см–3. При температуре жидкого

1,11,61019

азота (Т = 77 К) из формулы (30.2) получаем ne = np = 2 1019 e 1,381023 77 1017 м3. Это означает, что одна электронно-дырочная пара возникает в кубе с ребром 4 км. При комнатной температуре концентрация электронно-дырочных пар равна ne = np 2,4 1015 см3. Увеличение температуры на 223 K привело к изменению концентрации электронно-дырочных пар изменению концентрации электронно-дырочных пар в 1036. Поскольку концентрация носителей тока при температуре 77 К очень мала, то полупроводник при этой температуре ведёт себя как диэлектрик. При комнатной же температуре число носителей тока в единице объёма значительно меньше, чем у металлов (пе ~ 1023 см–3), но больше, чем у диэлектриков. Поэтому проводимость полупроводников занимает промежуточное значение между металлами и диэлектриками.

107

2. Примесные полупроводники. Чистые полупроводники не представляют практического интереса. Для электроники весьма полезными оказались так называемые легированные полупроводники, т.е. полупроводники, в которые введены примеси. Они подразделяются на полупроводники n- и p-типа.

а) Полупроводники n-типа. Если в кристаллическую решётку четырёхвалентного полупроводника, например кремния, внедрить пятивалентный атом, например мышьяк, то для образования ковалентных связей с соседями ему надо четыре электрона. Пятый же электрон, вследствие теплового движения, может оторваться от атома. В результате этого атомы примеси превращаются в положительные ионы появляются свободные электроны, обусловливающие проводимость полупроводника (рис. 30.2). Такие примеси называются донорными, а сам полупроводник называют полупроводником n-типа (от слова negative — отрицательный).

Si Si

Si

As+

Si

Si Si

Рис. 30.2

б) Полупроводники p-типа. Если внедрить в кристаллическую решётку четырёхвалентного полупроводника (кремния) трёхвалентный атом (например, бор), то для образования ковалентной связи с соседями ему надо четыре электрона, а у него их только три. Поэтому одна связь оказывается не укомплектованной. Атом бора захватывает один электрон от соседнего атома кремния, так как это энергетически выгодно. В результате этого атомы примеси превращаются в отрицательные ионы, а в полупроводнике возникают дырки, обусловливающие его электропроводность (рис. 30.3). Проводимость этого типа называется дырочной, примесь — акцепторной, а полупроводник — p-типа (от слова positive — положительный).

108

Si Si

Si

В

Si

Si Si

Рис. 30.3

Оценим равновесную концентрацию примесных электронов в полупроводнике п-типа или примесных дырок в полупроводнике р-типа. В настоящее время разработаны методы тщательной очистки полупроводников от примесей. Так, в 1 см3 кремния, в котором содержится ~ 1023 атомов кремния, уровень неконтролируемыхпримесей порядка — 1011 атомов. Предположим, что в кремний ввели еще 10000 атомов примеси, например, мышьяка, и

всего их стало N 1015 см–3. Оценка концентрации примесных электронов или дырок проводится по формуле, аналогичной соотношению (30.2), полученной для чистого полупроводника:

n = (AN )1/2 e

Wi

,

 

2kT

(30.4)

 

 

 

где п — концентрация электронов или дырок; N — число атомов донора или акцептора, введённого в единицу объёма полупроводника, и Wi — энергия ионизации, т.е. энергия отрыва электрона от атома примеси или энергия, необходимая для присоединения электрона к атому акцепторной примеси. Значение энергии ионизации мышьяка, введённого в

кремний, составляет 0,05 эВ, что в 20 раз меньше энергии, необходимой для создания электронно-дырочной пары в чистом кремнии. Тогда при Т = 77 К п ~ 1013 см–3, что в 1030 раз больше, чем в чистом кремнии. При Т = 300 К п ~ 1019 см–3, т.е. 104 раз больше, чем в чистом кремнии. В действительности разница ещё больше. Таким образом, численные оценки показывают, что концентрация носителей тока (электронов, дырок), следовательно, и электропроводность очень сильно зависят от температуры и наличия примесей, вводимых в

полупроводник.

Рассмотрим электрические свойства полупроводников, исходя из зонной теории.

а) Чистые полупроводники. Поскольку ширина запрещённой зоны W в полупроводнике соизмерима с энергией теплового движения электронов, то возможны переходы некоторых электронов из заполненной зоны в свободную зону. Вследствие этого в

109

заполненной зоне появляются вакантные (незанятые) места, которые и являются дырками. Они обозначаются кружочками (рис. 30.4). Если к полупроводнику приложить разность

потенциалов, т.е. соз-

W

Рис. 30.4

дать в нём электрическое поле, то электроны переходят с нижнего энергетического уровня на более высокий уровень. Это означает возникновение электрического тока. Перемещение электронов в заполненной зоне приводит к движению дырок по энергетическим уровням, которое эквивалентно движению положительного заряда +e, равного по абсолютной величине заряду электрона. Таким образом, проводимость чистого полупроводника, называемая собственной проводимостью, обусловлена электронами и дырками. Собственная проводимость полупроводников мала.

Если полупроводник нагреть, то проводимость его возрастает, так как с повышением температуры увеличивается энергия теплового движения электронов, что приводит к увеличению числа электронов, переходящих из заполненной зоны в свободную зону, растёт число носителей тока. Это и влечёт за собой увеличение электропроводности полупроводника.

б) Примесные полупроводники. В легированных полупроводниках примеси создают дополнительные энергетические уровни между свободной и заполненной зонами. Это облегчает электронам преодоление энергетических барьеров. В зависимости от того, как расположены энергетические зоны примеси, полупроводники разделяются на два вида: п-типа и р-типа.

Полупроводники n-типа. В полупроводнике n-типа примесные энергетические уровни лежат чуть ниже свободной зоны (рис. 30.5). Электроны с этих уровней, вследствие теплового движения, могут легко переходить в свободную зону и таким образом создавать условия для появления тока. Так как дополнительные уровни примеси поставляют электроны в свободную зону, то их называют донорными. Проводимость этого полупроводника обусловлена электронами и называется электронной, а сам полупроводник —

полупроводником n-типа

110

Полупроводники p-типа. В полупроводниках этого типа энергетические

уровни примеси расположены чуть выше заполненной зоны (рис. 30.6). Электроны из заполненной зоны переходят на уровни примеси, и в ней появляется дырка. При заполнении дырки другими электронами, под действием электрического поля она перемещается, и поведение дырки, как указывалось, аналогично поведению положительного заряда. Проводимость этого типа называется дырочной (обратим внимание, что она имеет место в заполненной зоне), примесь называют — акцепторной (принимает на себя электроны), а полупроводник — полупроводником p-типа

W

W

 

 

 

Свободная зона

Свободная зона

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Донорный уровень

 

Акцепторный уровень

 

 

 

 

 

 

Заполненная

 

Заполненная

 

-

зона

 

зона

 

 

 

 

 

Рис. 30.5

 

Рис. 30.6

 

 

§31.ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ ЭЛЕМЕНТЫ ЭЛЕКТРОНИКИ

На основе примесных полупроводников созданы устройства, являющиеся важными компонентами современных электронных приборов — диоды, транзисторы и т.д. Их важным преимуществом являются высокая надёжность, большой срок службы и миниатюрность. В настоящее время на 1 см2 удаётся разместить тысячи таких элементов, в связи с чем и появились, например, персональные ЭВМ, размещающиеся на столе и обладающие огромными вычислительными возможностями. Рассмотрим принцип работы двух основных элементов — диодов и транзисторов.

1. Полупроводниковый диод. Рассмотрим контактные явления, происходящие при соединении полупроводника n-типа с полупроводником p-типа, в результате чего получается диод с p-n-переходом. Используем тот же подход, что был применен при рассмотрении контактных явлений в проводниках. На рис. 31.1 приведены диаграммы потенциальной энергии полупроводников p- и n-типов до того, как они были приведены в контакт.

111

Рис. 31.1

Обозначим через e ∆ϕ0 энергетический интервал между уровнями Ферми в р- и n- полупроводниках. Уровень Ферми в n-полупроводнике находится в свободной зоне, куда электроны перешли под действием энергии теплового движения, а р-полупроводнике — в его заполненной зоне.

При соединении таких полупроводников друг с другом электроны будут переходить из образца n-типа в образец р-типа, а дырки в обратном направлении, пока не сравняются уровни Ферми. При этом образец р-типа, получивший дополнительные электроны, зарядится отрицательно, а n-типа — положительно. Возникает контактная разность потенциалов ∆ϕ0, равная разности уровней энергии Ферми, которая препятствует дальнейшей диффузии электронов. На рис. 31.2 а (внизу) приведена зависимость электрического потенциала (не потенциальной энергии) для случая, когда р- и n-полупроводники приведены в контакт. Избыток электронов в р-области и дырок в n-области имеется в очень тонком пограничном слое, называемом двойным электрическим слоем, и условно он изображен на рис. 31.2 а (сверху) Толщина такого слоя равна примерно 10-6— 10-7 м, а контактная разность потенциалов — десятые доли вольт. В двойном электрическом слое имеется электрическое поле, линии напряжённости которого идут от n-области (заряд +) к р-области (заряд –).

Рис. 31.2

112

Соседние файлы в предмете [НЕСОРТИРОВАННОЕ]