Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Микроструктуры интегральной электроники

..pdf
Скачиваний:
2
Добавлен:
12.11.2023
Размер:
20.63 Mб
Скачать

Здесь Ко — амплитуды Vi(z) :

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(5.18)

dn{p>i) — ширина п(р, i) -слоев.

 

 

 

 

Подвижные

носители

заряда

(электроны

n(z), дырки

p(z)

дают хартри-

евский

 

 

 

 

2'

 

 

 

 

 

 

VH (2) =

 

|

dz'

dz" ( - « (2») + P (2“)1

 

(5.19)

 

J

 

 

eO

0

 

0

 

 

 

 

 

 

и обменно-корреляционный VXc(z)

вклад в потенциал CP [11].

 

Для расчета

n(z),

p(z)

используется метод функционала плотности, в ко­

тором самогласованно

рассчитывается

одночастичное уравнение

Шредингера

\ ~ 2 ^

^

+

УсС И

 

 

=

Ф‘' Ь

1 > = '°* 1 -

I5'20)

где

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Vcc (г) =

Vi (z) + VH (г) +

РжС(г).

 

 

 

(5.21)

Индекс i соответствует электронам (t=c), легким дыркам (i—lh) и тяжелым дыркам (i=hh). Если пренебречь перемешиванием различных зон потенциалов Pcc(z), то

Ф{>M(r) = ехР (< ki р) “« W

(5-22)

где щ (г) — блоховская функция t-й зоны; 'Fij, hz (z) — огибающая функция /-й мини-зоны i-й зоны; р = (х, #). Тогда

[ ~

S

'

+

Vcc (2)] * ‘.М ,(г) = * '• /{кг)

(г) ’

(5,23)

 

h5

$

 

 

 

 

*!,/(*) =

 

 

+**./№ )•

 

 

<5-24>

Если

пренебречь

взаимодействием между

соседними

КЯ,

т. е. пренебречь

« 5 0 —80 мэВ

и т * « 0 ,1 т 0 имеем тТ«

(0.5—2) • 10‘ 14 с. Время жиз-

Yf,/.fcz(z) =

 

S

e“ *w'eir ,

 

 

(5.5)

 

 

 

m

*J

 

 

 

где 4ri,j(2) — собственная функция отдельной КЯ

 

 

%i,i(kz)=cS i j .

 

 

 

(5.26)

Здесь SSij — собственное значение энергии в отдельной КЯ.

Для легированной сверхрешетки с dn = d p= d j 2 и однородным распределением примесей пА—пл периодический потенциал прост­ ранственного заряда является параболическим (5.16) с амплиту­ дой (5.18):

У0 = яе*пя й2с/2е0.

(5.27)

Д ля СР на основе GaAs (ео = 12,5) с /гд= п а= 1 0 18 см _3, dn =

—dp= dcl2= 50 нм, а У0 = 905 мэВ

[111]. Эффективная щель леги­

рованной СР (рис. 5.6)

 

о — 2У0 -{- ^ с.о +

(5.28)

Энергии мини-зон практически эквидистантны:

*г./ = Ь ® |[/ + (1/2)1.

(5-29)

где û)i — плазменная частота i-ro сорта частиц:

(ùi --^(4net nA/&0mi)lf2.

(5.30)

Для СР на основе GaAs ho)0 —40,2 мэВ, h com —38,3 мэВ, Ьл>ай— = 17,3 мэВ. Таким образом, эффективная энергетическая щель ле­ гированной СР существенно меньше, чем энергетическая щель

массивного полупроводника

(для GaAs #g,o= l,52

эВ).

Если толщина слоев л-типа

или (и) концентрация

в слоях п-

типа увеличивается, то образуется конечная концентрация двумер­ ных электронов в слоях «-типа /Л2>. Ее величина может быть опре­

делена

из условия электроиейтральности

 

л^2)

= лд dn ла dp.

(5.31)

Пространственное распределение электронов n(z) зависит от волновых функций заполненных мини-зон и числа носителей тока в них л / 2):

л ( 2)=

2 nf)

|4'c,/ (z)|2.

 

 

(5.32)

 

/

 

 

 

 

 

 

Концентрации

л / 2> определяются из

равенства энергий

Ферми

во всех мини-зонах

 

 

 

 

 

у, .+

2яп<2>=

^fc.o -г ~

2 л пу»

(5.33)

с’>

2 т с

1

 

2 т с

*

 

 

и условия

 

 

 

 

 

 

 

2 я<2>= п<2>,

 

 

 

 

 

(5.34)

/

 

 

 

 

 

 

 

если заполнена больше чем одна

мини-зона. Здесь lFc )(2)

— са-

мосогласованное решение

(5.23) и

(5.25)

[111].

 

Для легированной

СР,

состоящей из

слоев GaAs с dn —dp ^ 4

нм, разделенных слоями dj = 36 нм, при лд= л а=5,25-1018 см -3 по­ тенциал Vt (z) является, скорее, треугольным, чем параболическим, и расстояния между мини-зонами при малых / больше, чем при больших j [111].

Важной особенностью легированных СР является то, что экст­ ремумы волновых функций электронов сдвинуты на половину пе­ риода СР относительно экстремумов волновых функций дырок. Поэтому эффективная энергетическая щель является непрямой в пространстве координат аналогично композиционным сверхрешет­ кам II типа. Выбором параметров легированной СР можно сде­ лать рекомбинационные времена жизни носителей заряда боль-

212

шими, так как перекрытие волновых функций можно сделать очень малым. Большие времена жизни позволяют легко изменять кон­ центрацию носителей заряда. Необходимы лишь очень малые ско­ рости генерации или очень малые инжекционные токи, чтобы выз­ вать значительные отклонения от равновесной концентрации во всей легированной СР, в отличие от однородных полупроводников, в которых высокие неравновесные концентрации носителей заряда можно получить только при очень сильных возбуждениях. Урав­ нения (5.32) — (5.34) определяют заполнение мини-зон и прост­ ранственное распределение электронов и для возбужденного со­ стояния легированных СР.

Отрицательный пространственный заряд электронов в я-слоях компенсирует положительный пространственный заряд доноров, а положительный пространственный заряд дырок в р-слоях компен­ сирует отрицательный пространственный заряд акцепторов. Таким образом, при введении дополнительных электронов и дырок само­ согласованный потенциал Vcc(z) в (5.23) сглаживается и эффек­ тивная энергетическая щель легированной СР увеличивается:

(5.35)

(5.36)

Другим важным следствием зависимости самосогласованного потенциала СР VCc{z) от концентрации носителей заряда является уменьшение расстояния между мини-зонами при увеличении засе­ ленности мини-зон, которое также вызвано сглаживанием хода потенциала в СР.

Легированные СР с перестраиваемыми электронными свойст­ вами и с большим увеличением подвижности двумерных электро­ нов и дырок состоят из периодического повторения слоев п- Al*Gai-*As - t- GaAs - п - AlxGai_xAs - р - A l^G a^A s - 1 - GaAs -p- AlxGai-aAs и являются гибридом легированных и композиционных

СР (рис. 5.7). В этих СР

кроме пространственного разделения на

половину периода электронов и дырок имеется

(аналогично

моду­

лировано легированным

композиционным СР

решеткам

I

типа

(см. рис. 5.4,6)) пространственное разделение

свободных

носите­

лей заряда от их примесных центров [111].

 

 

 

Необычные свойства легированных СР (перестраиваемая в ши­

роком интервале энергетическая щель и др.)

сохраняются и в.

аморфных легированных СР.

 

 

 

Рис. 5.7. Энергетическая структура легир< СР Al*Gai_*As с включением полупрово; меньшей энергетической щелью (GaAs)

дый р-, л-слой

5.2. КОЛЛЕКТИВНЫЕ ВОЗБУЖДЕНИЯ ДВУМЕРНОГО ЭЛЕКТРОННОГО (ДЫРОЧНОГО) ГАЗА В СВЕРХРЕШЕТКАХ

Приведем результаты исследования коллективных возбуждений одномерно упорядоченного двумерного газа носителей заряда в СР. В двумерном элек­ тронном газе плазменная частота a)p= (2D) <*>£х (при -*0) [76]* В СР дву­ мерные нлазмоны, связанные с наинизшей мини-зоновой, являются внутриминизонными коллективами возбуждения.

Интересной особенностью плазменных колебаний, распространяющихся вдоль оси СР, является отсутствие у них затухания Ландау — дисперсионное уравнение имеет чисто действительное решение. Это связано с узостью мини-зон СР, благодаря которой спектр плазменных колебаний не сливается с непрерыв­ ным спектром: рассеяние плазмона, распространяющегося вдоль оси СР, на па­ ру одночастичных возбуждений запрещено законом сохранения энергии и им­ пульса. Спектр плазменных колебаний, распространяющихся вдоль оси СР, рассчитан для высоких температур в приближении хаотических фаз [112]. Кол­ лективные плазменные моды при низких температурах рассчитаны в [113]. По­ казано, что при M c=0, kLdc-+0

ъ

4 я а* у

# , _

nc(v),2D

 

'

. (&e “f"a/i) »ae(h) —

mc(v)

(5 37)

 

4 d c

-1-1

(здесь nC{v),2D — двумерная плотность электронов (дырок)), имеется обычный трехмерный плазмой. При kzde= n , k

«(A) “ Me *!*«/««> «.(*),

(5. 38,

имеются две акустические плазменные моды электронного и дырочного типов. При k I dc » 1 (КЯ далеко разнесены)

©2

2 я е2 k .

(5.39)

P.e(h)

 

имеется два двумерных плазмона (электронный и дырочный). Возможно рас­ пространение в СР геликоидальных воли. Для низких частот со<Сюс (сос — циклотронная частота) частота геликоидальных волн

<ùj — (1/2) (сЦa) dc&г ,

/ = 1 ,2 ,3 .......

(5.40)

(a= e2lhc) не зависит от

магнитного поля

[114]. Спектр акустических плаз­

монов в полубесконечных СР получен в [115]. В структуре металл-диэлектрик- полубесконечная СР получен новый тип поверхностных внутри- и межподзонных мод с нулевым критическим волновым вектором (диэлектрическая прони­ цаемость диэлектрика больше диэлектрической проницаемости СР [116]).

Теоретически исследованы электронные коллективные возбуждения в полу­ проводниковых сверхрешетках [117]. Центр масс электрона и дырки, возбуж­ денных в композиционной СР I типа, движется свободно в плоскости слоев. Из-за пространственного ограничения движения носителей заряда размерами КЯ энергия связи экситона в СР больше, чем в массивном полупроводнике. Если высота потенциального барьера бесконечна, то энергия связи экситона в сверхрешетках I типа при уменьшении ширины квантовой ямы d\ монотонно возрастает от энергии связи трехмерного экситона при di-^oo до энергии свя­ зи двумерного экситона (в 4 раза большей) при di-^0. При конечной высоте

потенциального барьера энергия связи экситона уменьшается. При постоянной высоте барьера энергия связи экситона является немонотонной функцией di.

Интересными особенностями характеризуются композиционные CP I типа, у слоев которых сильно отличаются диэлектрические проницаемости. Если па­ раметры таких СР удовлетворяют условиям

dj « a2D , d„ » ria2D , T) « 1. ildj « dn « dj/r),

(5.41),

где 8i(ii) — диэлектрические проницаемости КЯ (барьера);

т] = ejj/gj ; аю =■ г{ h2/2 те2 ;

т — приведенная эффективная масса электрона и дырки, то энергетический спектр экситона имеет следующий вид:

 

 

 

 

 

 

 

(5.42)

где С—0,577... — постоянная Эйлера;

yj

— постоянные, определенные в [118]

(уа— —0,525).

При

т)=0,001,

di=0,la2D, d u ~ a 2D $ х>о=45&>2г>, а

при

ц=

=0,001, Л=0,01а2х>,

dn—a2i>

£?x,q=7Q&2t> (<^2D = 2e‘‘m/&2ih2),

в то

время

как

в пленке (двойном

гетеропереходе)

толщиной di при том

же значении ц

%>х. o=100^2d. Таким образом, энергия

связи экситона в таких СР существен­

но больше, чем у двумерного экситона

(S’zd), но меньше (хотя н одного по­

рядка), чем у

экситона в тонкой пленке f118] при тех же

зна^е-» :эх ц, 'Т,

иприближается к энергии связи экситона в тонкой пленке при увеличении du,

Врезультате расчета энергии связи экситона в композиционных сверхрешет­ ках III типа (с пространственным разделением электронов и дырок) оказалось, что увеличение энергии связи экситона при уменьшении периода СР мало Те­ оретические расчеты энергии связи экситона в легированных СР показали, что при сильном легировании экситоны оказываются квазидвумериьши, а при сла­ бом легировании — почти трехмерными. Особенно интересным является случай,

когда период легированной СР порядка радиуса объемного экситона dc ^ £ asD=2a2D. Тогда при уменьшении легирования энергия связи экситона воз­ растает, а затем убывает до значения &гл—й’гюМ для объемного экситона.

Коллективные возбуждения двумерного газа носителей заряда в слоях СР влияют на оптические свойства СР, например па спектр комбинационного рас­ сеяния света на свободных носителях [119].

5.3. КВАНТОВЫЕ ЯВЛЕНИЯ ПЕРЕНОСА НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В СВЕРХРЕШЕТКАХ

Явления, обусловливающие особенности проводимости СР. В СР с туннельно-непрозрачными потенциальными барьерами, если статическое электрическое поле Ег параллельно оси сверхрешетки, то движение носителей заряда — колебания со штарковской час­ тотой

Q — eEzd/tï,

(5.43)

и ток равен нулю. Ток возникает только благодаря рассеянию носителей заряда, что аналогично явлениям переноса в массивных полупроводниках в сильном магнитном поле или в высокочастот­

ном электрическом поле, когда ток I ^>Егт/(1 + ю 2т2), где

т — ха­

рактерное время релаксации; са — циклотронная частота

магнит­

ного поля или частота электрического поля. Из этого определения 1 следует, что /-й ) при ©т-э-оо. Д ля полупроводниковых СР в ка­ честве © надо взять штарковскую частоту Й (5.71) и /-»-0 при йт-*-оо (для штарковских частот, меньших ширины мини-зоны). Таким образом, при достаточно низкой частоте объемных столкно­ вений носители заряда во внешнем электрическом поле, парал­ лельном оси сверхрешетки, испытывают брегговское отражение от границ разрешенных мини-зон и совершают осцилляторное движе­ ние со штарковской частотой Й. Такое поведение носителей заряда объясняется тем, что в периодическом потенциале СР энергия их движения вдоль оси СР является периодической функцией квазиимпульса с периодом 2яЪ/с1с (5.4). Под воздействием однородного электрического поля Ez квазиимпульс носителей заряда линейно возрастает во времени р .(/) = p z(t0) —еЕгЦ—iо), а энергия S’(р2) и

скорость vz(p-) = d& (pz)\ldp2 осциллируют с

периодом

t-= 2 n b /e E zdc = 2n/Çi.

(5.44)

Поэтому средняя за период скорость равна нулю и движение электронов является чисто колебательным. Точки поворота соот­ ветствуют брэгговским отражениям. В массивных полупроводни­ ках такие колебания не наблюдаются, так как время свободного пробега т< 7 и столкновения заставляют носители заряда нахо­ диться все время в области малых квазиимпульсов вблизи дна мини-зоны. Взаимодействуя с электромагнитным полем, колеблю­ щийся электрон излучает или поглощает на частоте, равной или кратной штарковской частоте й (5.43). Таким образом, в одно­ родном электрическом поле Ех, направленном вдоль оси СР, энер­ гетическая мини-зона разбивается на совокупность эквидистант­ ных уровней с интервалом между ними eEzdc. Эти уровни соответ­ ствуют волновым функциям, сдвинутым на период СР, так как при таком сдвиге потенциал изменяется на eEzdc. Отклик электро­ нов в СР сильно нелинеен, если импульс, полученный от электри­ ческого поля, сравним с ftfdc. Следовательно, критическое значе­ ние поля при котором нелинейная проводимость сравнима с ли­ нейной,

Е*г ?» ft [со +- i т - 11/edc.

(5.45)

Здесь и — частота электрического поля; т — характерное вре­

мя релаксации. Период СР велик, и E*z в СР

существенно меньше,

чем в однородных

полупроводниках. Если

dc= 20 нм, т - |^ © =

= 10-12 с !, то £*г«

3 0 0 В/см.

 

В системах, обладающих блоховскими осцилляциями, имеется ряд аномалий проводимости, в частности высокочастотной: особен­ ности частотной зависимости дифференциальной проводимости, обусловленные штарковским резонансом [120]; просветление СР при воздействии на нее интенсивного монохроматического поля

[121]; осциллирующий характер поглощения интенсивных электро­ магнитных волн [122]; осцилляции статической проводимости в присутствии интенсивного электромагнитного поля и связанный с этим эффект абсолютной отрицательной проводимости [123]; фо­ тоэлектрический эффект — увеличение электронов интенсивной электромагнитной волной [124].

Отрицательная дифференциальная проводимость в направле­ нии оси, сверхрешетки и связанные с ней колебания тока в СР наблюдаются при резонансном туннелировании носителей заряда через систему барьеров без (см. § 4.10) и с участием резонансных

уровней в КЯ

(см. § 4.11). Механизм резонансного туннелирова­

ния обусловлен

интерференцией

электронных волн, отраженных

от барьеров.

 

 

Двумерный

перенос носителей

в СР. Квантование движения

носителей заряда в направлении, перпендикулярном слоям полу­ проводниковой СР, приводит к двумерному движению носителей при низких температурах. Прямым доказательством этого служит

зависимость осцилляций поперечного магнетосопротивления

(эф­

фект Шубникова— де Гааза) от направления магнитного

поля

[70]. В модулированно легированных композиционных СР I типа GaAs/AlæGai_A-As в магнитных полях до 104 Э, когда магнитное поле направлено параллельно оси СР, наблюдались четко выра­ женные осцилляции поперечного магнеюсопротивления, связанные с изменением рассеяния электронов при пересечении уровней Л ан ­ дау и энергии Ферми. Анизотропия эффекта Шубникова --- де Га­ аза (осцилляции отсутствовали, если магнитное поле было на­ правлено перпендикулярно оси сверхрешетки) доказывают двумерность электронного газа в таких сверхрешетках. Период осцилляций и их экстремальные точки для магнитного ноля Н>, параллельного оси СР, определяются из следующего условия:

Ь

сйеО'-Ьу) = ^ р е,

/ = 0, 1, 2,

..., где (i)r= e //z/mcc; & f,c= ( л ^ 2)1т2)|/т с;

0

< у*< 1 . Здесь

(Or, т с —

циклотронная частота и эффективная

масса электронов; fôFc — энергия Ферми двумерного электронного газа плотности п{‘2) (для случая, когда заполнена одна мини-зона). Наличие биений в эффекте Шубникова — де Гааза указывает на заполнение двух мини-зон зоны проводимости в сверхрешетке GaAs/AUGai xÀs с толщиной слоев ~ 2 2 пм.

Переход электронов между разрешенными зонами полупровод­

никовых слоев в СР.

В композиционных

СР

II типа InAs-GaSb

(рис. 5.21 вершина

валентной зоны

одного

полупроводника,

GaSb (£АШ) , лежит

по

энергии выше

(на

A, cæ 0,15 эВ), чем

дно

зоны проводимости

другого, InA s(£,c,1)).

Поэтому электронам

из

валентной зоны GaSb энергетически выгодно переходить в зону проводимости In As. В результате этого сверхрешетки будут об­ ладать пол} металлическими свойствами. Однако если слои СР будут достаточно тонкими, то из-за размерного квантования (5.7) взаимное расположение наинизшей мини-зоны зоны проводимости InAs (é?(IV.o) и наивысшей мини-зоны валентной зоны GaSb (<?(IIVo) может измениться, и СР станет полупроводниковой (см. рис.

5.2,6). При постоянной толщине слоев GaSb концентрация элект­ ронов резко убывала, когда толщина слоя InAs становилась й 10 нм. Резкое изменение проводимости не связано с легированием (концентрация примесей 1016 см-3), так как подвижности элект­ ронов 104 см2/В -с при температуре 2 К существенно выше, чем в массивном InAs при сравнимых концентрациях электронов. После достижения максимума при 10 н м < ^ 1 < 2 0 нм концентрация электронов падала при увеличении di и затем не изменялась. Это связано с тем, что при больших d\ сверхрешетку можно рассмат­ ривать как систему отдельных гетеропереходов. В этом пределе электропроводность будет осуществляться по поверхностям разде­ ла гетеропереходов, где сосредоточены электроны и дырки.

Переход из полуметаллического состояния в полупроводнико­ вое в сверхрешетках InAs/GaSb наблюдался не только при умень­ шении du но и при наложении магнитного поля, параллельного оси СР. Этот переход происходит при возрастании магнитного поля, когда нижний уровень Ландау пересекает уровень Ферми.

Для сверхрешеток InAa/GaSb (di = 12 нм, du = 8 нм

и di = 20 нм,

d n = 1 0 нм), которые без магнитного поля обладали

нолуметалли-

ческими свойствами, переход в полупроводниковое состояние осу­ ществляется в полях 1.8- Ю5 и 3,46-105 Э соответственно. Получе­ но теоретическое обоснование наблюдаемому переходу при ука­ занном изменении толщины слоев [70].

5.4. БИСТАБИЛЬНОСТЬ РЕЗОНАНСНОГО ТУННЕЛЬНОГО ТОКА ЭЛЕКТРОНОВ В СВЕРХРЕШЕТКЕ

Вольт-амнерная характеристика резонансного тока в изобра­ женной на рис. 5.8 СР с учетом рассеяния электронов и влияния пространственного заряда накопленных электронов, не рассмотрен­ ных в § 4.10, 4.11, рассчи1ана в [102]. Коэффициент туннельной прозрачности рассматриваемой сверхрешетки:

Т (к)= 1/4т2т2(Д 2-И /т2)|1 Д х -

- у / д 2+ -L

+

+

1 (1 + л)

(1-J- 4)

(5.46)

 

2т0

2т0

 

Здесь

xo = to/T0', r a=to/2Tc — времена

туннелирования

электронов

через крайние и средний барьеры; 7’0~ е х р ( —2qd2)\ 7V ~exp(—gX Xd*) — их туннельные прозрачности; q= V 2 m * {S '— U)jb.\ U —

период колебания электрона в яме;

A = ( ^ 5—éT3)/ft —

расстрой­

ка резонансных уровней энергии

и éf5 в ямах 3 и 5;

х={<В’—

— | (<83+&‘s)/2]}/b — резонансная расстройка электрона; <8 — по­ перечная энергия туннелирующего электрона; г]=То/тр — фактор рассеяния; тР — время рассеяния.

Когерентный резонансный ток из эмиттера (/) в коллектор

1\У = е$ vlzT (х) Vl (Щ d%,

(5.47)

где

v i(# )

плотность

состоя­

 

 

ний

в эмиттере;

v\z —

скорость

 

 

электрона.

 

 

 

 

 

 

 

В отсутствии рассеяния элек­

 

 

тронов (ц= 0)

ток

по (5.47)

дает

 

d4

полный искомый резонансный ток.

 

Учтем продольное рассеяние элек­

Z 3

5 6

тронов, т. е. считаем, что тунне­

 

 

лирующие

из

эмиттера электро­

Рис. 5.8. Сверхрешетка с тремя барь­

ны,

испытав

рассеяние

в

ямах

ерами

 

3 и 5, остаются там на

прежнем

 

 

поперечном квантовом уровне <§г, <§$ и накапливаются в ямах с плотностями зарядов Q3(p) и Q5(î>). Эти электроны повторно резо­ нансно туннелируют между ямами 3 и 5, а также в эмиттер и кол­ лектор. С учетом рассеяния полный искомый резонансный ток из эмиттера в коллектор l u —IKn + (<35(р)/то), где Qs(p)/to — полный резонансный ток рассеяния, текущий в коллектор из ям 3 и 5. Поставщиками зарядов Q3<»> и Qbip) являются текущие из эмитте­ ра 1 в ямы 3 и 5 резонансные токи рассеяния

 

 

(5.48а)

Ji5) = eJ‘ V-lz К , (х) vx (Щ d ‘S,

(5.486)

где К 3 (я) = 4 г|Тс

Т (к) '

(5.49)

К ъ (у.) = г\Т (я).

 

(5.50)

Закон сохранения заряда дает

 

Q</) + Q<5p) = t o ( /<P3) +

/(1p)),

 

( l -

( Л ? - Л ? ) .

<5 -51>

Это позволяет найти Q3<p> и Q5<D и ток InПолученный результат

выражен

через

полные заряды

(когерентные

плюс

рассеянные)

Q3 и Qs, накопленные в ямах 3 и 5:

 

 

Q6 =

 

 

Д1/2

Об»

(5.52)

 

 

\ (Д3 +

> Q3 -- Qo

 

 

 

Д?/2)

 

 

Л,/г -

( ü ±

| ! i

+ ( l+ tj) \i/a

 

 

(5.53)

 

 

 

/

 

 

 

I — — — I

H/2

_Qo______

(5.54)

117------- —In

 

. v

*5а + ч)

 

 

(Д2+ Д1/2)

 

 

 

 

 

2 т, 1 +

 

 

' • (

Здесь

Qo — заряд

в яме 3 при А -м » . Он определяется интегра­

лами

(5.47), (5.48).

Вычисляя их, получаем Q0 = e2nbüizvl (&>) , ко­

торое определяется только плотностью состояний в эмиттере, т. е.

Qo не зависит от рассеяния.

 

 

ВАХ (5.54) изображена

на рис. 5.9. Как видно из <(5.53), (5.54),

рассеяние уменьшает ток в

максимуме / 0

и увеличивает

полуши­

рину

пика Дj/г* Экстремум

зависимости / 0

от то*. /omax = Qo/2To (2 +

+ 4 )

— реализуется при 'го=тс, т. е. справедливо правило

согласо­

вания d2^=dQ = d^/2 при учете продольного

рассеяния.

 

Обсудим самодействие

тока. Расстройка Д = Д Г/—Aq,

где Au

пропорциональна приложенному внешнему напряжению G, a Aq пропорциональна разности зарядов Q3 и Q5, накопленных в ямах. Последние создают поле, которое сдвигает уровни: h Aq = £ (Q 3—

— Q5)/2peodb где е — диэлектрическая проницаемость слоя 4. Ис­ пользуя (5.86) находим

Aq —Aq0 —AqAî/^o»

(5.55)

где AQ0 = eQod4/2heeo и Aq==Aq0 [ 1 + t 2c( 1 + ti)/]t2o — соответствен­ но постоянная составляющая и величина переменной зарядовой

расстройки. Подставив (5.55) в

(5.54), получим уравнение для

тока:

 

/ i7 / /o ^ [ H - ( 0 r - G / 17//0)2] 1,

(5.56)

где ôï/= (Aq —Ar)/Ai/2 — безразмерная пропорциональная напря­

жению U расстройка; G = Aq/Ai/2 — безразмерный параметр, ха­ рактеризующий самодействие тока. При G £ 1 система существен­

но нелинейна. При G > G 0 = 8 V 3/9 возникает бистабильность, т. е. существуют два устойчивых токовых состояния.

На рис. 5.9 приведены два примера нелинейной ВАХ для G = = 1 < G 0 и G = 3 > G 0. Во втором случае ВАХ имеет вид острого несимметричного пика с гистерезисом, изображенным штриховой линией.

Оценим величины Aq0 и G для структуры AlGaAs/GaAs. Ис­

пользуя для

плотности состояний

приближение вырожденного

ферми-газа с

эффективной массой т

vi(éf) =/n*(<§f-~<SV)/2;rt2X

hihо

 

 

Рис. 5.9 Вольт-ампер- ная характеристика С1\ рассчитанная по (5 51) при TJ — 1, То—тс

Соседние файлы в папке книги