книги / Микроструктуры интегральной электроники
..pdfЗдесь Ко — амплитуды Vi(z) :
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
(5.18) |
dn{p>i) — ширина п(р, i) -слоев. |
|
|
|
|
|||||||
Подвижные |
носители |
заряда |
(электроны |
n(z), дырки |
p(z) |
дают хартри- |
|||||
евский |
|
|
|
|
2' |
|
|
|
|
|
|
VH (2) = |
— |
|
| |
dz' |
dz" ( - « (2») + P (2“)1 |
|
(5.19) |
||||
|
J |
|
|||||||||
|
eO |
0 |
|
0 |
|
|
|
|
|
|
|
и обменно-корреляционный VXc(z) |
вклад в потенциал CP [11]. |
|
|||||||||
Для расчета |
n(z), |
p(z) |
используется метод функционала плотности, в ко |
||||||||
тором самогласованно |
рассчитывается |
одночастичное уравнение |
Шредингера |
||||||||
\ ~ 2 ^ |
^ |
+ |
УсС И |
|
|
= |
Ф‘' Ь |
1 > = '°* 1 - |
’ |
I5'20) |
|
где |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Vcc (г) = |
Vi (z) + VH (г) + |
РжС(г). |
|
|
|
(5.21) |
Индекс i соответствует электронам (t=c), легким дыркам (i—lh) и тяжелым дыркам (i=hh). Если пренебречь перемешиванием различных зон потенциалов Pcc(z), то
Ф{>M(r) = ехР (< ki р) “« W |
’ |
(5-22) |
где щ (г) — блоховская функция t-й зоны; 'Fij, hz (z) — огибающая функция /-й мини-зоны i-й зоны; р = (х, #). Тогда
[ ~ |
S |
' |
+ |
Vcc (2)] * ‘.М ,(г) = * '• /{кг) |
(г) ’ |
(5,23) |
|
|
h5 |
$ |
|
|
|
|
|
*!,/(*) = |
|
|
+**./№ )• |
|
|
<5-24> |
|
Если |
пренебречь |
взаимодействием между |
соседними |
КЯ, |
т. е. пренебречь |
||
« 5 0 —80 мэВ |
и т * « 0 ,1 т 0 имеем тТ« |
(0.5—2) • 10‘ 14 с. Время жиз- |
|||||
Yf,/.fcz(z) = |
|
S |
e“ *w'eir , |
|
|
(5.5) |
|
|
|
|
m |
*J |
|
|
|
где 4ri,j(2) — собственная функция отдельной КЯ |
|
|
|||||
%i,i(kz)=cS i j . |
|
|
|
(5.26) |
Здесь SSij — собственное значение энергии в отдельной КЯ.
Для легированной сверхрешетки с dn = d p= d j 2 и однородным распределением примесей пА—пл периодический потенциал прост ранственного заряда является параболическим (5.16) с амплиту дой (5.18):
У0 = яе*пя й2с/2е0. |
(5.27) |
Д ля СР на основе GaAs (ео = 12,5) с /гд= п а= 1 0 18 см _3, dn =
—dp= dcl2= 50 нм, а У0 = 905 мэВ |
[111]. Эффективная щель леги |
рованной СР (рис. 5.6) |
|
о — 2У0 -{- ^ с.о + |
(5.28) |
Энергии мини-зон практически эквидистантны: |
|
*г./ = Ь ® |[/ + (1/2)1. |
(5-29) |
где û)i — плазменная частота i-ro сорта частиц:
(ùi --^(4net nA/&0mi)lf2. |
(5.30) |
Для СР на основе GaAs ho)0 —40,2 мэВ, h com —38,3 мэВ, Ьл>ай— = 17,3 мэВ. Таким образом, эффективная энергетическая щель ле гированной СР существенно меньше, чем энергетическая щель
массивного полупроводника |
(для GaAs #g,o= l,52 |
эВ). |
Если толщина слоев л-типа |
или (и) концентрация |
в слоях п- |
типа увеличивается, то образуется конечная концентрация двумер ных электронов в слоях «-типа /Л2>. Ее величина может быть опре
делена |
из условия электроиейтральности |
|
л^2) |
= лд dn ла dp. |
(5.31) |
Пространственное распределение электронов n(z) зависит от волновых функций заполненных мини-зон и числа носителей тока в них л / 2):
л ( 2)= |
2 nf) |
|4'c,/ (z)|2. |
|
|
(5.32) |
||
|
/ |
|
|
|
|
|
|
Концентрации |
л / 2> определяются из |
равенства энергий |
Ферми |
||||
во всех мини-зонах |
|
|
|
|
|
||
у, .+ |
2яп<2>= |
^fc.o -г ~ |
2 л пу» |
(5.33) |
|||
с’> |
2 т с |
1 |
|
2 т с |
* |
|
|
и условия |
|
|
|
|
|
|
|
2 я<2>= п<2>, |
|
|
|
|
|
(5.34) |
|
/ |
|
|
|
|
|
|
|
если заполнена больше чем одна |
мини-зона. Здесь lFc )(2) |
— са- |
|||||
мосогласованное решение |
(5.23) и |
(5.25) |
[111]. |
|
|||
Для легированной |
СР, |
состоящей из |
слоев GaAs с dn —dp ^ 4 |
нм, разделенных слоями dj = 36 нм, при лд= л а=5,25-1018 см -3 по тенциал Vt (z) является, скорее, треугольным, чем параболическим, и расстояния между мини-зонами при малых / больше, чем при больших j [111].
Важной особенностью легированных СР является то, что экст ремумы волновых функций электронов сдвинуты на половину пе риода СР относительно экстремумов волновых функций дырок. Поэтому эффективная энергетическая щель является непрямой в пространстве координат аналогично композиционным сверхрешет кам II типа. Выбором параметров легированной СР можно сде лать рекомбинационные времена жизни носителей заряда боль-
212
шими, так как перекрытие волновых функций можно сделать очень малым. Большие времена жизни позволяют легко изменять кон центрацию носителей заряда. Необходимы лишь очень малые ско рости генерации или очень малые инжекционные токи, чтобы выз вать значительные отклонения от равновесной концентрации во всей легированной СР, в отличие от однородных полупроводников, в которых высокие неравновесные концентрации носителей заряда можно получить только при очень сильных возбуждениях. Урав нения (5.32) — (5.34) определяют заполнение мини-зон и прост ранственное распределение электронов и для возбужденного со стояния легированных СР.
Отрицательный пространственный заряд электронов в я-слоях компенсирует положительный пространственный заряд доноров, а положительный пространственный заряд дырок в р-слоях компен сирует отрицательный пространственный заряд акцепторов. Таким образом, при введении дополнительных электронов и дырок само согласованный потенциал Vcc(z) в (5.23) сглаживается и эффек тивная энергетическая щель легированной СР увеличивается:
(5.35)
(5.36)
Другим важным следствием зависимости самосогласованного потенциала СР VCc{z) от концентрации носителей заряда является уменьшение расстояния между мини-зонами при увеличении засе ленности мини-зон, которое также вызвано сглаживанием хода потенциала в СР.
Легированные СР с перестраиваемыми электронными свойст вами и с большим увеличением подвижности двумерных электро нов и дырок состоят из периодического повторения слоев п- Al*Gai-*As - t- GaAs - п - AlxGai_xAs - р - A l^G a^A s - 1 - GaAs -p- AlxGai-aAs и являются гибридом легированных и композиционных
СР (рис. 5.7). В этих СР |
кроме пространственного разделения на |
|||
половину периода электронов и дырок имеется |
(аналогично |
моду |
||
лировано легированным |
композиционным СР |
решеткам |
I |
типа |
(см. рис. 5.4,6)) пространственное разделение |
свободных |
носите |
||
лей заряда от их примесных центров [111]. |
|
|
|
|
Необычные свойства легированных СР (перестраиваемая в ши |
||||
роком интервале энергетическая щель и др.) |
сохраняются и в. |
|||
аморфных легированных СР. |
|
|
|
Рис. 5.7. Энергетическая структура легир< СР Al*Gai_*As с включением полупрово; меньшей энергетической щелью (GaAs)
дый р-, л-слой
5.2. КОЛЛЕКТИВНЫЕ ВОЗБУЖДЕНИЯ ДВУМЕРНОГО ЭЛЕКТРОННОГО (ДЫРОЧНОГО) ГАЗА В СВЕРХРЕШЕТКАХ
Приведем результаты исследования коллективных возбуждений одномерно упорядоченного двумерного газа носителей заряда в СР. В двумерном элек тронном газе плазменная частота a)p= (2D) <*>£х (при -*0) [76]* В СР дву мерные нлазмоны, связанные с наинизшей мини-зоновой, являются внутриминизонными коллективами возбуждения.
Интересной особенностью плазменных колебаний, распространяющихся вдоль оси СР, является отсутствие у них затухания Ландау — дисперсионное уравнение имеет чисто действительное решение. Это связано с узостью мини-зон СР, благодаря которой спектр плазменных колебаний не сливается с непрерыв ным спектром: рассеяние плазмона, распространяющегося вдоль оси СР, на па ру одночастичных возбуждений запрещено законом сохранения энергии и им пульса. Спектр плазменных колебаний, распространяющихся вдоль оси СР, рассчитан для высоких температур в приближении хаотических фаз [112]. Кол лективные плазменные моды при низких температурах рассчитаны в [113]. По казано, что при M c=0, kLdc-+0
ъ |
— |
4 я а* у |
# , _ |
nc(v),2D |
|
' |
. (&e “f"a/i) »ae(h) — |
mc(v) |
(5 37) |
||
|
4 d c |
-1-1 |
(здесь nC{v),2D — двумерная плотность электронов (дырок)), имеется обычный трехмерный плазмой. При kzde= n , k
«(A) “ Me *!*«/««> «.(*), |
(5. 38, |
имеются две акустические плазменные моды электронного и дырочного типов. При k I dc » 1 (КЯ далеко разнесены)
©2 |
2 я е2 k . |
(5.39) |
|
P.e(h) |
|
имеется два двумерных плазмона (электронный и дырочный). Возможно рас пространение в СР геликоидальных воли. Для низких частот со<Сюс (сос — циклотронная частота) частота геликоидальных волн
<ùj — (1/2) (сЦa) dc&г , |
/ = 1 ,2 ,3 ....... |
(5.40) |
(a= e2lhc) не зависит от |
магнитного поля |
[114]. Спектр акустических плаз |
монов в полубесконечных СР получен в [115]. В структуре металл-диэлектрик- полубесконечная СР получен новый тип поверхностных внутри- и межподзонных мод с нулевым критическим волновым вектором (диэлектрическая прони цаемость диэлектрика больше диэлектрической проницаемости СР [116]).
Теоретически исследованы электронные коллективные возбуждения в полу проводниковых сверхрешетках [117]. Центр масс электрона и дырки, возбуж денных в композиционной СР I типа, движется свободно в плоскости слоев. Из-за пространственного ограничения движения носителей заряда размерами КЯ энергия связи экситона в СР больше, чем в массивном полупроводнике. Если высота потенциального барьера бесконечна, то энергия связи экситона в сверхрешетках I типа при уменьшении ширины квантовой ямы d\ монотонно возрастает от энергии связи трехмерного экситона при di-^oo до энергии свя зи двумерного экситона (в 4 раза большей) при di-^0. При конечной высоте
потенциального барьера энергия связи экситона уменьшается. При постоянной высоте барьера энергия связи экситона является немонотонной функцией di.
Интересными особенностями характеризуются композиционные CP I типа, у слоев которых сильно отличаются диэлектрические проницаемости. Если па раметры таких СР удовлетворяют условиям
dj « a2D , d„ » ria2D , T) « 1. ildj « dn « dj/r), |
(5.41), |
где 8i(ii) — диэлектрические проницаемости КЯ (барьера);
т] = ejj/gj ; аю =■ г{ h2/2 те2 ;
т — приведенная эффективная масса электрона и дырки, то энергетический спектр экситона имеет следующий вид:
|
|
|
|
|
|
|
(5.42) |
|
где С—0,577... — постоянная Эйлера; |
yj |
— постоянные, определенные в [118] |
||||||
(уа— —0,525). |
При |
т)=0,001, |
di=0,la2D, d u ~ a 2D $ х>о=45&>2г>, а |
при |
ц= |
|||
=0,001, Л=0,01а2х>, |
dn—a2i> |
£?x,q=7Q&2t> (<^2D = 2e‘‘m/&2ih2), |
в то |
время |
как |
|||
в пленке (двойном |
гетеропереходе) |
толщиной di при том |
же значении ц |
|||||
%>х. o=100^2d. Таким образом, энергия |
связи экситона в таких СР существен |
|||||||
но больше, чем у двумерного экситона |
(S’zd), но меньше (хотя н одного по |
|||||||
рядка), чем у |
экситона в тонкой пленке f118] при тех же |
зна^е-» :эх ц, 'Т, |
иприближается к энергии связи экситона в тонкой пленке при увеличении du,
Врезультате расчета энергии связи экситона в композиционных сверхрешет ках III типа (с пространственным разделением электронов и дырок) оказалось, что увеличение энергии связи экситона при уменьшении периода СР мало Те оретические расчеты энергии связи экситона в легированных СР показали, что при сильном легировании экситоны оказываются квазидвумериьши, а при сла бом легировании — почти трехмерными. Особенно интересным является случай,
когда период легированной СР порядка радиуса объемного экситона dc ^ £ asD=2a2D. Тогда при уменьшении легирования энергия связи экситона воз растает, а затем убывает до значения &гл—й’гюМ для объемного экситона.
Коллективные возбуждения двумерного газа носителей заряда в слоях СР влияют на оптические свойства СР, например па спектр комбинационного рас сеяния света на свободных носителях [119].
5.3. КВАНТОВЫЕ ЯВЛЕНИЯ ПЕРЕНОСА НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В СВЕРХРЕШЕТКАХ
Явления, обусловливающие особенности проводимости СР. В СР с туннельно-непрозрачными потенциальными барьерами, если статическое электрическое поле Ег параллельно оси сверхрешетки, то движение носителей заряда — колебания со штарковской час тотой
Q — eEzd/tï, |
(5.43) |
и ток равен нулю. Ток возникает только благодаря рассеянию носителей заряда, что аналогично явлениям переноса в массивных полупроводниках в сильном магнитном поле или в высокочастот
ном электрическом поле, когда ток I ^>Егт/(1 + ю 2т2), где |
т — ха |
рактерное время релаксации; са — циклотронная частота |
магнит |
ного поля или частота электрического поля. Из этого определения 1 следует, что /-й ) при ©т-э-оо. Д ля полупроводниковых СР в ка честве © надо взять штарковскую частоту Й (5.71) и /-»-0 при йт-*-оо (для штарковских частот, меньших ширины мини-зоны). Таким образом, при достаточно низкой частоте объемных столкно вений носители заряда во внешнем электрическом поле, парал лельном оси сверхрешетки, испытывают брегговское отражение от границ разрешенных мини-зон и совершают осцилляторное движе ние со штарковской частотой Й. Такое поведение носителей заряда объясняется тем, что в периодическом потенциале СР энергия их движения вдоль оси СР является периодической функцией квазиимпульса с периодом 2яЪ/с1с (5.4). Под воздействием однородного электрического поля Ez квазиимпульс носителей заряда линейно возрастает во времени р .(/) = p z(t0) —еЕгЦ—iо), а энергия S’(р2) и
скорость vz(p-) = d& (pz)\ldp2 осциллируют с |
периодом |
t-= 2 n b /e E zdc = 2n/Çi. |
(5.44) |
Поэтому средняя за период скорость равна нулю и движение электронов является чисто колебательным. Точки поворота соот ветствуют брэгговским отражениям. В массивных полупроводни ках такие колебания не наблюдаются, так как время свободного пробега т< 7 и столкновения заставляют носители заряда нахо диться все время в области малых квазиимпульсов вблизи дна мини-зоны. Взаимодействуя с электромагнитным полем, колеблю щийся электрон излучает или поглощает на частоте, равной или кратной штарковской частоте й (5.43). Таким образом, в одно родном электрическом поле Ех, направленном вдоль оси СР, энер гетическая мини-зона разбивается на совокупность эквидистант ных уровней с интервалом между ними eEzdc. Эти уровни соответ ствуют волновым функциям, сдвинутым на период СР, так как при таком сдвиге потенциал изменяется на eEzdc. Отклик электро нов в СР сильно нелинеен, если импульс, полученный от электри ческого поля, сравним с ftfdc. Следовательно, критическое значе ние поля при котором нелинейная проводимость сравнима с ли нейной,
Е*г ?» ft [со +- i т - 11/edc. |
(5.45) |
Здесь и — частота электрического поля; т — характерное вре
мя релаксации. Период СР велик, и E*z в СР |
существенно меньше, |
|
чем в однородных |
полупроводниках. Если |
dc= 20 нм, т - |^ © = |
= 10-12 с !, то £*г« |
3 0 0 В/см. |
|
В системах, обладающих блоховскими осцилляциями, имеется ряд аномалий проводимости, в частности высокочастотной: особен ности частотной зависимости дифференциальной проводимости, обусловленные штарковским резонансом [120]; просветление СР при воздействии на нее интенсивного монохроматического поля
[121]; осциллирующий характер поглощения интенсивных электро магнитных волн [122]; осцилляции статической проводимости в присутствии интенсивного электромагнитного поля и связанный с этим эффект абсолютной отрицательной проводимости [123]; фо тоэлектрический эффект — увеличение электронов интенсивной электромагнитной волной [124].
Отрицательная дифференциальная проводимость в направле нии оси, сверхрешетки и связанные с ней колебания тока в СР наблюдаются при резонансном туннелировании носителей заряда через систему барьеров без (см. § 4.10) и с участием резонансных
уровней в КЯ |
(см. § 4.11). Механизм резонансного туннелирова |
|
ния обусловлен |
интерференцией |
электронных волн, отраженных |
от барьеров. |
|
|
Двумерный |
перенос носителей |
в СР. Квантование движения |
носителей заряда в направлении, перпендикулярном слоям полу проводниковой СР, приводит к двумерному движению носителей при низких температурах. Прямым доказательством этого служит
зависимость осцилляций поперечного магнетосопротивления |
(эф |
фект Шубникова— де Гааза) от направления магнитного |
поля |
[70]. В модулированно легированных композиционных СР I типа GaAs/AlæGai_A-As в магнитных полях до 104 Э, когда магнитное поле направлено параллельно оси СР, наблюдались четко выра женные осцилляции поперечного магнеюсопротивления, связанные с изменением рассеяния электронов при пересечении уровней Л ан дау и энергии Ферми. Анизотропия эффекта Шубникова --- де Га аза (осцилляции отсутствовали, если магнитное поле было на правлено перпендикулярно оси сверхрешетки) доказывают двумерность электронного газа в таких сверхрешетках. Период осцилляций и их экстремальные точки для магнитного ноля Н>, параллельного оси СР, определяются из следующего условия:
Ь |
сйеО'-Ьу) = ^ р е, |
/ = 0, 1, 2, |
..., где (i)r= e //z/mcc; & f,c= ( л ^ 2)1т2)|/т с; |
0 |
< у*< 1 . Здесь |
(Or, т с — |
циклотронная частота и эффективная |
масса электронов; fôFc — энергия Ферми двумерного электронного газа плотности п{‘2) (для случая, когда заполнена одна мини-зона). Наличие биений в эффекте Шубникова — де Гааза указывает на заполнение двух мини-зон зоны проводимости в сверхрешетке GaAs/AUGai xÀs с толщиной слоев ~ 2 2 пм.
Переход электронов между разрешенными зонами полупровод
никовых слоев в СР. |
В композиционных |
СР |
II типа InAs-GaSb |
|||
(рис. 5.21 вершина |
валентной зоны |
одного |
полупроводника, |
|||
GaSb (£АШ) , лежит |
по |
энергии выше |
(на |
A, cæ 0,15 эВ), чем |
дно |
|
зоны проводимости |
другого, InA s(£,c,1)). |
Поэтому электронам |
из |
валентной зоны GaSb энергетически выгодно переходить в зону проводимости In As. В результате этого сверхрешетки будут об ладать пол} металлическими свойствами. Однако если слои СР будут достаточно тонкими, то из-за размерного квантования (5.7) взаимное расположение наинизшей мини-зоны зоны проводимости InAs (é?(IV.o) и наивысшей мини-зоны валентной зоны GaSb (<?(IIVo) может измениться, и СР станет полупроводниковой (см. рис.
5.2,6). При постоянной толщине слоев GaSb концентрация элект ронов резко убывала, когда толщина слоя InAs становилась й 10 нм. Резкое изменение проводимости не связано с легированием (концентрация примесей 1016 см-3), так как подвижности элект ронов 104 см2/В -с при температуре 2 К существенно выше, чем в массивном InAs при сравнимых концентрациях электронов. После достижения максимума при 10 н м < ^ 1 < 2 0 нм концентрация электронов падала при увеличении di и затем не изменялась. Это связано с тем, что при больших d\ сверхрешетку можно рассмат ривать как систему отдельных гетеропереходов. В этом пределе электропроводность будет осуществляться по поверхностям разде ла гетеропереходов, где сосредоточены электроны и дырки.
Переход из полуметаллического состояния в полупроводнико вое в сверхрешетках InAs/GaSb наблюдался не только при умень шении du но и при наложении магнитного поля, параллельного оси СР. Этот переход происходит при возрастании магнитного поля, когда нижний уровень Ландау пересекает уровень Ферми.
Для сверхрешеток InAa/GaSb (di = 12 нм, du = 8 нм |
и di = 20 нм, |
d n = 1 0 нм), которые без магнитного поля обладали |
нолуметалли- |
ческими свойствами, переход в полупроводниковое состояние осу ществляется в полях 1.8- Ю5 и 3,46-105 Э соответственно. Получе но теоретическое обоснование наблюдаемому переходу при ука занном изменении толщины слоев [70].
5.4. БИСТАБИЛЬНОСТЬ РЕЗОНАНСНОГО ТУННЕЛЬНОГО ТОКА ЭЛЕКТРОНОВ В СВЕРХРЕШЕТКЕ
Вольт-амнерная характеристика резонансного тока в изобра женной на рис. 5.8 СР с учетом рассеяния электронов и влияния пространственного заряда накопленных электронов, не рассмотрен ных в § 4.10, 4.11, рассчи1ана в [102]. Коэффициент туннельной прозрачности рассматриваемой сверхрешетки:
Т (к)= 1/4т2т2(Д 2-И /т2)|1 Д х - |
- у / д 2+ -L |
+ |
|
+ |
1 (1 + л) |
(1-J- 4) |
(5.46) |
|
2т0 |
2т0 |
|
Здесь |
xo = to/T0', r a=to/2Tc — времена |
туннелирования |
электронов |
через крайние и средний барьеры; 7’0~ е х р ( —2qd2)\ 7V ~exp(—gX Xd*) — их туннельные прозрачности; q= V 2 m * {S '— U)jb.\ U —
период колебания электрона в яме; |
A = ( ^ 5—éT3)/ft — |
расстрой |
ка резонансных уровней энергии |
и éf5 в ямах 3 и 5; |
х={<В’— |
— | (<83+&‘s)/2]}/b — резонансная расстройка электрона; <8 — по перечная энергия туннелирующего электрона; г]=То/тр — фактор рассеяния; тР — время рассеяния.
Когерентный резонансный ток из эмиттера (/) в коллектор
1\У = е$ vlzT (х) Vl (Щ d%, |
(5.47) |
где |
v i(# ) |
— |
плотность |
состоя |
|
|
|||
ний |
в эмиттере; |
v\z — |
скорость |
|
|
||||
электрона. |
|
|
|
|
|
|
|
||
В отсутствии рассеяния элек |
|
|
|||||||
тронов (ц= 0) |
ток |
по (5.47) |
дает |
|
d4 |
||||
полный искомый резонансный ток. |
|
||||||||
Учтем продольное рассеяние элек |
Z 3 |
5 6 |
|||||||
тронов, т. е. считаем, что тунне |
|
|
|||||||
лирующие |
из |
эмиттера электро |
Рис. 5.8. Сверхрешетка с тремя барь |
||||||
ны, |
испытав |
рассеяние |
в |
ямах |
|||||
ерами |
|
||||||||
3 и 5, остаются там на |
прежнем |
|
|
поперечном квантовом уровне <§г, <§$ и накапливаются в ямах с плотностями зарядов Q3(p) и Q5(î>). Эти электроны повторно резо нансно туннелируют между ямами 3 и 5, а также в эмиттер и кол лектор. С учетом рассеяния полный искомый резонансный ток из эмиттера в коллектор l u —IKn + (<35(р)/то), где Qs(p)/to — полный резонансный ток рассеяния, текущий в коллектор из ям 3 и 5. Поставщиками зарядов Q3<»> и Qbip) являются текущие из эмитте ра 1 в ямы 3 и 5 резонансные токи рассеяния
|
|
(5.48а) |
Ji5) = eJ‘ V-lz К , (х) vx (Щ d ‘S, |
(5.486) |
|
где К 3 (я) = 4 г|Тс |
Т (к) ' |
(5.49) |
К ъ (у.) = г\Т (я). |
|
(5.50) |
Закон сохранения заряда дает |
|
|
Q</) + Q<5p) = t o ( /<P3) + |
/(1p)), |
|
( l - |
( Л ? - Л ? ) . |
<5 -51> |
Это позволяет найти Q3<p> и Q5<D и ток InПолученный результат
выражен |
через |
полные заряды |
(когерентные |
плюс |
рассеянные) |
|
Q3 и Qs, накопленные в ямах 3 и 5: |
|
|
||||
Q6 = |
|
|
Д1/2 |
Об» |
(5.52) |
|
|
|
\ (Д3 + |
> Q3 -- Qo |
|||
|
|
|
Д?/2) |
|
|
|
Л,/г - |
( ü ± |
| ! i |
+ ( l+ tj) \i/a |
|
|
(5.53) |
|
|
|
/ |
|
|
|
I — — — I |
H/2 |
_Qo______ |
(5.54) |
|||
117------- —In |
|
. v |
*5а + ч) |
|||
|
T° |
|
(Д2+ Д1/2) |
|
||
|
|
|
|
2 т, 1 + |
|
|
' • (
Здесь |
Qo — заряд |
в яме 3 при А -м » . Он определяется интегра |
лами |
(5.47), (5.48). |
Вычисляя их, получаем Q0 = e2nbüizvl (&>) , ко |
торое определяется только плотностью состояний в эмиттере, т. е.
Qo не зависит от рассеяния. |
|
|
||
ВАХ (5.54) изображена |
на рис. 5.9. Как видно из <(5.53), (5.54), |
|||
рассеяние уменьшает ток в |
максимуме / 0 |
и увеличивает |
полуши |
|
рину |
пика Дj/г* Экстремум |
зависимости / 0 |
от то*. /omax = Qo/2To (2 + |
|
+ 4 ) |
— реализуется при 'го=тс, т. е. справедливо правило |
согласо |
||
вания d2^=dQ = d^/2 при учете продольного |
рассеяния. |
|
||
Обсудим самодействие |
тока. Расстройка Д = Д Г/—Aq, |
где Au |
пропорциональна приложенному внешнему напряжению G, a Aq пропорциональна разности зарядов Q3 и Q5, накопленных в ямах. Последние создают поле, которое сдвигает уровни: h Aq = £ (Q 3—
— Q5)/2peodb где е — диэлектрическая проницаемость слоя 4. Ис пользуя (5.86) находим
Aq —Aq0 —AqAî/^o» |
(5.55) |
где AQ0 = eQod4/2heeo и Aq==Aq0 [ 1 + t 2c( 1 + ti)/]t2o — соответствен но постоянная составляющая и величина переменной зарядовой
расстройки. Подставив (5.55) в |
(5.54), получим уравнение для |
тока: |
|
/ i7 / /o ^ [ H - ( 0 r - G / 17//0)2] 1, |
(5.56) |
где ôï/= (Aq —Ar)/Ai/2 — безразмерная пропорциональная напря
жению U расстройка; G = Aq/Ai/2 — безразмерный параметр, ха рактеризующий самодействие тока. При G £ 1 система существен
но нелинейна. При G > G 0 = 8 V 3/9 возникает бистабильность, т. е. существуют два устойчивых токовых состояния.
На рис. 5.9 приведены два примера нелинейной ВАХ для G = = 1 < G 0 и G = 3 > G 0. Во втором случае ВАХ имеет вид острого несимметричного пика с гистерезисом, изображенным штриховой линией.
Оценим величины Aq0 и G для структуры AlGaAs/GaAs. Ис
пользуя для |
плотности состояний |
приближение вырожденного |
ферми-газа с |
эффективной массой т |
vi(éf) =/n*(<§f-~<SV)/2;rt2X |
hihо |
|
|
Рис. 5.9 Вольт-ампер- ная характеристика С1\ рассчитанная по (5 51) при TJ — 1, То—тс