Приложения Некоторые свойства металлов (таблица 1)
№ ВАР. |
Элемент |
Структура |
Атомная масса |
Параметр решетки, Å |
Плотность, г/см3 |
Удельное сопротивление, мкОм·см |
Температура, К |
Работа выхода , эВ | ||
Дебая (TD) |
Ферми (TF·10-4) |
плавления (Tпл) | ||||||||
1 |
Na |
ОЦК |
22.9 |
4.23 |
1.013 |
4.75 |
158 |
3.75 |
371 |
2,35 |
2 |
Mg |
ГПУ |
24.30 |
3.2 |
1.74 |
4.30 |
400 |
8.27 |
922 |
3,64 |
3 |
Al |
ГЦК |
26.98 |
4.05 |
2.7 |
2.74 |
428 |
13.49 |
933 |
3.74 |
4 |
Ti |
ГПУ |
47.9 |
2.95 |
4.51 |
43.1 |
420 |
|
1933 |
|
5 |
Cr |
ОЦК |
51.96 |
2.88 |
7.19 |
12.9 |
360 |
|
2130 |
|
6 |
Fe |
ОЦК |
55.84 |
2.87 |
7.87 |
9.8 |
470 |
13.0 |
1808 |
4.31 |
7 |
Cu |
ГЦК |
63.54 |
3.61 |
8.93 |
1.7 |
343 |
8.12 |
1356 |
4.47 |
8 |
Nb |
ОЦК |
92.91 |
3.3 |
8.58 |
14.5 |
275 |
6.18 |
2741 |
4.01 |
9 |
Ag |
ГЦК |
107.87 |
4.09 |
10.50 |
1.61 |
225 |
6.36 |
1234 |
4.28 |
10 |
In |
тетра |
114.82 |
4.59 |
7.29 |
8.75 |
108 |
9.98 |
429.8 |
|
11 |
Sb |
ромб |
121.7 |
4.51 |
6.69 |
41.3 |
211 |
12.7 |
900.4 |
4,08 |
12 |
Cs |
ОЦК |
132.9 |
6.05 |
1.999 |
20 |
38 |
1.83 |
302 |
1,81 |
13 |
W |
ОЦК |
183.8 |
3.16 |
19.25 |
53 |
400 |
|
3683 |
4.63 |
14 |
Au |
ГЦК |
196.9 |
4.08 |
19.28 |
2.2 |
165 |
6.39 |
1337 |
4.58 |
15 |
Pb |
ГЦК |
207.2 |
4.95 |
11.31 |
21 |
105 |
10.87 |
601 |
4.52 |
16 |
Bi |
ромб |
208.9 |
4.75 |
9.8 |
11.6 |
119 |
54 |
544.5 |
4,4 |
17 |
Zn |
ГЕК |
65.38 |
2.66 |
7.14 |
5.96 |
234 |
10.9 |
693 |
3.86 |
18 |
Ni |
ГЦК |
58.71 |
3.52 |
8.9 |
6.9 |
375 |
|
1726 |
4.84 |
19 |
Pt |
ГЦК |
195.09 |
3.92 |
21.45 |
10.58 |
230 |
|
2045 |
5.29 |
20 |
Ta |
ОЦК |
180.95 |
3.31 |
16.6 |
13.2 |
225 |
|
|
|
21 |
Mo |
ОЦК |
95.94 |
3.15 |
10.2 |
5.2 |
380 |
|
2890 |
4.37 |
22 |
V |
ОЦК |
50.942 |
3.02 |
6.1 |
24.8 |
390 |
|
2163 |
|
23 |
Rb |
ОЦК |
85.47 |
5.59 |
1.53 |
11.29 |
56 |
2.15 |
312 |
2,16 |
Свойства cобственныхполупроводников (таблица 2)
№ ВАР. |
Тип примеси |
Полупроводник |
Ширина запрещенной зоны |
Эффективная масса |
Подвижность |
Работа выхода, эВ | |||
EG (0 К), эВ |
EG (300 К), эВ |
m"n / me |
m"p / me |
μn, см2·В‑1·с‑1 |
μp, см2·В‑1·с‑1 | ||||
1 9 |
n p |
Si |
1.166 |
1.11 |
0.98 0.19 |
0.5 0.16 |
1350 |
480 |
4.83 |
2 10 |
n p |
Ge |
0.74 |
0.67 |
1.58 0.082 |
0.3 0.04 |
3900 |
1900 |
4.80 |
3 11 |
n p |
GaAs |
1.52 |
1.43 |
0.07 |
0.5 0.12 |
8600 |
400 |
4.71 |
4 12 |
n p |
GaSb |
0.81 |
0.69 |
0.045 |
0.39 |
4000 |
650 |
4.76 |
5 13 |
n p |
InAs |
0.43 |
0.36 |
0.028 |
0.33 |
30000 |
240 |
4.90 |
6 14 |
n p |
InSb |
0.235 |
0.17 |
0.0133 |
0.6 0.012 |
76000 |
5000 (78 К) |
4.75 |
7 15 |
n p |
InP |
1.42 |
1.28 |
0.07 |
0.4 |
4000 |
650 |
4.45 |
8 16 |
n p |
AlSb |
1.6 |
1.6 |
0.11 |
0.39 |
50 |
400 |
4.86 |
Концентрация n- и p- примесей в полупроводниках (таблица 3)
№ вар. |
1 |
2 |
3 |
4 |
5 |
6 |
концентрация примесей, см-3 |
1013 |
1014 |
1015 |
1016 |
1017 |
1018 |