Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Индивидуальное задание 2013 по ОЭиРМ.doc
Скачиваний:
34
Добавлен:
09.02.2015
Размер:
192 Кб
Скачать

Индивидуальное задание 2013

Исследование контактных явлений в структуре металл-полупроводник

Для заданной пары металл-полупроводник рассчитать и построить энергетическую диаграмму и вольтамперную характеристику контакта в данном диапазоне температур, дать рекомендации по применению исследуемого контакта. Все расчеты провести в системе СИ.

Все графики представить на "мм" бумаге или построенные на ПК.

Индивидуальная работа оформляется на писчей бумаге в формате А4.

Рекомендуемый порядок выполнения:

1) Определить класс симметрии заданных материалов, построить прямую и обратную элементарные ячейки заданных материалов. Определить размеры Зоны Бриллюэна в направлениях X, L, К.

2) Определить эффективную массу и концентрацию электронов для заданного металла из условия касания Зоны Бриллюэна и сферы Ферми.

Определить степень вырождения электронного газа в металле в данном диапазоне температур. (Приложение MCAD №2)

3) Определить эффективную массу носителей заряда, их концентрацию и степень вырождения электронно-дырочного газа в полупроводнике в данном диапазоне температур. (Приложение MCAD №2)

4) Рассчитать и построить зависимости времени релаксации, средней длины свободного пробега и электропроводности от температуры для заданных материалов. (Приложение MCAD №3, № 5)

5) Рассчитать и построить зависимость электропроводности от толщины металлической пленки при заданной температуре. (Приложение MCAD №4)

6) Рассчитать зависимости энергии Ферми и термодинамической работы выхода для собственного и примесного полупроводников от температуры.

7) Построить энергетическую диаграмму заданной пары металл-полупроводник в выбранном масштабе для случаев: без смещения, при прямом и обратном смещениях.

Рассчитать вольтамперную характеристику контакта в данном диапазоне температур. (Приложение MCAD №6)

8) Рассчитать концентрацию носителей заряда в заданном полупроводнике для создания омического контакта к металлу.

9) Сделать выводы и дать рекомендации по применению исследуемого контакта металл-полупроводник.

Шифр варианта xyz

X

Y

Z

таблица 1

таблица 2

таблица 3

Например: для варианта (5 6 4) исходные данные берутся - вариант 5 из таблицы 1, вариант 6 из таблицы 2, вариант 4 из таблицы 3, таким образом для данного варианта (564) заданной парой металл-полупроводник является металл Cr и плупроводник n-InSb c концентрацией примесей 1016 см3

Список рекомендуемой литературы

1. Ашкрофт Н., Мермин Н. Физика твердого тела. ‑ М.: Мир, 1979.

2. Блатт Ф. Физика электронной проводимости в твердых телах. ‑ М.: Мир, 1971.

3. Вендик О. Г., Вендик И. Б. Электроника твердого тела / ЛЭТИ. Л., 1975.

4. Вендик И. Б., Ситникова М. Ф. Физические основы микроэлектроники. – СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 1989.

5. Горбачев В. В., Спицина Л. Г. Физика полупроводников и металлов. ‑ М.: Металлургия, 1981.

5. Киттель Ч. Введение в физику твердого тела. ‑ М.: Наука, 1978.

7. Чопра К. Л. Электрические явления в тонких пленках. ‑ М.: Мир, 1972.

8. Шалимова К. В. Физика полупроводников. ‑ М.: Энергия, 1976.

9. Шаскольская М. П. Кристаллография. – М.: Высш. шк., 1976.

10. Замешаева Е.Ю., Ситникова М.Ф. «Физические свойства радиоматериалов», методические указания к практическим занятиям, СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2013.

11. Аничкова Н.С., Замешаева Е.Ю., Мунина И.В, Ситникова М.Ф. «Физические свойства радиокомпонентов», методические указания к лабораторным занятиям, СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2013.

12. Одит М.А., Ситникова М.Ф. «Компъютерное моделирование физических свойств материалов микроэлектроники», методические указания к лабораторным работам, СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2007.