Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Osnovnaya_elementnaya_baza_elektronnyh_ustroyst...doc
Скачиваний:
15
Добавлен:
10.11.2019
Размер:
14.63 Mб
Скачать

Вопросы для самопроверки:

  1. Как образуется устойчивая кристаллическая решётка, состоящая из атомов кремния?

  2. Что такое ковалентная связь в твердом теле?

  3. Сколько электронов на внешней оболочке имеет кремний?

  4. Что такое донорная примесь?

  5. Какое вещество может быть использовано в качестве донорной примеси?

  6. Что такое p-полупроводник?

  7. Что такое акцепторная примесь?

  8. Какое вещество может быть использовано в качестве акцепторной примеси?

  9. Что такое n-полупроводник?

  10. Нарисуйте расположение разрешённых энергетических уровней атомов донорной примеси.

  11. Как смещается уровень Ферми при введении в полупроводник донорной примеси?

  12. Нарисуйте расположение разрешённых энергетических уровней атомов акцепторной примеси.

  13. Как смещается уровень Ферми при введении в полупроводник акцепторной примеси?

  14. Дайте определение понятиям «основные» и «неосновные» ноcители заряда.

  15. Чем определяется количество основных и неосновных носителей в примесных полупроводниках?

  16. Как ведут себя свободные электроны в n-полупроводнике?

  17. Какой механизм движения дырок в p-полупроводнике?

  18. Что произойдёт с примесным полупроводником, если концентрация примеси будет очень большой?

2.3. Электронно-дырочный р-n переход.

На основе специальных технологий соединения примесных полупроводников n и p типов можно создать p-n переход, являющийся основой многих электронных приборов.

Предположим, что удалось соединить два примесных полупроводника n и p-типов. В этом случае по законам диффузии должно начаться движение электронов из области n, где их концентрация велика, в область p, где их концентрация мала. Одновременно должна происходить диффузия дырок из области p в область n. Этот диффузионный процесс встречного движения электронов и дырок называется диффузионным током. Электроны, попадая в область p, рекомбинируют (взаимно уничтожаются) с дырками, которые в свою очередь рекомбинируют в области n с электронами.

Процессы диффузии и рекомбинации приводят к тому, что в зоне p-n перехода со стороны n-полупроводника образуется некоторое количество некомпенсированных электронами положительных ионов примеси, а со стороны p-полупроводника н екоторое количество некомпенсированных дырками отрицательных ионов примеси (рис.2.8).

Рис.2.8. Схематическая структура p-n перехода в равновесном состоянии.

Некомпенсированные заряды положительных и отрицательных ионов приведут к возникновению электрического поля, к появлению так называемого потенциального барьера. Электрическое поле, возникшее из-за образования потенциального барьера, вызовет обратное диффузионному движение электронов и дырок. Действительно, некомпенсированные отрицательные ионы примеси из зоны p-n перехода будут притягивать неосновные носители-дырки из области n-типа, а некомпенсированные положительные ионы примеси из зоны р-n перехода будут притягивать неосновные носители - электроны из области р-типа. Возникнет дрейфовый ток, направленный навстречу диффузионному току. При условии равновесия, т.е. в случае, если к p-n переходу не приложено внешнее электрическое поле, дрейфовый ток точно равен диффузионному: iдрейф=iдиф., где iдрейф – дрейфовый ток, iдиф. –диффузионный ток.

В озникновение потенциального барьера в p-n переходе можно объяснить и с помощью энергетической диаграммы. Гипотетически предположим, что два куска полупроводника n и p типов, выполненные на основе одного материала и одинаковых цилиндров, имеющие идеально ровные боковые грани, соединены между собой этими гранями. В этом случае уровень Ферми должен быть одинаков по всей длине полученного материала, составленного из n- и p-полупроводников, т.к. вероятность нахождения электрона, равная 0,5, должна быть везде одинакова, в том числе и в месте соединения. С учетом энергетических диаграмм на рис. 2.6 и 2.7 получаем энергетическую диаграмму, представленную на рис.2.9.

Рис.2.9. Энергетическая диаграмма p-n перехода в равновесном состоянии(W-энергия, - длина)

Как видно из диаграммы, уровень Ферми одинаков по всей длине материала, причем ∆W – величина потенциального барьера, а ∆l – ширина p-n перехода.

При присоединении к p-n переходу источника э.д.с. ток либо потечёт через p-n переход, либо ток будет практически отсутствовать. Всё зависит от полярности приложенного напряжения.

При присоединении к p-n переходу э.д.с. E, как показано на рис.2.10а, электроны из n-области будут притягиваться положительным напряжением источника э.д.с., а дырки из р-области будут притягиваться отрицательным напряжением источника э.д.с. В этом случае область р-n перехода сужается потенциальный барьер снижается и через p-n переход течёт ток. При этом считается, что p-n переход смещён в прямом направлении. При присоединении к p-n переходу э.д.с. Е, как показано на рис.2.10б, дырки из р-области будут отталкиваться положительным напряжением э.д.с., а электроны из n-области будут отталкиваться отрицательным напряжением. В этом случае область р-n перехода расширяется потенциальный барьер повышается, а ток будет очень мал и обусловлен движением неосновных носителей. Действительно, неосновные носители в области р-типа – электроны будут притягиваться к положительному полюсу источника Е, а неосновные носители в области n-типа – дырки будут притягиваться к отрицательному полюсу источника Е. Считается, что при этом р-n переход смещён в обратном направлении.

Р ис.2.10. Р-n переход, смещённый в прямом а) и обратном б) направлении.

Анализ процессов происходящих в p-n переходе при присоединении к нему источника э.д.с., даёт следующую зависимость тока от приложенного напряжения: , где In и Un – соответственно ток через переход и напряжение на p-n переходе, I0 – ток неосновных носителей через p-n переход, смещённый в обратном направлении, φТ – температурный потенциал, определяемый формулой , где k - коэффициент Больцмана, T – абсолютная температура по Кельвину, q – заряд электрона (при комнатной температуре можно считать, что φТ=25мВ, m – коэффициент, учитывающий отличие p-n перехода от его идеальной модели).

Считается, что на р-n переходе положительное напряжение, если его полярность такая, как на рис.2.10а. При изменении полярности приложенного напряжения считается, что к р-n переходу приложено отрицательное напряжение.

При сравнительно малых отрицательных напряжениях на p-n переходе │exp(Uп/mφт)│≈1 не все неосновные носители, попавшие в зону p-n перехода, через него проходят. При достаточно больших отрицательных напряжениях на p-n переходе │exp(Uп/mφт)│<< 1 через него проходят все неосновные носители, попавшие в зону p-n перехода. Поскольку при определённой температуре количество неосновных носителей электронов и дырок, обусловленных проводимостью собственного полупроводника постоянно, то и количество неосновных носителей попадающих в зону p-n перехода, постоянно. Таким образом обратный ток p-n перехода при достаточно больших отрицательных напряжениях на p-n переходе стремится к постоянной величине, равной I0, т.е. In=-I0. Величина I0 в значительной степени зависит от температуры: с её ростом количество неосновных носителей увеличивается, т.к. увеличивается генерация пар электрон-дырка в собственном полупроводнике. При этом ток I0 растёт. Величина I0 зависит также от площади p-n перехода. Чем площадь больше, тем больше ток I0. Типовые значения тока I0 от десятков пикоампер до единиц мкА.

Положительное напряжение, приложенное к p-n переходу, вызывает увеличение тока через p-n переход. При этом рост тока с увеличением напряжения происходит по экспоненте.

С ростом температуры при смещении p-n перехода в прямом направлении действуют два противоположных фактора: I0 растёт, как об этом говорилось выше, что способствует росту тока через переход, φТ также растёт, что вызывает уменьшение тока через переход. Однако эти два фактора несопоставимы по своему влиянию на ток через переход. Увеличение I0 с ростом температуры приводит к гораздо большему возрастанию тока через переход, чем его уменьшение за счёт роста φТ. Изменение прямого и обратного токов через p-n переход с ростом температуры приведены на рис.2.11.

Рис.2.11. Изменение вольтамперной характеристики кремниевого p-n перехода при разных t.

Таким образом, как и во всех полупроводниках с ростом температуры при приложенном напряжении ток также растёт.

Соседние файлы в предмете [НЕСОРТИРОВАННОЕ]