Установка вакуумная модели ву - 2м

Изделие предназначено для нанесения в вакууме покрытий на оптические детали методом электронно-лучевого и резистивного испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным фотометрическим контролем толщины покрытия. Вакуумная установка обеспечивает возможность нанесения металлических, однослойных, просветляющих, ахроматических, интерференционных, зеркальных, фильтрующих, токопро-водящих и других оптических покрытий для области спектра, ограниченной длинами волн в диапазоне 250 - 1100 м/м.

Откачка камеры до начала проведения процесса напыления может производиться в ручном и автоматическом режимах.

В автоматический режим, кроме получения рабочего давления, включена ионная очистка деталей и нагрев деталей до заданной температуры с вращением арматуры.

Вакуумная установка должна эксплуатироваться на вакуумных участках и в лабораториях при температуре окружающего воздуха от 17 до 28°С, относительной влажности от 40 до 75 % в атмосферном давлении 8,410⁴ - 10,610⁴ Па (630 - 800 мм рт. ст.).

Вакуумная установка состоит из:

— откачного поста (с высоковакуумными средствами откачки);

— агрегата форвакуумного АВР-60;

— комплекса фотометрического контроля толщины СФКТ - 751В;

— стойки управления.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

1. Давление в камере 610^-4 Па или 4510^-7 мм рт. ст.;

2. Время достижения давления в камере без прогрева при рабочем режиме диффузионного насоса и при охлаждении жидким азотом криопанели и ловушек с начала откачки воздуха из камеры не более 30 мин.;

3. Количество испарителей 3 шт.: электронно-лучевых (ЭЛИ) - 2 шт., резистивных - 1 шт.;

4. Максимальная мощность ЭЛИ 6 кВт;

5. Внутренний диаметр камеры 700 мм;

6. Максимальная масса подложек, устанавливаемых на арматуре не более 10 кг;

7. Максимальная температура нагрева оптических деталей 320°С;

8. Частота вращения арматуры: 0,1 - 1 с^-1 или 6 - 60 об/мин;

9. Мощность, потребляемая вакуумной установкой не более 30 кВт;

10. Общая площадь, занимаемая вакуумной установкой не более 6 м²;

11. Масса установки - 1970 кг.

Установка вакуумная модели ВУ-1А

Изделие предназначено для нанесения покрытий на оптические детали методом резистивного и электронно-лучевого испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным контролем толщины покрытия. Установка обеспечивает возможность нанесения многослойных ахроматических покрытий на деталях серийной продукции, а также металлических, однослойных просветляющих, интерференционных зеркальных, фильтрующих и других для различных областей спектра. Установка может эксплуатироваться в закрытых сухих помещениях и при климатических условиях: - температура окружающей среды от 17 ° до 27°С;

- относительная влажность от 40 до 75 %;

- атмосферное давление от 8,410^-4 до 10,610⁴ Па

(630 до 780 мм. рт. ст.).

В состав установки входит:

- откачной пост (с высоковакуумными откачными средствами, вакуумной системой и пневмо

гидроаппаратурой) ;

- форвакуумный агрегат;

- электрооборудования (с двумя стойками управления — управление вакуумной системой и

управление технологическими источниками).

Технические характеристики

1. Давление в камере при одновременном нагреве ее до 320 °С и при охлаждении всех ловушек жидким азотом 410^-4Па;

2. Время достижения давления 410^-4 Па не более 40 мин.;

3. Регулируемая температура нагрева в камере от 100 до 320°С;

4. Количество резистивных испарителей 2 шт.;

5. Количество электронно-лучевых испарителей 1 шт.;

6. Вместимость деталей размерами  40 мм - 70 шт.,  70 мм - 6 шт.;

7. Напряжение источника питания тлеющего разряда ионной очистки на холостом ходу от 2175 В ± 20 % до 4350В ± 20%;

8. Максимальный ток тлеющего разряда ионной очистки не более 0,4 А;

9. Максимально допустимый ток резистивного испарителя при напряжении на трансформаторах не более: а) 12В ‑ 300 А,

б) 24В ‑ 150 А;

10. Максимальный ток электронно-лучевого испарителя 480мА ± 20;

11. Мощность, потребляемая установкой , не более 20 кВт;

12. Масса установки не более 2600 кг;

13. Площадь, занимаемая установкой, не более 6 м².

УСТАНОВКА ВАКУУМНАЯ МОДЕЛИ ВУ-1Б

Изделие предназначено для нанесения тонкопленочных износостойких покрытий способом конденсации вещества в вакууме с ионной бомбардировкой электропроводного тугоплавкого материала титана, а также его соединений с газами (нитриды, карбиды). Предусмотрена возможность нанесения покрытий из других тугоплавких электропроводящих мате­риалов, в том числе молибдена, циркония иодитного и их соединений (нитриды, карбиды). ТЕХНИЧЕСКАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА

Время достижения предельного давления 210^-3 Па при разогретом диффузионном насосе и при охлажении водяной ловушки, с поворотным устройством, без загрузки инструментом, не более 15 мин.

В качестве источника питания дуги используется сварочный выпрямитель типа ВД - 306УЗ. Ток дуги в зависимости от испаряемого материала от 80 до 180 А.

Параметры источника питания подложки

1. Напряжение высоковольтного источника в рабочем режиме 0,9кВ;

2. Диапазон плавного регулирования опорного напряжения низковольтного источника от 20 ± 5% до 150 ± 5% В;

3. Максимально допустимый ток 5 А;

4. Частота вращения шпинделей поворотного устройства 15  20 % об/мин ;

5. Система напуска реактивного газа обеспечивает напуск газа в камеру до давления 4,010^-1 Па;

6. Мощность, потребляемая установкой 20 кВт;

7. Натекание в рабочую камеру с поворотным устройством при закрытом затворе диффузионного насоса без загрузки инструментом 2,010^-4 Па м³/с;

8. Диаметр рабочей камеры 600 мм;

9. Высота рабочей камеры 540мм;

10. Высота установки 1960 мм;

11. Общая площадь, занимаемая установкой, 10 м²;

12. Масса установки 1500 кг.

Установка вакуумная модели ВУ - 800

Изделие предназначено для нанесения в вакууме покрытий на оптические детали методом электронно­лучевого и резистивного испарения диэлектриков, полупроводников и металлов с одновременным контролем толщины покрытия в автоматическом режиме откачки и процесса напыления с управлением от встроенной автоматизированной системы управления (АСУ) на базе микро - ЭВМ "Электроника -60М" с цветным графическим дисплеем. Вакуумные установки обеспечивают возможность нанесения различных типов покрытий для различных областей спектра по заданной программе.

Вакуумные установки должны эксплуатироваться на вакуумных участках и в лабораториях при температуре окружающего воздуха от 17 до 28 °С, относительной влажности от 40 до 75%, атмосферном давлении 8,410⁴ - 10,610⁴ Па (630 - 800 мм рт. ст.)

Установка состоит:

— откачной пост (с высоковакуумным и средствами откачки);

— форвакуумный агрегат;

— система фотометрического контроля толщины покрытия на базе СФКТ-801В и СФКТ-801У;

— арматура подколпачная;

— система управления исполнительными механизмами установки со стойкой управления.

№ п/п	Наименование параметра	Величина параметра по моделям изделий
		ВУ-800М	ВУ-800У
1	Величина давления в камере с чистой арматурой и без прогрева ее внутреннего объема с подачей жидкого азота, Па (мм рт.ст.)	510-4 (3710-7)
2	Время достижения давления 510-4 Па в камере с момента открытия затвора, мин, не более	30
3	Количество электронно-лучевых испарителей (ЭЛИ)	-	2
4	Максимальная мощность ЭЛИ, кВт	-	12  1,2
5	Максимальная потребляемая мощность: резистивного испарителя, кВт многопозиционного испарителя, кВт	4  0,4 -	4  0,4 3,6  0,36
6	Температура нагрева подложек, °С	50 - 320
7	Диапазон фотометрического контроля, мкм	0,4  0,8	0,25  2,6
8	Суммарная мощность, потребляемая вакуумной установкой, кВт, не более	28	40
9	Площадь, занимаемая установкой, м2, не более
10	Масса установки, кг не более	2700	3200