- •По курсу «Физические методы исследования. Вакуумная техника» « Растровый электронный микроскоп с автоэмиссионным катодом »
- •1. Расчетная часть.
- •1.1 Выбор схемы и режима работы.
- •1.2 Расчет скорости откачки камеры.
- •1.2.1 Расчет скорости откачки без натекания.
- •1.2.2 Расчет скорости откачки камеры с учетом постоянного газовыделения.
- •1.2.3 Расчет скорости откачки с учетом переменного газовыделения.
- •1.2.4 Скорость откачки насоса.
- •1.2.5 Расчет проводимости.
- •1.3 Выбор высоковакуумного насоса.
- •1.4 Проверочный расчет.
- •1.5 Выбор механического насоса.
Национальный исследовательский ядерный университет
«МИФИ»
Физико-технический факультет.
Кафедра №9 «Физические проблемы материаловедения»
Пояснительная записка к курсовому проекту
По курсу «Физические методы исследования. Вакуумная техника» « Растровый электронный микроскоп с автоэмиссионным катодом »
Выполнил: Шувалов Д. Б.
Группа : Ф7-04
Принял: Волков
Москва2011 г.
Содержание
Введение
-
Расчёт высоковакуумной системы
Введение.
Растровый электронный микроскоп (РЭМ) — прибор , предназначенный для получения изображения поверхности объекта с высоким пространственным разрешением (единицы нанометров), также информации о составе, строении и некоторых других свойствах приповерхностных слоёв. Метод растровой электронной микроскопии использует энергетическое и пространственное распределение электронов, эмитированных из приповерхностного слоя материала образца под воздействием сфокусированного электронного пучка. В формировании изображения в РЭМ участвуют различные типы электронов: упругорассеянные, истинно-вторичные, оже-электроны. А также рентгеновское излучение, генерируемое вторичными и оже-электронами.
Рисунок 1. Энергетический спектр вторичных электронов.
a- медленные вторичные электроны (истинно вторичные электроны);
b- неупругорассеянные первичные электроны;
c- упругорасеянные первичные электроны.
Автоэмиссионные катоды (холодные эмиттеры) - это источники электронов, принцип работы которых основан на явлении автоэлектронной эмиссии, то есть на туннелировании электронов под действием приложенного электрического поля через потенциальный барьер на границе раздела "твердое тело-вакуум". Вероятность такого туннелирования определяется высотой потенциального барьера (работой выхода) и величиной приложенного электрического поля. Работа выхода определяется фундаментальными свойствами материала и для большинства материалов составляет 4-5 ЭВ, при этом для получения достаточно больших для практических целей токов эмиссии требуются напряженности электрического поля ~107 В/см.
Для обеспечения нормальной работы растрового электронного микроскопа с автоэмиссионной пушкой необходимо создание и поддержание высокого вакуума (~10-8 Торр ) . Цель данной работы- разработать соответствующую высоковакуумную систему.
В данной работе рассматривается РЭМ, позволяющий изучать образцы диаметром до 200 мм и высотой до 10 мм. А также осуществлять следующие перемещения образца:
1. Линейное перемещение (по X-140 мм, по Y-80 мм, по Z-37,5 мм);
2. Вращение образца на 360˚;
3. Наклон образца от -5˚ до 70˚.
Необходимый объем камеры (с учетом запаса): V=360*300*(200*sin(70˚)+37,5+12,5)≈25,9*106 мм3=25,9 л
Учтем объем источника электронов и конденсорного блока: V1=25,9+0,5+2=28,4 л
Исходя из этих соображений, в качестве откачиваемого объема выберем объем равный 29 литрам.
Для устранения вибрации, создаваемой низковакуумным насосом в систему будет включен демпфер.
Для конструирования вакуумной системы используется материал 12Х18Н10Т – нержавеющая сталь.
Схема растрового электронного микроскопа.
Рисунок 2- Схема растрового электронного микроскопа.