книги / Новые принципы коммутации больших мощностей полупроводниковыми приборами
..pdfАК А Д Е М И Я
НАУ К
СССР
Академические
чтения
В. М. Тучкевич, И. В. Грехов
НОВЫЕ ПРИНЦИПЫ КОММУТАЦИИ БОЛЬШИХ МОЩНОСТЕЙ п о л у п РОВОДНИКОВЫМИ ПРИБОРАМИ
ЛЕНИНГРАД „ НАУКА”
ЛЕНИНГРАДСКОЕ ОТДЕЛЕНИЕ
1988
Т у ч к е в н ч В. М., Г р е х о в И. В. Новые принципы коммутации больших мощностей полупроводниковыми при борами. Л.: Наука, 1988. 117 С.
В книге описаны два новых принципа коммутации, позволив шие увеличить мощность, коммутируемую полупроводнико выми приборами, в микросекундном диапазопо почти па поря док, в наносекундном — на три и в пикосекупдиом — па четыре порядка. Рассматриваются физические процессы, определяющие работу новых классов импульсных и высоко частотных приборов, созданных на основе этих принципов. Книга предназначена для специалистов, работающих в об ласти физики и техники полупроводников, в лазерной, ускори тельной и локационной технике, радиотехнике и преобразова тельной технике.
Р е ц е н з е н т ы :
А.А. Р о г а ч е в , В. В. Т о г а т о в
Ре д к о л л е г и я :
академик Г. К. Скрябин (председатель),
академик А. С. Боровик-Романов (заместитель председателя),
академик И. В. Петрянов-Соколов (заместитель председателя), академик Г. А. Авсюк, академик В. А. Виноградов, академик Н. Н. Моисеев, академик А. М. Самсонов,
академик В- Е. Соколов
/2400000000-509
69-88 НГ1
' 054(02)-88
ISBN 5-02-024559-3 © Издательство «Наука», 1988 г.
ВВЕДЕНИЕ
Во многих областях современной физики, связан ных с проведением крупномасштабных эксперимен тов, и в целом ряде технических областей необходимо коммутировать очень большие электрические мощ ности (от мегаватт до тераватт) в микро-, нано- и субнапосекундном диапазонах времени. Это требуется, например, в некоторых направлениях работ по уп равляемому термоядерному синтезу, в мощных лазе рах и ускорителях, высокочастотных плазмотронах, мощных радиопередающих, радионавигационных и локационных системах и т. д.
Быстрая коммутация больших мощностей осуще ствляется, как правило, газоразрядными приборами. В значительной степени благодаря успехам в их раз витии появилась техническая возможность создания уникальных установок. Однако эти приборы имеют принципиальные недостатки, обусловленные самим характером процессов, протекающих при разряде в газах. Это прежде всего нестабильность срабаты вания, затрудняющая синхронизацию сложных си стем, и небольшой срок службы, зависящий от быст рого разрушения электродов. Кроме того, газораз рядные приборы сложны в эксплуатации, недоста точно надежны и весьма чувствительны к внешним воздействиям. В течение последних 10—15 лет они
практически полностью были вытеснены из силовой преобразовательной техники мощными полупровод никовыми приборами — тиристорами и транзисто рами. Можно было ожидать, что последовательное наступление полупроводниковых приборов захватит также импульсную и высокочастотную технику боль ших мощностей. Однако, несмотря на весьма впечат ляющие успехи в развитии тиристоров и транзисто ров, этого не случилось по причинам, имеющим прин ципиальный характер.
Коммутация больших мощностей полупроводни ковыми приборами любого типа производится путем резкого увеличения проводимости области, которая в начальном состоянии имеет очень высокое сопро тивление и блокирует приложенное к прибору внеш нее напряжение. Такой областью обычно является полностью истощенная сильным полем область объ емного заряда (ООЗ) обратносмещенного /?-тг-пере- хода. Резкое увеличение проводимости этой области осуществляется путем заполнения ее xopoinq прово дящей электронно-дырочной плазмой.
Фундаментальные физические ограничения удель ной величины коммутируемой мощности для полу проводниковых приборов связаны в основном с от носительно низкой подвижностью и концентрацией носителей заряда в плазме, а также сравнительно невысокой рабочей температурой. Это приводит к необходимости создания большого рабочего объема проводящей области. Относительно малые значения диффузионной длины носителей в плазме не дают возможности увеличивать объем за счет возрастания межэлектродного расстояния, как это делается в га зоразрядных приборах, и поэтому увеличение ком мутируемой мощности может производиться в ос новном за счет увеличения площади токопроводя щего канала. Таким образом, предельные коммута-
с
-J-L + |
z
3
В 4 +•
Рдс. 1. Четырохслопная/)+7У/т+-структура тиристора.
АВ —» силовая цопь; AG —>цопь управления; J, з —. эадпттврныб р-п- пероходы; г —. коллекторный р-п-пвроход; 4 —» ООЗ коллектора; 5 —.
плаэадонный канал.
ционные характеристики определяются * возмож ностью быстрого создания устойчивых коротких плазменных каналов в виде диска большой площади на месте области с высоким сопротивлением.^ наи более мощных современных полупроводниковых пере ключателях (биполярном транзисторе и тиристоре) плазменные каналы формируются инжекцией носи телей из сильнолегированных эмиттерных слоев. На рис. 1 показана полупроводниковая структура мощного тиристора, состоящая из четырех слоев че редующегося типа проводимости. Эти слои образуют три р-и-перехода; два крайних (эмиттеры) вклю чены в проводящем направлении, а центральный (коллекторный) блокирует приложенное к прибору напряжение. При переключении 0 0 3 этого перехода должна быть заполнена плазмой. Переключение ини циируется пропусканием импульса тока в цепи эмиттер—база вдоль тонкого базового слоя. Из-за
большого сопротивления этого слоя инжекция элек тронов эмиттерным га+-р-переходом локализуется в узком (порядка сотни микрон) канале вдоль гра ницы эмиттер—база. В тиристоре ширина этого канала со временем увеличивается благодаря рас пространению включенного состояния, по скорость этого процесса очень мала (0.1—0.005 мм/мкс); в транзисторе же ширина канала не зависит от вре мени и даже уменьшается с ростом тока. Такая ло кализация делает практически невозможным созда
ние токопроводящего канала большой |
площади, |
и поэтому полупроводниковые приборы, |
основанные |
на обычных принципах коммутации, не могут кон курировать, например, с газоразрядными в области быстрой (микро- и наносекундиой) коммутации мощ ностей мега- и гигаваттиого диапазонов. В то же время современное состояние лазерной, ускоритель ной и локационной техники, термоядерной энерге тики, радиотехники, радиолокации и ряда областей преобразовательной техники требует создания именно полупроводниковых коммутаторов 'этого диапазона мощностей, обладающих традиционными преимущест вами полупроводниковых приборов: большим сроком службы, надежностью, высоким кпд и, что крайне важно для ряда применений, устойчивостью к внеш ним воздействиям и мгновенной готовностью к ра боте.
В пикосекундном диапазоне существующие полу проводниковые приборы коммутируют мощность всего лишь порядка 1 Вт. Отсутствие мощных ком мутаторов этого диапазона серьезно затрудняет раз витие новых видов локационных и регистрирующих систем.
Положение в области коммутации больших мощ ностей полупроводниковыми приборами в микро-, нано- и пикосекундном диапазонах радикально из
менилось за последние несколько лет после того, как в Физико-техническом институте им. А. Ф, Иоффе были разработаны два новых ТпринципаТкоммутации — с помощью управляющего плазменного слоя
ис помощью задержанной ударно-ионизациониой волны, позволившие увеличить коммутируемую при борами мощность в микросекундном диапазоне почти на порядок, в паносекупдпом — на два-три порядка
ив пикосекундном — почти на четыре порядка. Столь резкое улучшение коммутационных характе ристик естественно открыло принципиально новые возможности для создания систем и устройств на ос нове таких приборов для самых различных областей пауки и техники. Однако новые принципы, поло женные в основу их работы, потребовали разработки
иновой схемотехники, зачастую весьма сильно отли чающейся от общепринятой; основные особенности ее связаны с тем, что практически все новые приборы являются двухэлектродными.
Интенсивные исследования, выполненные в ФТИ им. А. Ф. Иоффе за последние несколько лет, при вели к созданию нескольких новых классов мощных полупроводниковых приборов с уникальными харак теристиками по быстродействию и величине комму тируемой мощности. На основе принципа коммута ции с помощью управляющего плазменного слоя были созданы плазменно-управляемые аналоги ти ристора и транзистора (микросекундный диапазон), диодные, транзисторные и тиристорные обострители импульсов (наносекундный диапазон). На основе принципа коммутации с помощью задержанной удар но-ионизационной волны были созданы обострители импульсов субнано- и пикосекундного диапазонов диодного, транзисторного Ти тиристорного типов. Некоторые из приборов уже переданы в промышлен ность и выпускаются в виде опытных серий. Разра
ботаны и основные схемотехнические решения для устройств на основе этих приборов, созданы и испы таны опытные образцы. Весь комплекс работ зало жил основы для создания нового направления, кото рое можно назвать силовой полупроводниковой импульсной и высокочастотной электроникой. Это на правление сейчас находится в стадии становления, и целью настоящей книги является информация ин женеров и физиков об основных путях его разви тия, проблемах и достижениях.
КОММУТАЦИЯ С ПОМОЩЬЮ УПРАВЛЯЮЩЕГО ПЛАЗМЕННОГО СЛОЯ
Идея коммутации с помощью управляющего плаз менного слоя является довольпо простой. Если в при боре, например, тиристорного типа каким-либо спо собом создать одыородиый слой электронно-дырочной плазмы в плоскости коллекторного р-тг-перехода, то внешнее напряжение указанной на рис. 1 поляр ности будет однородно по площади перемещать из этого слоя дырки в p -область, а электроны — в ^ -об ласть. Эти носители, являющиеся основными для базовых р - и ^-областей, понижая потенциальный барьер крайних (эмиттерных) ^-п-переходов, вызо вут инжекцию неосновных носителей в соответствую щие базовые области и переключение прибора по обычному тиристорному механизму [1]. В отличие от обычного трехэлектродного тиристора здесь пе реключение вследствие однородности инициирую щего воздействия будет происходить однородно и од новременно по всей площади прибора. Таким образом, отказ от управляющего электрода и замена его одно родным по площади плазменным слоем в принципе позволяет сформировать плазменный токопроводя щий канал с площадью, равной площади кремниевой пластины. Однако создать такой слой довольно сложно. Были исследованы самые разные способы
его формирования — импульсный лавинный пробой коллекторного р-и-перехода [2, 3], | ударная иони зация в'мощиом СВЧ-поле [4, 5], ионизация мощ ным когерентным и некогерентным импульсом света [6—8]. Все они дали в общем неплохие резуль таты, но были слишком сложными в техническом отношении. Наиболее удобным и энергетически вы годным оказалось так называемое реверсивно-инжек- ционное управление [9], при котором управляющий плазменный слой создается путем кратковременного изменения полярности напряжения, приложенного к прибору. На основе этого способа были созданы три новых класса приборов. Два класса переключа ющих приборов (плазменно-управляемые аналоги тиристора и транзистора) были названы соответ ственно реверсивно-включаемым динистором (РВД) и реверсивно-управляемым транзистором (РУТ); эти приборы работают в микро- и субмикросекундном диапазонах. Для наносекундного диапазона был разработан мощный диодный обостритель импуль сов [10] — дрейфовый диод с резким восстановле нием (ДДРВ), обрывающий протекающий через него ток после рассасывания тонкого плазменного приэмиттерного слоя.1
1. Реверсивно-включаемый динпстор
Конструктивно РВД состоит из нескольких десят ков тысяч чередующихся тиристорных и транзистор ных элементов с характерным размером, меньшим чем толщина широкой тг-базы прибора (рис. 2). Центральный (коллекторный) переход у элементов общий; он блокирует внешнее напряжение указан ной на рисунке полярности. Общим у них является и верхний п +-р эмиттерный переход, образуемый предельно сильнолегированным и+-слоем и довольно