книги / Микроэлектроника толстых пленок
..pdf254 ГЛ А ВА 9
которые можно смонтировать в одном корпусе, огра ничено количеством чипов, которые можно с помощью эвтектики прикрепить к одной подложке, и количеством проволочных соединений, необходимых для присоедине ния чипа к подложке. К одной подложке без каких-либо серьезных технических трудностей можно прикрепить всего 6—8 чипов. Это ограничение связано с тем, что температура подложки должна поддерживаться пример но на том уровне, который требуется для металлизации эвтектикой золото — кремний, т. е. 377 °С. Поддержание такой температуры в течение длительного времени мо жет повлиять на электрические характеристики схемы, вызвать смещение чипов интегральных схем и ослабить связующие свойства окружающей их металлизации, Этих трудностей можно избежать, если для крепления кремниевых интегральных схем к подложке использо вать эпоксидные материалы.
Другой важной проблемой является количество про волочных соединений между чипами интегральных схем и толстопленочной подложкой. Если среднее число вы водов, которые должны быть соединены с интегральной схемой, равно 10, то для межсоединений многочиповой матрицы вполне может потребоваться 150 проволочек. Только тщательный контроль и уход за оборудованием, с помощью которого выполняются эти соединения, по зволят добиться хороших результатов. Одно из решений этой проблемы — соединение с помощью балочных вы водов или перевернутых чипов, когда все соединения можно сделать за одну операцию сборки.
Еще одной задачей является качество запайки боль ших корпусов многокристальных матриц, которые обыч но представляют собой плоские корпуса размером 1,5 X X 1,5 или 2,5 X 2,5 см. При герметизации таких корпусов особенно трудно добиться высокого выхода продукции, Это серьезная проблема, так как на изготовление чипов интегральных схем, объединяемых в один корпус, уже затрачены большие средства.-Ее можно решить только улучшением конструкции корпуса или использованием герметически запаянных чипов, исключающих необходи мость в герметически запаянном корпусе.
Г Е Р М Е Т И ЗИ Р О В А Н Н Ы Е ТОЛСТО П ЛЕН О ЧН Ы Е ГИ Б РИ Д Н . СХЕМЫ 259
описанной выше. Для выполнения функций согласования с биполярной электрической схемой в тот же корпус включены необходимые транзисторы и резисторы. Готовая схема представляет собой декодирующее уст
ройство, |
вся электрическая схема которого 'умещается |
в одном |
корпусе, что дает значительный выигрыш в га |
баритах и повышает надежность.
На фиг. 9.18 показана схема позиционного анализа тора ошибок, состоящая из интегральных схем, рези сторов, емкостей, диодов и транзисторов. На фиг. 9.19 изображена схема ввода информации, состоящая из ин тегральных схем, резисторов и емкостей. Эти примеры показывают, что гибридные схемы можно использовать для изготовления экономичных и надежных схем, состоя щих из огромного множества элементов.
ЛИ ТЕРАТУРА
1.FENSTER Н., McHALE Р. Е., Fabrication of L. S. H. J. Circuits by Thick-Film Techniques, 1968 Hybrid Microelectronics Symposium.
2.WANG С. H., Fine Line Technologies For Microelectronic Devices, Proc. Electronic Components Conf. 1970.
3.TOPFER M. L., DANIS A. H., HEUNER R. C., A Universal Multi layer Hybrid Array, NEPCON, 1968.
4.TOPFER M. L., Applications of Thick-Films To Microelectronics, 1969 IEEE International Convention Digest.
Оглавление
ПРЕДИСЛОВИЕ РЕДАКТОРА РУССКОГО И З Д А Н И Я .............................. |
5 |
||
1. ВВЕДЕНИЕ .................................................................................. |
11 |
||
2. МЕТОДЫ |
ПРОЕКТИРОВАНИЯ............................................................................. |
37 |
|
3. Т Е Х Н О Л О ГИ Я ................................................................................................................ |
60 |
||
4. |
ОБОРУДОВАНИЕ И ПРОЦЕСС СОЗДАНИЯ СХЕМ ......................................... |
§5 |
|
5. МЕТОДЫ |
М О Н Т А Ж А ............................................................................................ |
127 |
|
6. |
СПОСОБЫ |
КОРПУСИРОВАНИЯ........................................................................... |
164 |
7. РАЗДЕЛЕНИЕ НА БЛОКИ ....................................................................................... |
192 |
||
8. |
НЕГЕРМЕТИЧНЫЕ СХЕМЫ НА ТОЛСТЫХ ПЛЕНКАХ И ИХ ПРИ |
||
|
МЕНЕНИЕ |
.............................................................................................................. |
220 |
9. |
ПРИМЕНЕНИЕ ГЕРМЕТИЗИРОВАННЫХ ТОЛСТОПЛЕНОЧНЫХ ГИБ |
||
|
РИДНЫХ |
СХЕМ ........................................................................................................ |
240 |