Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Математические модели элементов интегральной электроники

..pdf
Скачиваний:
18
Добавлен:
12.11.2023
Размер:
14.39 Mб
Скачать

физических эффектов. Кроме того, они используются для проверки решений, полученных с помощью методов первой категории, что позволяет сделать выводы о при­ менимости тех или иных допущений.

Методы первой категории изучены и описаны в ли­ тературе достаточно подробно. Исчерпывающие сведе­ ния по этим методам читатель найдет в [4].

В дайной главе рассматриваются только методы вто­ рой категории, использующие численное решение урав­ нений полупроводника с помощью ЭЦВМ.

2.1. Одномерная модель

Основные уравнения и граничные условия. Преобра­ зуем одномерную систему уравнений переноса тока, не­ прерывности и Пуассона, заменив концентрации носите­ лей квазипотенциалами Ферми:

ip =-qNvV-p (*) Fp (¥/>, 9, 9a) {dtp!dx),

]n= - qNcV-n{x) Fn (?„,

9, 9a) (dtnjdx),

 

/см =

— S {d fd t) (d<f>Jdx),

 

 

 

i —

ip “Ь in

j an

 

VP

i aa —

qN ”

 

?Q>

dfa>-?)

■ J T - r ^ S —

d(fp — f)

Ft

d i n _____

**

дрп Ь п , Ч , Ч о )

Э (у - у „ )

дх

^

c

<tn)

dt

(2. 1)

(2. 2)

(2.3)

(2.4)

(2.5)

(2.6)

дхг

~WvFp{9p,

9, 90) ~ NcFn'ifn, 9,

?0) +

 

4-M (jc)] =

Q(<pp, <fn, 9. N)-

(2.7)

Здесь Nv и Mc—эффективные плотности состояний в ва­ лентной зоне и зоне проводимости, определяемые сле­ дующими выражениями [5, 6]:

т*р, т*п — «средние» эффективные массы дырок и элек­ тронов; т —масса свободного электрона; Т —абсолют-

51

ная температура в К; cpG — ширина запрещенной зоны (1,12 В для Si и 0,66 В для Ge).

оо

FP(b> Ь

9a)

.[

 

r\112 drj

 

1+

exp ( V)

 

 

 

о

 

 

 

ОО

 

 

(2.8)

 

 

 

 

 

F „ ( f n, «р.

9 а ) =

у = - f

 

У '* dr,

 

 

ехр^ т] - у — <рп

Уо

 

 

о

1+

 

 

 

 

¥г

2<Рг

— интегралы Ферми для дырок и электронов соответ­ ственно. Квазипотенциалы Ферми связаны с концентра­ циями следующими соотношениями:

р (х) = N VFP(<р„. <Р, <p'G),

(2.9)

n(x) = NcFn{<fn, % <?0).

В частных случаях для невырожденных областей, где (pWv) (n/Nc) выражения (2.9) можно переписать в виде

„ _ y . , x p ( t ^ ] 9 + £ )

и>для, сильно выраженных областей, где (p/Nv) (rc/Wc) >

1

В уравнении (2.5) g — скорость генерации-рекомбина­ ции носителей заряда.

Полагая справедливой модель рекомбинации Шок­ ли — Рида — Холла, имеем [7]

р { х ) п ( х ) — п ч

(2. 10)

 

®

ХР (Л + rtl) +

( р + p i ) *

где

rt, = щ exp { b h T)\ Р 1= п*!/п,;

(2.11)

Фt —энергетический уровень рекомбинационных цен­ тров.

Для полупроводника, легированного золотом, реком­ бинационные центры имеют два энергетических уровня. Уровень акцепторов расположен на 0,57 эВ ниже края зоны проводимости, а доноров' на 0,35 эВ выше края валентной зоны [8]. Выражения Шокли — Рида — Хол­ ла (2.10), (2.11) справедливы только для рекомбинаци­ онных центров с одним энергетическим уровнем. Мо­ дель, описывающая кинетику рекомбинации на много­ уровневых рекомбинационных центрах, приведена в [9].

Зависимость подвижности дырок и электронов от концентрации легирующей примеси и от величины элек­ трического поля может быть представлена в выраже­ ниях (2.1) и (2.2) следующей эмпирической формулой

.[10]:

р (лг, £ ) = |П»м|.п+

//

|* 1

/

I Е

|з\ I/P

(2. 12)

 

I

«+ ж \

J

0 +

М

)

 

Значения параметров в выражении (2.12)

для дырок и

электронов приведены в табл. 2.1.

 

 

Таблица 2.1

 

 

 

 

 

 

Значения для

Н-мин*

Н-макс*

ЛГ0, см"»

 

Ео, В/см

Р

сма/В-с

см*/В-с

 

дырок

47,7

447

6.3Л016

0,76

1,95-104

1

электронов

65

1265

8,5- 10*«*

0,72

8000

2

Граничные условия для одномерной транзисторной структуры (рис. 2.2) устанавливаются из следующих со­ ображений. На омических контактах имеет место термо­ динамическое равновесие и неограниченная скорость по­ верхностной рекомбинации. Это эквивалентно условиям

? р (0) = ? „ ( ( ) ) = £ / „

(2 .1 3 )

<fp(JCK) = 9п (Лк)= у К,

(2.14)

р (Хб) = 0 ,

(2 .1 5 )

53

где U о и U K — внешние на­ пряжения, приложенные на эмиттерном и коллекторном контактах. Эти напряжения отсчитываются относитель­ но средней точки базы хв. Кроме того, предполагает­ ся, что вблизи омических контактов нет объемного за­ ряда, т. е. при х=0, хк

 

d2fl dx2= — (<7/е) [NvFp

 

- N c F n + N] = 0.

(2.16)

 

Если

в

качестве управляю­

 

щего

воздействия

задана

 

плотность тока /3 или / и, то

 

граничные условия для

это­

 

го контакта имеют вид:

 

 

при (Х^х^Хб

 

 

/ (0) =

/ (JC) =

/э,

 

(2.17а)

при Хб<Х^Хк

 

 

 

 

 

! (*к) =

/ (х) =

/к,

 

(2.176)

при Х — 0, Хк

 

 

 

 

 

dzf/d x 2 = 0.

 

 

(2.18)

Система уравнений (2.1) —(2.7)

справедлива

для

любых полупроводниковых структур независимо от про­ филя примеси и электрофизических параметров материа­ ла. Для различных типов полупроводниковых структур

меняются лишь граничные условия.

Для одномерной диодной структуры граничные усло­ вия являются частным случаем выражений (2.13) —

^

^

<Рр(0) = <рп(0)=1/.

<?Р(*«) = <ря (Хб) = 0,

при х = Х6

d !<?/dx* = 0 .

Вслучае уп равлен и я током плотности J:

при О ^ х ^ х с

/(0) = /( * ) = /.

(2.19)

(2. 20)

(2.21)

( 2.22)

d2(p/dx*=0. (2.23)

Уравнения (2.1) —(2.7) с Граничными условиями (2.13)—,(2.23) описывают статические и импульсные ха­ рактеристики одномерной структуры в режиме большого сигнала. Пределы применимости уравнений для режи­ мов большого и малого сигналов с соответствующими граничными условиями обсуждались ранее в гл. 1.

Рис. 2.3. Пространственное разбиение транзисторной структуры для распределе­ ния концентрации дырок и электрического поля.

Pi Е1 Рг Ег

Ej~1 Pj £]

Ен-1Рм

I [

1 [ I

\ { I-

i '

!

\A*1

\ &*2 I

I A -I

14

 

—1_2_|---- 1----- 1

х0вО

xf xz

Xj4 xj=Xs

хм-1

хм=Хк

Расчет переходных процессов. Общий подход к рас­ чету переходных процессов заключается в том, что си­ стема уравнений в частных производных (2.1) —(2.7) сводится к системе обыкновенных дифференциальных уравнений с помощью метода конечных разностей. Зна­ чения переменных ф3>, <рп и ф определяются для конеч­ ного числа точек, на которые разбивается диффузионная структура. Интервал 0 —хк разбивается*) на М подын­ тервалов (см. рис. 2.3) шириной Axi (£= 1, 2, М), так что

а» = 0, а-,= 2 Д-*Гк(« = 1, 2,...,

М), х м= хк.

 

А=1

 

 

 

 

 

Пространственные

производные

в

выражениях

(2.1) —(2.7) записываются в конечно-разностном

виде.

Тогда для внутренних точек х{ (i= l,

2, ..., М) интерва­

ла 0 —лгк уравнения

(2.5) —(2.7)

преобразуются

к сле­

дующему виду:

 

 

 

 

 

h ( X . ) - i „ ( x t _ i ) + q g

( X. ) ДА. = -

q N v

 

Х

х 2 Ы £ й р Н 1 ,

 

 

(2.24)

*> Возможны и другие варианты разбиен

пространственного

интервала.

 

 

 

 

 

 

 

. , .

 

SFn (xi) ix i

\ y

]n(xi) in(x,. i) — qg (Xi) &Xi — q N cd [1?п №) _ f (*,)] л

 

v,

a [?»(*<)-?(*<)!.

 

(2.25)

 

X

-------

 

 

 

 

Л ч )- * ( « .,)

, ?

A«+ I

 

о

2

(2.26)

2C5

+

 

 

 

где i= 1, 2, . .

M.

для

дырок b(Xi)

и электронов

Плотности

токов

jn(Xi) в выражениях

(2.24) —(2.26) соответственно рав­

ны

 

 

 

 

 

 

Jp (х д ^

qNvPp (Xi) Fp (Xi) X

 

 

у Ы*|)— <?P(xi-i))bxi4.i/&xi+ (vp(xi+i)-fp(xi)) &xj/hxi+\_'

 

 

AXI +

Ддс»+1

 

(2.27)

 

 

 

 

 

 

jn (-Xi) = — qN#n (xi) Fn (Xi) X

 

 

\ / (Уд (лс/)— ?/t ( X j - i ) ) b X { + i / b X i

+

(?Я (**+i)

( X j ) A x t / b x t + i ^

S '

 

b X l - { - & X i + i

 

(2.28)

 

 

 

 

 

 

Таким образом, вместо дифференциальных уравне­ ний в частных производных (2.5) —(2.7) получили систе­ му из 3М обыкновенных нелинейных дифференциальных уравнений относительно переменных ф Р (Х г), dq)P(Xi)/dt,

.ф п (^ г ), dq>n(Xi)/dt, <p(*t), dyiXi)/dt при i= 1, 2, ..., М. Если приложены напряжения UDи UK, то граничные

условия

для системы ,(2.24)—*(2.26) имеют

вид

 

 

 

<Рр (ЛСо) — Trt (*.) =

Ua,

 

 

(2.29)

 

 

9р (хм) = <рп (хм) = и к,

 

 

(2.30)

 

 

9р (Xj) =

О, X/ =

Хб,

 

 

(2.31)

NvFp[<рр (х,),

9 (х,)] — N CF„ [<fnfa),

<f(х,)] +

N (x.) = 0,

где i = 0, M.

 

 

 

 

 

(2.32)

 

 

 

 

 

 

Если плотность тока через контакт (например,

эмиттерный) задана, то граничное условие

имеет вид

'.Ю = Ы * .)+ М * о )

. d Г

У (-« 0 —

У (дсо) '

(2.33)

dt [

Axi

 

Заметим,

что

уравнения

(2.24) — (2.28)

и

граничные

условия

(2.29) — (2.33) являются математическим описа­

нием эквивалентной электрической цепи (рис. 1.11), рассмотренной в § 1.4.

Сформулированная задача характеризуется двумя особенностями.

il. Из-за большой разницы в значениях концентраций дырок и электронов в диффузионных областях прибора система уравнений :(2.24)—.(2.28) отличается сильной нелинейностью и имеет значительный разброс постоян­ ных времени.

2.Система уравнений (2.24) —(2.28), помимо обыкно­

венных дифференциальных уравнений (2.24) —(2.25),

содержит также н алгебраические уравнения

(2.26) —

(2.28).

 

Перепишем систему уравнений (2.24)—(2.28) в век­

торной форме

 

ф(1 я, 0 = 0,

(2.34)

где £ — вектор, компонентами которого являются значе­ ния переменных фР, <рп и <р для точек разбиения струк­ туры; \= d \fd l— вектор производных.

Решение систем дифференциально-алгебраических уравнений осуществляется на ЭЦВМ с помощью неяв­ ных методов численного интегрирования. Для сформу­ лированной задачи наиболее эффективными являются методы, изложенные в [11—14].

Рассмотрим неявный разностный метод интегрирования первого порядка 114]. В этом методе на каждом г-шаге интегрирования для

определения векторов | fr)

и £(г> необходимо

решать

систему урав­

нений

 

 

 

|(г + 1) — |(г) __ |<г+о/, = о.

)

(2.35а)

ф (|(г+1),

£(г+ О, /<г+ 0) = о,

J

(2.356)

где h — шаг интегрирования по времени.

Суть метода заключается в использовании одной ныотон итерации для решения системы :(2.34).

Пусть |(г+ 0 и |(r+i) — начальные приближения векторов |<r+l) и

£(г+0. Обозначим

 

Д = £(r+1) —‘|(Нм); Д' = |(г + 1) —gcr+i).

(2.36)

А = дФ/ag; В = дФ/дЪ; С = Ф (|(г+г), f(r+i). *<г+1))

(2.37)

Линеаризуем функцию Ф относительно поправок А и Д':

 

 

(2.38)

57

В качестве начального приближения векторов

|<г+|) и £(г+1> вычис­

лим прогноз по формуле Эйлера

 

 

|(r + i)==g(r)+4<r)Af

1

(2.39а)

|( г + 0 = |( г ) .

/

(2.396)

Вычитая (2.39а) из (2.35а), найдем зависимость между А и А':

Д = ЛД'

(2.40)

Подставив (2.40) в (2.38), получим выражение для поправки по производным

A '=-i(A h + B)-'C.

(2.41)

Затем из выражения (2.40) находим А, а из (2.36) — скорректиро­

ванные значения £(г+1> и | (г+1). После этого можно переходить к следующему шагу.

Рис. 2.4. Переходный процесс для тока коллектора при включе­ нии (а) и выключении (б) одномерной транзисторной структуры пе­

репадами напряжения с различной длительностью фронта (т„ =

= 0,1 нс).

Погрешность в решении на каждом шаге оценивается по норме вектора ||А||. Это позволяет при заданной величине погрешности б вести процесс интегрирования с автоматическим выбором шага (15]. Шаг выбирается таким образом, чтобы удовлетворить условию

6>IIA||.

Внешние электрические характеристики, рассчитан­ ные описанным методом для одномерной транзисторной структуры рис. 2.2, приведены на рис. 2.4. На этом рисун­ ке показаны зависимости от времени тока коллектора при включении и выключении одномерной транзистор­ ной структуры перепадами напряжения с различной дли­ тельностью фронта.

Мы рассмотрели обычную разностную аппроксима­ цию уравнений (2.1) —(2.7), при которой каждая прост­ ранственная ячейка характеризуется тремя переменны­ ми фр, ф„ и ф. Этому рассмотрению свойственна относи­ тельная простота при формировании разностной систе­ мы уравнений и возможность решать задачу методами теории электрических цепей с помощью автоматизиро­ ванных программ анализа. Основной недостаток — боль­ шая размерность системы разностных уравнений, рав­ ная 3М.

Важнейшими требованиями, предъявляемыми к про­ граммам анализа полупроводниковых .приборов, явля­ ются их экономичность по объему занимаемой памяти ЭВМ и затратам машинного времени. По этим показа­ телям предпочтительнее метод, в котором каждая ячей­ ка пространственного разбиения структуры характеризу­ ется только двумя переменными: концентрацией дырок/? и напряженностью электрического поля Е [16]. Метод состоит в том, что концентрация электронов п исключа­ ется из одномерной системы уравнений (1.4) —(1.9) с по­ мощью уравнения Пуассона, записанного в виде

Л (X) = p (x )+ N (х) - (е/0 (дЕ/дх).

(2.42)

Тогда выражение для плотности электронного тока мож­ но переписать

/• W = (*) Е{х) [р (*) + N (х) — ~ Щ +

(2.43)

Плотность дырочного тока является функцией перемен­ ных р п Е:

ip (х) =

<7|Ар (я) рЕ — qDp (др/дх).

(2.44)

В результате уравнение непрерывности для Дырок

 

4 г

= - т - з г - * ю

<2-45>

дЕ

(2.46)

dt —~ (/ ip in)

могут быть решены относительно р{х, t) и Е(х, t). Если к контактам транзисторной структуры приложены на­ пряжения U Q и U к, то граничные условия выглядят сле­ дующим образом:

Л'б

и, = - ея [п (0)] + и [а (Лй)] + J Е (л) dx, (2.47)

о

[/K= -^[№ (.vK)]4-E [//(x6) ] - j E{x)dx.

(2.48)

Зависимость между концентрацией электронов и хи­ мическим потенциалом gn в выражениях (2.47), (2.48) задается интегралом Ферми

n = Nc

2

г

у /2 dv)

(2.49)

Уъ

J

ехр — (|п/«Р7’)]

о

Задача решается следующим образом. Пространст­ венный интервал 0 —хк разбивается на М подынтервал лов (рис. 2.4). Неизвестные величины р вычисляются

.в центрах ячеек, а Е —на их границах и представляют­ ся в виде векторов

+ ^ ) ] ’

<25°}

Е = [Е (xl), Е (х,),.... Е (хм_,)].

(2.51)

Значения pt=p(0) и рм = р (х к) на границах структуры определяются из условия электронейтральности на оми­ ческих контактах

dE/dx = (q/e) (р п -\-N) = 0.

В соответствии с пространственным разбиением преоб­ разуем (2.45) и (2.46) к (2М—1) уравнениям с (2М—1)

60

Соседние файлы в папке книги